JPS5817589A - 磁気バブルメモリ素子 - Google Patents
磁気バブルメモリ素子Info
- Publication number
- JPS5817589A JPS5817589A JP56113723A JP11372381A JPS5817589A JP S5817589 A JPS5817589 A JP S5817589A JP 56113723 A JP56113723 A JP 56113723A JP 11372381 A JP11372381 A JP 11372381A JP S5817589 A JPS5817589 A JP S5817589A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- conductor pattern
- permalloy
- magnetic bubble
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
- G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
- G11C19/0875—Organisation of a plurality of magnetic shift registers
- G11C19/0883—Means for switching magnetic domains from one path into another path, i.e. transfer switches, swap gates or decoders
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気バブルメモリ素子、特にファンクシヨン部
のパルス電磁特性を改善したコンダクタパターンO形状
に関するものである一 −fRにm気バプルメ篭り素子は、チップ上に浄虞され
九パーマーイAターνを外部から印加するa@磁昇によ
り磁化することによって磁気バブルを転送させている。
のパルス電磁特性を改善したコンダクタパターンO形状
に関するものである一 −fRにm気バプルメ篭り素子は、チップ上に浄虞され
九パーマーイAターνを外部から印加するa@磁昇によ
り磁化することによって磁気バブルを転送させている。
まえ、この磁気パプルメ49素子は、磁気パズルの転送
以外にも磁気バブルの**、消去、トランス7アインシ
よびトラシス7アアウトなどの機能を有している。そし
て、これら機能はコンダクタと称するアル電二りム中金
などの導体パターンに電流を流し、これによって生じる
局部磁界により磁気バブルを制御することによってそれ
すれの機能を実現させて−る。
以外にも磁気バブルの**、消去、トランス7アインシ
よびトラシス7アアウトなどの機能を有している。そし
て、これら機能はコンダクタと称するアル電二りム中金
などの導体パターンに電流を流し、これによって生じる
局部磁界により磁気バブルを制御することによってそれ
すれの機能を実現させて−る。
これらの機能部において線、パーマ四イパターンとコン
ダクタパターンとの位置関係が極めて重要でhM%特に
トランス7アイシおよびトツシス7アアウト部のように
磁気バブルを移動すゐことを目的とし九横能部にお―で
は、パーマ四イノ(ターンの先端部とコンダクタパター
ンの端部との位置関係が極めて重要となる。一方、−(
−マロイノターンおよびコンダクタパターンのバターy
f/i虞には、本トマスクを利用してAy−ンO露光訃
よび現像を′行な−、その後エツチングによ為方法が一
般的に用いられてい為。壕九、パーマ關イパタ−yとコ
ンダクタパターンとの位置関係は露光時のマスク合わせ
が極めて重要な要因である。しかしながら、前遠しえよ
うにパーマロイパターンの先端部とコンダクタパターン
の端部との位置合わせが重要であるにもかかわらず、パ
ーマロイパターン先端部とコンダクタパターン増部の重
なリニヨ夛、パーマロイパターンがホトマスクを正確に
再現で自ず、その九めに位置関係が大きくずれるという
側照があった。
ダクタパターンとの位置関係が極めて重要でhM%特に
トランス7アイシおよびトツシス7アアウト部のように
磁気バブルを移動すゐことを目的とし九横能部にお―で
は、パーマ四イノ(ターンの先端部とコンダクタパター
ンの端部との位置関係が極めて重要となる。一方、−(
−マロイノターンおよびコンダクタパターンのバターy
