JPS58183247A - 積層フイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は積層フィルムに関するもので慶、す、史に絆し
くは積層フィルムの基材となるプラスチックフィルムが
透明性に優れ、加工杓の良好な積層フィルムに係る。

ここに積層体とは、基材フィルム上に全域薄膜層と高屈
折率反射防止層とを積層して得られる選択光透過性に優
れたものである。

選択光透過性に優れた積層体は、例えば可視光域の光に
対して透明であるが、赤外光に対しては反射能な有して
いるので、透明断熱膜として有用である。従って太陽エ
ネルギー集＃器（温水器）、太陽熱発電、グリーンハウ
ス、１１築物の窓部、冷蔵冷凍ショーケースなどに使用
され得る。特に近代建簗物において、壁面の大きな割合
を占める慾からの太陽エネルギーの利用し、室内のエネ
ルギー放散を防げる機能な備えた透明断熱窓は今後ます
ます需贅が増大するものである。

更に、例えば、野莱、果実等の栽培に必要なグリーンハ
ウス用積層体の用途もｌｋ業核技術発展から増加するも
のと言われている。

これら積層体が透明断熱膜尋の優れた特性を発揮するた
めには、積層体の基材フィルムとして可視光透明性が良
好でありしかも光透過率が高いことが要求さ第１る。更
にフィルムを扱う場合に、フィルムとフィルムとの閣の
滑り性が良くないとフィルムの巻取りが困難となり、加
工］−程におけるしわの発生等のトラブルを生ずるので
、フィルムの滑り性も併せて要求される。

ところが、これらの基材フィルムとしての費求を同時に
すべて改善することは困難で表、る例えば、透明性・光
透過性を改善するにはフィルム赤面な平滑としフィルム
内部の異物（ｈ加物等）の少ないものとすることが望ま
しか、この結果フィルムの滑り性が低減する。これに対
し、表面の粗いフィルムを用いると、滑り性は改善され
るが、光線が乱反射するようになり、透明性か損われ光
透過性が減少する。従ってフィルムの平滑性と透明性・
光透過性を兼備したフィルムを得ることは二律背反的で
あることがら至難である。―しＩてフィルムの滑り性を
良好に維持するためにフィルムの透明性や元締透過性を
成る程度犠牲にしているのが現状の技術で１　　　　　
ある。

本発明は、このような間馳点を含む積層フィルムについ
て鋭意研究の結果、フィルム赤面に多数のｇＩｉ＃ｌな
突起と皺突起を核とした周囲に窪を禍する二軸配向フィ
ルムは、積層体の基材フィルムとして滑り性と透明性・
光透過性とがいずれも良好なことを見い出して本発明に
到達した。

即ち、本発明は、透明なシート状の基材フィルムの少な
くとも片面に金属薄膜層および嵩屈折率反射層を積層し
てなるｆＩＩ層体であって、基本フィルムでの表面には
突起と該突起の周囲に形成された窪とからなる凹凸を多
数備えていることを％像とする積層フィルムである。

本発明を説明する。従来技術が易滑性のフィルムを得る
ために不活性無機化合物（例えばシリカ、クレイ、チタ
ニア４１Ｉ）や有機化合物（例えばテレフタル酸カルレ
ウム、為融点ポリエステル）を添加するか又は（及び）
触媒残渣を利用して、フィルム表面に突起（凸部）を形
成するに対し、本発明はフィルム表向に凸部と凹部とを
形成させる点に特色がある。本発明のよ５な°突起と鵠
とを備えたものは、突起のみを赤面１コ（１つ従来技術
により祷られるフィルムと比較しで、棒振係数が者しく
低くなり易ｃｄ化効釆が観わねる利点がある。

また本発明によれは、ｒｄり性をａｔ来技術により侍ら
ｉするフィルムと四程度にＦ＆１４ｔＬだ場合、フィル
ムの赤面粗さは１、従来技術によるフィルムｌ／Ｊ　ｆ
ｉ’ｏ粗さに比べ、がなり乎嘴なものが侍らオ・る利点
がある。

本発明の積層体フィルムは結晶性紡口」豫性樹面か一般
に通用できる。例えばポリエステル。

・７−リアミド、＾密度ホリエチレ／Ｉ　フイソタク７
−インクポリプｐピンン等（結晶性を失わない咲り共重
合されていてもよい。）のフィルムが好ましく、特に芳
香族線状ポリニスアル（例えはポリエチレンテレフタレ
ート、ホリエチレ／−２，６−ナフタリンジカルポキシ
レート等）の二軸延伸フィルムが、熱寸法安定性に優れ
、吸湿が少な（加エエ根での増扱いが容易でおる衿の利
点を南するので好ましく・。勿論、鉦モ体や共Ｉｉｌ［
合体は充填剤、顔料着色剤、酸化防止剤。

