JPS5817589A - 磁気バブルメモリ素子 - Google Patents

磁気バブルメモリ素子

Info

Publication number
JPS5817589A
JPS5817589A JP56113723A JP11372381A JPS5817589A JP S5817589 A JPS5817589 A JP S5817589A JP 56113723 A JP56113723 A JP 56113723A JP 11372381 A JP11372381 A JP 11372381A JP S5817589 A JPS5817589 A JP S5817589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
conductor pattern
permalloy
magnetic bubble
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56113723A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6334556B2 (ja
Inventor
Kazutoshi Yoshida
和俊 吉田
Takuo Okabashi
岡橋 卓夫
Hironori Kondo
裕則 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP56113723A priority Critical patent/JPS5817589A/ja
Publication of JPS5817589A publication Critical patent/JPS5817589A/ja
Publication of JPS6334556B2 publication Critical patent/JPS6334556B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
    • G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
    • G11C19/0875—Organisation of a plurality of magnetic shift registers
    • G11C19/0883—Means for switching magnetic domains from one path into another path, i.e. transfer switches, swap gates or decoders

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気バブルメモリ素子、特にファンクシヨン部
のパルス電磁特性を改善したコンダクタパターンO形状
に関するものである一 −fRにm気バプルメ篭り素子は、チップ上に浄虞され
九パーマーイAターνを外部から印加するa@磁昇によ
り磁化することによって磁気バブルを転送させている。
まえ、この磁気パプルメ49素子は、磁気パズルの転送
以外にも磁気バブルの**、消去、トランス7アインシ
よびトラシス7アアウトなどの機能を有している。そし
て、これら機能はコンダクタと称するアル電二りム中金
などの導体パターンに電流を流し、これによって生じる
局部磁界により磁気バブルを制御することによってそれ
すれの機能を実現させて−る。
これらの機能部において線、パーマ四イパターンとコン
ダクタパターンとの位置関係が極めて重要でhM%特に
トランス7アイシおよびトツシス7アアウト部のように
磁気バブルを移動すゐことを目的とし九横能部にお―で
は、パーマ四イノ(ターンの先端部とコンダクタパター
ンの端部との位置関係が極めて重要となる。一方、−(
−マロイノターンおよびコンダクタパターンのバターy
f/i虞には、本トマスクを利用してAy−ンO露光訃
よび現像を′行な−、その後エツチングによ為方法が一
般的に用いられてい為。壕九、パーマ關イパタ−yとコ
ンダクタパターンとの位置関係は露光時のマスク合わせ
が極めて重要な要因である。しかしながら、前遠しえよ
うにパーマロイパターンの先端部とコンダクタパターン
の端部との位置合わせが重要であるにもかかわらず、パ
ーマロイパターン先端部とコンダクタパターン増部の重
なリニヨ夛、パーマロイパターンがホトマスクを正確に
再現で自ず、その九めに位置関係が大きくずれるという
側照があった。
第11!Imは従来よ)用いられているトランス7アイ
yゲート部のパターン配置を示す千画図である。
同図KThいてh  1 a〜14 m 2 m−2t
 @ 3 h〜3 mはパーマロイパターンであり、4
杜上記パーマロイパメ−y l a〜1櫨、2a−2#
、3a〜3・形成面に層間絶縁属を介して形成されたコ
ンダクタパターンである。
−tt、て、上記パーマロイパターン1am1bsl・
。
1−はメジャループ1の一部を形6、成し、パーマ回イ
パターン2m、2b、2**2シ、1m、lKはマイナ
ループ2の一部を形成している。また、パーマロイパタ
ーンSa18kml[相]線磁気バブルをメジヤループ
1かもマイナループ宜へ移す転送補助ループ3を形成し
、この中でパーマロイバターy3@はマイナループ2の
一部も形成している。
このように構成されたトランスファインダート部にかい
て、トランスファイン動作を行なうときには、回転磁界
IXlによ1磁気バブルがノく−マロイパターン1bK
きたときにコンダクタ・(ターン4に所定のパルス電流
を流し、この磁気バブルをパーマロイパターン3番へ移
す。このトl、)ffンスファインの動作特性でコンダ
クタノ(ターン4とパーマロイパターン3a間のギャッ
プ1が極めて重要であり、製造上のギャップ1の偏差(
/(ラツ午)を小さく抑える必要がある。
と仁ろ−1このギャップ1寸法は、ノ(−マロイパター
ンを作製するときのホトマスクのコンダクタパターン4
に対する位置の間係上あ〉、ホトマスタの位置合わせ寸
法1′と直線関係になら1%/%ことボわかつ九。すな
わち、コンダクタノ(ターν、′1・  −・ 4に/(−11aイパターン用のホトマスクな食わせ九
と亀、パーマロイパターン31の先端部がコンダクタパ
ターン4と重なる場合、つ1117≦Oの場合%10値
はホトマスクの値とパーマロイパターyo寸法ボ等しい
よ5に露光される。しかしながら、コンダクタパターン
4に対してパーマロイパターンsb o*jlllが噛
れるように、つま91〉・とな為ようにマスク合わせ一
行なわれ丸場合。
パーマロイパターンsIIの先端部はホトマスクのパタ
ーンよp%0.5〜LOJI■S*小さくなる。この丸
めKjO値はホトマスタ合わせ精変以上に、変動するこ
とにell、 t、たがってホトマスク合わせ0@11
1iK対してトランスファイン特性の偏差が大―(1に
為というMllがあった。
し−IIL−りτ本発明は、ホトマスク合わせのずれに
対してチップ上のパーマロイパターンとコンダクタパタ
ーンとO位置ずれ、すなわちパーマ費イパターシ先端I