f/i虞には、本トマスクを利用してAy−ンO露光訃
よび現像を′行な−、その後エツチングによ為方法が一
般的に用いられてい為。壕九、パーマ關イパタ−yとコ
ンダクタパターンとの位置関係は露光時のマスク合わせ
が極めて重要な要因である。しかしながら、前遠しえよ
うにパーマロイパターンの先端部とコンダクタパターン
の端部との位置合わせが重要であるにもかかわらず、パ
ーマロイパターン先端部とコンダクタパターン増部の重
なリニヨ夛、パーマロイパターンがホトマスクを正確に
再現で自ず、その九めに位置関係が大きくずれるという
側照があった。
第11!Imは従来よ)用いられているトランス7アイ
yゲート部のパターン配置を示す千画図である。
yゲート部のパターン配置を示す千画図である。
同図KThいてh 1 a〜14 m 2 m−2t
@ 3 h〜3 mはパーマロイパターンであり、4
杜上記パーマロイパメ−y l a〜1櫨、2a−2#
、3a〜3・形成面に層間絶縁属を介して形成されたコ
ンダクタパターンである。
@ 3 h〜3 mはパーマロイパターンであり、4
杜上記パーマロイパメ−y l a〜1櫨、2a−2#
、3a〜3・形成面に層間絶縁属を介して形成されたコ
ンダクタパターンである。
−tt、て、上記パーマロイパターン1am1bsl・
。
。
1−はメジャループ1の一部を形6、成し、パーマ回イ
パターン2m、2b、2**2シ、1m、lKはマイナ
ループ2の一部を形成している。また、パーマロイパタ
ーンSa18kml[相]線磁気バブルをメジヤループ
1かもマイナループ宜へ移す転送補助ループ3を形成し
、この中でパーマロイバターy3@はマイナループ2の
一部も形成している。
パターン2m、2b、2**2シ、1m、lKはマイナ
ループ2の一部を形成している。また、パーマロイパタ
ーンSa18kml[相]線磁気バブルをメジヤループ
1かもマイナループ宜へ移す転送補助ループ3を形成し
、この中でパーマロイバターy3@はマイナループ2の
一部も形成している。
このように構成されたトランスファインダート部にかい
て、トランスファイン動作を行なうときには、回転磁界
IXlによ1磁気バブルがノく−マロイパターン1bK
きたときにコンダクタ・(ターン4に所定のパルス電流
を流し、この磁気バブルをパーマロイパターン3番へ移
す。このトl、)ffンスファインの動作特性でコンダ
クタノ(ターン4とパーマロイパターン3a間のギャッ
プ1が極めて重要であり、製造上のギャップ1の偏差(
/(ラツ午)を小さく抑える必要がある。
て、トランスファイン動作を行なうときには、回転磁界
IXlによ1磁気バブルがノく−マロイパターン1bK
きたときにコンダクタ・(ターン4に所定のパルス電流
を流し、この磁気バブルをパーマロイパターン3番へ移
す。このトl、)ffンスファインの動作特性でコンダ
クタノ(ターン4とパーマロイパターン3a間のギャッ
プ1が極めて重要であり、製造上のギャップ1の偏差(
/(ラツ午)を小さく抑える必要がある。
と仁ろ−1このギャップ1寸法は、ノ(−マロイパター
ンを作製するときのホトマスクのコンダクタパターン4
に対する位置の間係上あ〉、ホトマスタの位置合わせ寸
法1′と直線関係になら1%/%ことボわかつ九。すな
わち、コンダクタノ(ターν、′1・ −・ 4に/(−11aイパターン用のホトマスクな食わせ九
と亀、パーマロイパターン31の先端部がコンダクタパ
ターン4と重なる場合、つ1117≦Oの場合%10値
はホトマスクの値とパーマロイパターyo寸法ボ等しい
よ5に露光される。しかしながら、コンダクタパターン
4に対してパーマロイパターンsb o*jlllが噛
れるように、つま91〉・とな為ようにマスク合わせ一
行なわれ丸場合。
ンを作製するときのホトマスクのコンダクタパターン4
に対する位置の間係上あ〉、ホトマスタの位置合わせ寸
法1′と直線関係になら1%/%ことボわかつ九。すな
わち、コンダクタノ(ターν、′1・ −・ 4に/(−11aイパターン用のホトマスクな食わせ九
と亀、パーマロイパターン31の先端部がコンダクタパ
ターン4と重なる場合、つ1117≦Oの場合%10値
はホトマスクの値とパーマロイパターyo寸法ボ等しい
よ5に露光される。しかしながら、コンダクタパターン
4に対してパーマロイパターンsb o*jlllが噛
れるように、つま91〉・とな為ようにマスク合わせ一
行なわれ丸場合。