光安定剤などを拾加することもできる。

本発明のフィルム繰向に形成された突起は、ポリマーに
ｉ加した無機化合物の粒子；ポリマーの重合に際し生成
した不溶性の触媒残渣に基つく粒子；または両者の粒子
の存在による。

本発明にい５矢起の周りに生じた該突起を核として生成
し５る窪とは、従来のエンボス等機械的なスタンプによ
る凹状のものではなく、フィルムを延伸する工程におい
て、フィルム自身の変形によって生じるものである。

粒子を含有した未延伸フィルムな一軸方向に延伸すると
、粒子は変形せずにポリマーが脂性変形するから、大変
形（延伸）に際しポリマーと粒子との境にボイドが生じ
る。このボイドな含むフィルム１、次は一軸延伸方向と
ほぼ直角方向（第二軸方向）Ｋ延伸して二軸配向フィル
ムにすると、−軸延伸時に生じていたボイドは更に第二
軸方向に変形されて、図１−１に示す如く、突起２１の
爛りにボイド２２が擬円形状に形成される。この場合は
図１−２の断面図に示−１如くフィルム表面近傍の浅い
部分に介在する粒子とその周囲のボイドは粒子を核と３
る突起なもたらすが、粒子周囲には窪を形成することは
ない。

本発明は、上記のボイドをフィルム表面の窪に変化させ
たものである。未延伸フィルムを一軸延伸するに際し、
延伸前のフィルムの予備加熱を高い温度に設定するか、
または（及び）延伸培率を低く設定することによって第
一軸延伸な経たフィルムが粒子（無機添加物による外部
核子又は触媒残渣を含む内部粒子）周辺にボイドが実質
的に形成されないようにする。次（・でこの状態の延伸
フィルムを第二軸方向に延伸するとこの第二軸方向に沿
って粒子を核としたフィルムの陥没部分（窪）が形成さ
れる。そして楕内状の団の長径は第二軸方向に沿ったも
のと′　　　　なる。

′　　　　　第一軸延伸に際し、僅かなボイドが粒′子
周辺に形成された場合でもこの粒子を核として擢か生ず
るう 二軸延伸を経たフィルム表面は図２−１（平面図）の如
き状態にあり、第二ｍ延伸が粒子を中心に応力集中され
るような延伸条件であれは陥没部分は応力集中の程度に
応じ【深く窪みかつ第二軸方向に沿って長径が大となる
傾向がある。図２−ｚ（ｉ１面図）は表面近傍のフィル
ム断面を示すものであって、粒子を含む突起２Ｉとその
周辺に形成された窪２４とがポリエステルフィルム２３
に生じる。

本発明では突起の周辺に生じた窪は一二細方向に偏衛し
た擬楕円状のものを包含する。

この際、襖の最も偏寄した長軸な長径と称するとこの槌
の長径は少なくとも４μ−となることが突起を鋭くし、
表面を平滑にすることとなり。

Ｓ層フィルム又は基材フィルムとして優れた性能を付与
することとなる。また、同じ理由で窪（凹凸単位）の数
は５簡／−以上会費である。

また、フィルム表面が平滑化すると滑り性は悪くなると
考えるのが通例だが、上述の窪を有するフィルムはボイ
ドが小さいため、フィルム表面の突起がシャープになり
フィルム対フィルムの接触またはフィルム対金属の接触
時には互（の接触面積を一層減少させることになり、鼻
の接触面積減少効果により滑り性は低減しない。

又、フィルム表面の平滑さはその表面柑さを表２−すＣ
ＬＡ値（中心縁平均粗さ：　ＪＩＢ　ＢＯ６０１）で、
０．０２５μ票以下、好ましくは０．０２０μ電以下が
会費である。

本発明でいう凹凸単位は１個の突起とその周辺の窪どか
らなる。この凹凸単位の大きさ９発生＠度は粒子の種類
、ポリマー中の存在蓋、フ・ｆルムの延伸条件によって
フントロールできる。

本発明の積層体の基材フィルムの具体的な延伸方法な説
明イる。カオリン、シリカ等の平均杓子径が０．０５〜
５μ爪（好ましくは０．３〜３．０μｒｎ）の微細粒子
を０．０１〜０．５０’ｌｉｉ％好ましくは０．Ｏ１〜
０，１０重量％含有した未延伸ポリエステルフィルムを
、第一軸方向に延伸するに際し、８０〜１２０℃に予備
加熱する。この未延伸フィルムを約９０〜１２０℃に予
備加熱する場合には表面がマント加工された硬質クロム
鍍金ロールやセラミック製のロールが好ましい。