IO寸法変化が少なく、*性優鶴O少愈HAターンll
状を備え電磁気バプルメ49素子をII償す為ことを1
的としている。
以下■爾を用いて本発明の実権例を詳細K11llす為
。
まず1本発明の実検f14t−説明する以前に本発―の
理解を害鳥にする九めにパーマロイパターンとコンダク
タパターンとの位置ずれの発生層11について説明する
。゛すなわち、前述しえようにパーi目イパターyの先
端部がコンダクタパターンから離れてマスク合わせされ
た場合、チップ上のパーマロイパターンの先端部よりも
(L5〜1.OjmlilF小さくなるということKあ
る。この原因は、コンダクタパターンが層間絶縁属を介
して形成されていることからパーマロイパターyK段差
が生じてい為ことKm係している。すなわち第1図に示
し九トツシスファインゲート部の新面は%まずコンダク
タパターン4があシ、この上11に図示しない8103
などの層間絶縁属をスベーナとして形威し。
さらにこO上面にパーマロイ属を菖蕾などによ)形威す
為。そして、乙のパーマ田イ膜にホトレジストを塗布し
、マスクを用いて露光す為。ところが、コンダタタパタ
ー740属厚はl10.4am@吹でh為ので、し九が
って、コン〆タタパターν4が形成されている部分と、
コνダタタノ(!−ν4が形成されて%A″&い部分と
で段差が生じることになる。そして、この段差はそのま
まパーマロイ膜に%残り、壜た、ホトレジストにも残る
。コノ九め、ホトマスクをホトレジスト材に書着させ九
場舎、ツンダタタAターν40あゐ部分はホトレジスト
とホトマスクとが密菅すゐが、コンダクタパター74M
1に%/%部分は上記段差のために間隙が生ずる。そし
て、このパーマロイ膜を露光すると亀、ツンダ、タタA
ターy4の壜い部分では、この陽隙〇九め、光01l)
迅みが生じ、ホトレジストへのパターンの領写が不十分
とをヤ、その結果、形成され九パターンが細(なるとい
う現象が生じる。
し丸がって1本発明はこのよう壜欠点く対処す為丸めg
:lyダタタパターンの形状に改善を行なり九%O″I
Fある。
嬉意園は本実@によ為磁気パプルメ篭り素子の一例を讃
−す1九めOトランスファインゲート部の第1−Kll
!lす為平面図であり、第1図と同葡号は同一要素とな
為Oでその説明は省略する。第1−Kかいて、Sa第i
llに示し九コyダタタパターy4と同等0横能を有す
るコンダクタパターンでアll、このコンダクタノ(タ
ーンsKは、パーマ田イノ(ターン3aO長さ方向に延
在する方向にこの/(Yロイパターン3aのパターン幅
よ)%幅が広い突出部5aが形成され、この突出部5a
はパーマ四イパターン3aの先端部に図示しない層間絶
縁膜を介して重畳して構成されている。
このような構成によれば、コンダクタパターンiとO位
置関係が重要なパーfft1イノ(ターン31の先端部
は、マスク合わせがずれても常にコンダクタパターン箇
の突出部5aと重なってかり、前述しえようにコンダク
タパターン@O段差によるホトマスクの密着下風による
)(−マロイパターν3&の先端部が小さく壜るという
間WRが改善されるととになゐ。
一方、トランスファインゲート011fIIKついて考
慮すると、このコンダクタパターン蕩0@崗郁Saは特
性に与えゐ彰響は極めて小1!i匹。このトランスファ
インゲートは、 WffloAルス電謔によ)Ilfi
バブルをパーマ四イパターy1bの位置からパー!璽イ
パターン3aK移すのに必要なことは、コンダクタパタ
ーンIK流したパルス電IIの作為磁界である。このた
め、同図に示しえように=*yダタタパターンSK突出
部Saを設けて  ′%、iiもKmパーマーイパター
ン310食長の長さまで置けてもζOX出部5aKsi
れゐ電流はほとんど會(、第1IIのコンダクタパター
ン4と。
第雪−で示し大事発明のコンダクタパターンSK   
l電流を、滝し丸場舎に生じる磁界分布は燻ぼ同等とな
る。し九−って、トランスファインダー電流滝4111
1EK与えゐ―響は無視することがで自ることに1&為
。
1にシ、上記夷總飼においては、トランスファインゲー
ト部に本発明を適用し丸場合について説―し九が1本尭
fI紘これIICIII定され為ものではなく、  ・
:1y〆タタパターンに電流を流し、磁気バブルを  
1パー!胃イパターンの先端部へ移す横−を有す為部分
1例え式トランスファアウトゲート、レプリケートダー
ト、スフツブゲートなどに適用してもそown作原職か
らして前述と愈〈閂VSO効果−IIA4られることは
明らかである。
以上説明したように本発明によれば、コンダクタパター
ンにパーマロイパターンの先端部と重畳する突出部を設
けたことによって、マスク合わせずれが生じても特性偏
差の極めて少ない磁気バブルメモリ素子を生産性良く得
られるという極めて優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の磁気バブルメモリ素子のトランスファイ
ゲート部を示す平面図、第2図は本発明による磁気バブ
ルメモリ素子の一例を示すトランスファインゲート部の
平面図である。 1@・・・メジャループh la〜1d・・−・パーマ
四イパターン、2・・・・マイナル−ニア’、2a〜2
f ・−−φパ++f四4 パターン、3・・・・@a
twmループ%3a〜3・e@・・パーマW(パターン
、5・・・・コンダクタパターン、sa ・−・・突出
部。 第1WA 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)パーマロイパターンからなる磁気バブル転送路に
    コンダタタパターンを縮合させ、該コンダクタパターν
    に電流を流すことによって磁気バブル會制御す為礁気バ
    プルメ鳴り素子において、餉記コνダタタパターンに、
    鉤1lIi5磁気バブル転通補助用パーマ璽イパターン
    の長さ方向と重畳する央出部を設けえことを特徴とする
    磁気バブルメ4亨素子。 (至)鎗ex出S辻餉記コンダタタパターンの幅よりも
    幅広く設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の磁気パプルメモリ素子。
JP56113723A 1981-07-22 1981-07-22 磁気バブルメモリ素子 Granted JPS5817589A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56113723A JPS5817589A (ja) 1981-07-22 1981-07-22 磁気バブルメモリ素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56113723A JPS5817589A (ja) 1981-07-22 1981-07-22 磁気バブルメモリ素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5817589A true JPS5817589A (ja) 1983-02-01
JPS6334556B2 JPS6334556B2 (ja) 1988-07-11