パーマロイパターンsIIの先端部はホトマスクのパタ
ーンよp%0.5〜LOJI■S*小さくなる。この丸
めKjO値はホトマスタ合わせ精変以上に、変動するこ
とにell、 t、たがってホトマスク合わせ0@11
1iK対してトランスファイン特性の偏差が大―(1に
為というMllがあった。
ーンよp%0.5〜LOJI■S*小さくなる。この丸
めKjO値はホトマスタ合わせ精変以上に、変動するこ
とにell、 t、たがってホトマスク合わせ0@11
1iK対してトランスファイン特性の偏差が大―(1に
為というMllがあった。
し−IIL−りτ本発明は、ホトマスク合わせのずれに
対してチップ上のパーマロイパターンとコンダクタパタ
ーンとO位置ずれ、すなわちパーマ費イパターシ先端I
IO寸法変化が少なく、*性優鶴O少愈HAターンll
状を備え電磁気バプルメ49素子をII償す為ことを1
的としている。
対してチップ上のパーマロイパターンとコンダクタパタ
ーンとO位置ずれ、すなわちパーマ費イパターシ先端I
IO寸法変化が少なく、*性優鶴O少愈HAターンll
状を備え電磁気バプルメ49素子をII償す為ことを1
的としている。
以下■爾を用いて本発明の実権例を詳細K11llす為
。
。
まず1本発明の実検f14t−説明する以前に本発―の
理解を害鳥にする九めにパーマロイパターンとコンダク
タパターンとの位置ずれの発生層11について説明する
。゛すなわち、前述しえようにパーi目イパターyの先
端部がコンダクタパターンから離れてマスク合わせされ
た場合、チップ上のパーマロイパターンの先端部よりも
(L5〜1.OjmlilF小さくなるということKあ
る。この原因は、コンダクタパターンが層間絶縁属を介
して形成されていることからパーマロイパターyK段差
が生じてい為ことKm係している。すなわち第1図に示
し九トツシスファインゲート部の新面は%まずコンダク
タパターン4があシ、この上11に図示しない8103
などの層間絶縁属をスベーナとして形威し。
理解を害鳥にする九めにパーマロイパターンとコンダク
タパターンとの位置ずれの発生層11について説明する
。゛すなわち、前述しえようにパーi目イパターyの先
端部がコンダクタパターンから離れてマスク合わせされ
た場合、チップ上のパーマロイパターンの先端部よりも
(L5〜1.OjmlilF小さくなるということKあ
る。この原因は、コンダクタパターンが層間絶縁属を介
して形成されていることからパーマロイパターyK段差
が生じてい為ことKm係している。すなわち第1図に示
し九トツシスファインゲート部の新面は%まずコンダク
タパターン4があシ、この上11に図示しない8103
などの層間絶縁属をスベーナとして形威し。
さらにこO上面にパーマロイ属を菖蕾などによ)形威す
為。そして、乙のパーマ田イ膜にホトレジストを塗布し
、マスクを用いて露光す為。ところが、コンダタタパタ
ー740属厚はl10.4am@吹でh為ので、し九が
って、コン〆タタパターν4が形成されている部分と、
コνダタタノ(!−ν4が形成されて%A″&い部分と
で段差が生じることになる。そして、この段差はそのま
まパーマロイ膜に%残り、壜た、ホトレジストにも残る
。コノ九め、ホトマスクをホトレジスト材に書着させ九
場舎、ツンダタタAターν40あゐ部分はホトレジスト
とホトマスクとが密菅すゐが、コンダクタパター74M
1に%/%部分は上記段差のために間隙が生ずる。そし
て、このパーマロイ膜を露光すると亀、ツンダ、タタA
ターy4の壜い部分では、この陽隙〇九め、光01l)
迅みが生じ、ホトレジストへのパターンの領写が不十分
とをヤ、その結果、形成され九パターンが細(なるとい
う現象が生じる。
為。そして、乙のパーマ田イ膜にホトレジストを塗布し
、マスクを用いて露光す為。ところが、コンダタタパタ
ー740属厚はl10.4am@吹でh為ので、し九が
って、コン〆タタパターν4が形成されている部分と、
コνダタタノ(!−ν4が形成されて%A″&い部分と
で段差が生じることになる。そして、この段差はそのま
まパーマロイ膜に%残り、壜た、ホトレジストにも残る
。コノ九め、ホトマスクをホトレジスト材に書着させ九
場舎、ツンダタタAターν40あゐ部分はホトレジスト
とホトマスクとが密菅すゐが、コンダクタパター74M
1に%/%部分は上記段差のために間隙が生ずる。そし
て、このパーマロイ膜を露光すると亀、ツンダ、タタA
ターy4の壜い部分では、この陽隙〇九め、光01l)
迅みが生じ、ホトレジストへのパターンの領写が不十分
とをヤ、その結果、形成され九パターンが細(なるとい
う現象が生じる。
し丸がって1本発明はこのよう壜欠点く対処す為丸めg
:lyダタタパターンの形状に改善を行なり九%O″I
Fある。
:lyダタタパターンの形状に改善を行なり九%O″I
Fある。
嬉意園は本実@によ為磁気パプルメ篭り素子の一例を讃
−す1九めOトランスファインゲート部の第1−Kll
!lす為平面図であり、第1図と同葡号は同一要素とな
為Oでその説明は省略する。第1−Kかいて、Sa第i
llに示し九コyダタタパターy4と同等0横能を有す
るコンダクタパターンでアll、このコンダクタノ(タ
ーンsKは、パーマ田イノ(ターン3aO長さ方向に延
在する方向にこの/(Yロイパターン3aのパターン幅
よ)%幅が広い突出部5aが形成され、この突出部5a
はパーマ四イパターン3aの先端部に図示しない層間絶
縁膜を介して重畳して構成されている。
−す1九めOトランスファインゲート部の第1−Kll
!lす為平面図であり、第1図と同葡号は同一要素とな
為Oでその説明は省略する。第1−Kかいて、Sa第i
llに示し九コyダタタパターy4と同等0横能を有す
るコンダクタパターンでアll、このコンダクタノ(タ
ーンsKは、パーマ田イノ(ターン3aO長さ方向に延
在する方向にこの/(Yロイパターン3aのパターン幅
よ)%幅が広い突出部5aが形成され、この突出部5a
はパーマ四イパターン3aの先端部に図示しない層間絶
縁膜を介して重畳して構成されている。
このような構成によれば、コンダクタパターンiとO位
置関係が重要なパーfft1イノ(ターン31の先端部
は、マスク合わせがずれても常にコンダクタパターン箇
の突出部5aと重なってかり、前述しえようにコンダク
タパターン@O段差によるホトマスクの密着下風による
)(−マロイパターν3&の先端部が小さく壜るという
間WRが改善されるととになゐ。
置関係が重要なパーfft1イノ(ターン31の先端部
は、マスク合わせがずれても常にコンダクタパターン箇
の突出部5aと重なってかり、前述しえようにコンダク
タパターン@O段差によるホトマスクの密着下風による
)(−マロイパターν3&の先端部が小さく壜るという
間WRが改善されるととになゐ。
一方、トランスファインゲート011fIIKついて考
慮すると、このコンダクタパターン蕩0@崗郁Saは特
性に与えゐ彰響は極めて小1!i匹。このトランスファ
インゲートは、 WffloAルス電謔によ)Ilfi
バブルをパーマ四イパターy1bの位置からパー!璽イ
パターン3aK移すのに必要なことは、コンダクタパタ
ーンIK流したパルス電IIの作為磁界である。このた
め、同図に示しえように=*yダタタパターンSK突出
部Saを設けて ′%、iiもKmパーマーイパター
ン310食長の長さまで置けてもζOX出部5aKsi
れゐ電流はほとんど會(、第1IIのコンダクタパター
ン4と。
慮すると、このコンダクタパターン蕩0@崗郁Saは特
性に与えゐ彰響は極めて小1!i匹。このトランスファ
インゲートは、 WffloAルス電謔によ)Ilfi
バブルをパーマ四イパターy1bの位置からパー!璽イ
パターン3aK移すのに必要なことは、コンダクタパタ
ーンIK流したパルス電IIの作為磁界である。このた
め、同図に示しえように=*yダタタパターンSK突出
部Saを設けて ′%、iiもKmパーマーイパター
ン310食長の長さまで置けてもζOX出部5aKsi
れゐ電流はほとんど會(、第1IIのコンダクタパター
ン4と。
第雪−で示し大事発明のコンダクタパターンSK
l電流を、滝し丸場舎に生じる磁界分布は燻ぼ同等とな
る。し九−って、トランスファインダー電流滝4111
1EK与えゐ―響は無視することがで自ることに1&為
。
l電流を、滝し丸場舎に生じる磁界分布は燻ぼ同等とな
る。し九−って、トランスファインダー電流滝4111
1EK与えゐ―響は無視することがで自ることに1&為
。
1にシ、上記夷總飼においては、トランスファインゲー
ト部に本発明を適用し丸場合について説―し九が1本尭
fI紘これIICIII定され為ものではなく、 ・
:1y〆タタパターンに電流を流し、磁気バブルを
1パー!胃イパターンの先端部へ移す横−を有す為部分
1例え式トランスファアウトゲート、レプリケートダー
ト、スフツブゲートなどに適用してもそown作原職か
らして前述と愈〈閂VSO効果−IIA4られることは