Family

ID=14619503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56113723A Granted JPS5817589A (ja) 1981-07-22 1981-07-22 磁気バブルメモリ素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5817589A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6334556B2 (ja) 1988-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4470873A (en) Method of manufacturing magnetic sensor comprising at least two magnetoresistive elements
US4685014A (en) Production method of thin film magnetic head
JPS56162747A (en) Mask for exposure to light
JPS58128017A (ja) 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
JPS6334556B2 (ja)
JPH03132909A (ja) レジストパターンの形成方法
JPH04129016A (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPS5917094U (ja) 磁気バブルメモリ素子
JPS6145407A (ja) 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法
JP2654147B2 (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPS5857728A (ja) イオンミ−リングによるパタ−ン形成方法
JPS58178552A (ja) リ−ドオンリ−メモリの製造方法
JPS5952856A (ja) マイクロ波集積回路
JPH0289208A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPS6180835A (ja) 半導体装置
JPH01279408A (ja) 薄膜磁気ヘッドのコイル形成方法
JPS58141391A (ja) シヤドウマスクの製造方法
JPS62114187A (ja) 磁気バブルメモリ
JPS57188883A (en) Formation of recess-type micro-multilayer gate electrode
JPS5858746A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS625242A (ja) レチクル
JPS59165220A (ja) 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
JPS60224227A (ja) レジスト膜のパタ−ン形成方法
JPS59181621A (ja) エツチング量制御方法
JPS6088473A (ja) 半導体装置