明らかである。
ト部に本発明を適用し丸場合について説―し九が1本尭
fI紘これIICIII定され為ものではなく、 ・
:1y〆タタパターンに電流を流し、磁気バブルを
1パー!胃イパターンの先端部へ移す横−を有す為部分
1例え式トランスファアウトゲート、レプリケートダー
ト、スフツブゲートなどに適用してもそown作原職か
らして前述と愈〈閂VSO効果−IIA4られることは
明らかである。
以上説明したように本発明によれば、コンダクタパター
ンにパーマロイパターンの先端部と重畳する突出部を設
けたことによって、マスク合わせずれが生じても特性偏
差の極めて少ない磁気バブルメモリ素子を生産性良く得
られるという極めて優れた効果を有する。
ンにパーマロイパターンの先端部と重畳する突出部を設
けたことによって、マスク合わせずれが生じても特性偏
差の極めて少ない磁気バブルメモリ素子を生産性良く得
られるという極めて優れた効果を有する。
第1図は従来の磁気バブルメモリ素子のトランスファイ
ゲート部を示す平面図、第2図は本発明による磁気バブ
ルメモリ素子の一例を示すトランスファインゲート部の
平面図である。 1@・・・メジャループh la〜1d・・−・パーマ
四イパターン、2・・・・マイナル−ニア’、2a〜2
f ・−−φパ++f四4 パターン、3・・・・@a
twmループ%3a〜3・e@・・パーマW(パターン
、5・・・・コンダクタパターン、sa ・−・・突出
部。 第1WA 第2図
ゲート部を示す平面図、第2図は本発明による磁気バブ
ルメモリ素子の一例を示すトランスファインゲート部の
平面図である。 1@・・・メジャループh la〜1d・・−・パーマ
四イパターン、2・・・・マイナル−ニア’、2a〜2
f ・−−φパ++f四4 パターン、3・・・・@a
twmループ%3a〜3・e@・・パーマW(パターン
、5・・・・コンダクタパターン、sa ・−・・突出
部。 第1WA 第2図
Claims (1)
- (1)パーマロイパターンからなる磁気バブル転送路に
コンダタタパターンを縮合させ、該コンダクタパターν
に電流を流すことによって磁気バブル會制御す為礁気バ
プルメ鳴り素子において、餉記コνダタタパターンに、
鉤1lIi5磁気バブル転通補助用パーマ璽イパターン
の長さ方向と重畳する央出部を設けえことを特徴とする
磁気バブルメ4亨素子。 (至)鎗ex出S辻餉記コンダタタパターンの幅よりも
幅広く設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の磁気パプルメモリ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56113723A JPS5817589A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 磁気バブルメモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56113723A JPS5817589A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 磁気バブルメモリ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817589A true JPS5817589A (ja) | 1983-02-01 |
| JPS6334556B2 JPS6334556B2 (ja) | 1988-07-11 |
Family
ID=14619503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56113723A Granted JPS5817589A (ja) | 1981-07-22 | 1981-07-22 | 磁気バブルメモリ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817589A (ja) |
-
1981
- 1981-07-22 JP JP56113723A patent/JPS5817589A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6334556B2 (ja) | 1988-07-11 |
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