未延伸フィルムはｐ−外表面に粘着することなく実質的
な結晶化の起きない条件で所定の予熱温度に違し得る。

勿論非接触的に未延伸フィルムを予備加熱することがで
きる。未延伸フィルムは９０〜１３５℃の温度で３．２
倍以下（好ましくは２．６〜３．２倍）の延伸倍率で延
伸される。

延伸速度は比較的硬い方が好ましく、１５０説／Ｍを越
えない方がよい。通常５０〜＋００＠／ｗｘ程度の延伸
速度を選択し、低迷度の場合には延伸温度をやや低温側
に移すことができる。

次に第二延伸はｍｍ配向フイルムを一層ガラス転移点以
下に冷却するか、又は冷却することなく、１００〜１５
０℃の温度に予備加熱し。

史にほぼ同程度の温度下において絽二軸方向に３．０〜
４．０倍（好すしくけ３．２〜３．８−倍）Ｋ延伸する
。第二軸延伸の温度が高い場合は凹凸単位の窪部の境界
が明瞭となるが、低温では境界が明らかとならない場合
が多い。謔二軸方向の級沖倍岑は凹凸単位の発生頻度に
着しい＃書を及はすことはない。ただ第二軸延伸倍率と
して３゜８倍以上を選択すると、第二軸方向の機械的９
ｉ＃（ヤング率）が第一軸方向の機械的強度に比較して
高くなり所謂テンシライズドフィルムとなり、しかもフ
ィルムの易滑性が低下す４傾向かある。

この二軸延伸フィルムは、もし第一軸方向の機械的強度
が不充分の場合には、この方向に史に１２０〜１７０℃
程度の温度下において、１．２〜１．６倍程度再延伸し
てバランスドフィルムとすることもできる。

２段延伸、要すれば３段延伸を経た二軸配向ポリエステ
ルフィルムは、１８０〜２４０”Ｃ（好ましくは１９０
〜２１０℃）の温度で０．２〜３０秒間程度熱固定を施
すことができる。なお、３段延伸における第３段（第一
軸方向）再延伸は熱固定を経たフィルムに実施すること
も＝ｆ能である。

上記の延伸糸条な適宜組合せることによって、凹凸単位
として適切な頻度を備えた易滑性ポリエステルフィルム
が製造できる。

本発明では第一軸延伸を施す方向は、フィルムの機械方
向でも幅方向でも差支えない。また論二軸延伸方向は第
一軸方向とはば直角であるとよい。勿論史に第−軸方向
及び（又は）第二軸方向に延伸な加える嶌段（多段）延
伸な施すことができる。

このような表−の−を形成する基材フィルムの延伸争件
はフィルム表向を平滑にする効果があり、結果的に、積
層体の基材フィルムとして蒙求される透明性・光透過性
が改良される。なお、上述の如く延伸された配向ポリエ
ステルフィルムは厚さ方向の屈折率（）１）が１．４９
２以上となる。

このようＫして得られた積層体基材フィルムは３〜１０
０μｍの程度の厚さく好ましくは１０〜７５μｍ）のも
のが汎用的である。また基材フィルムは全ヘーズがｓ　
ｏ　ｓｗｔ厚さに換算して５チ以下、好ましくは４チ以
下であることが積層フィルムσ７透明性を良好ならしめ
るために必敦で夛　Ｑｏ 本詭明による積層体の基Ｉフィルムは高透明でｌＪ・つ
フィルム表向が平滑であるため透明性・光透過性に優わ
、更に耐久性に優れることより、熱耐反射剛途に有利に
使われる。それ以外の中通として液晶ディスプレー中電
極ｗＬ場発光体用［惨、光導電性感光体用電極、帯電防
止層ｍ発閏捧婢のエレクトロニクス等の分野にも利用さ
れる。

次に町伏光透過率、平均赤外反射率のＩｔｒ痺方法につ
いて説明する。

＝＝ｆ視光透過軍を求めるには、まず可視光領域４５０
〜７００μ票の透過率をｉｌｌ定り、５０／ｊｆｉ毎に
太陽エネルギー強度と透過率の槓を１算すイ、。その総
和な４５０〜７００μｍでの太吻工不序キー強度の総和
で割ることにより規格化したものが可視光透過率である
。

一方平均赤外反射率を求めるにはます、弄外反引率を３
〜２５μｍの範四で測定する。−力３００″’Ｋ　（２
７℃）の黒体から輻射されるエネルギーを０．２μｍ毎
に求め、それぞれの波長に応じた輻射エネルギーと赤外
−反射率の積を０．２μｍ毎に計算し、３〜２５μ票の
波長領域で総和を求める。そしてその総和を３〜２５μ
ｍ領域の一射エネルギー強腋の総和で割ることにより規
格化したものである。この値は３００°にの黒体から輻
射されるエネルギー（３〜２５μ訊領埴）の反射率を宍
わしている。

３〜２５μ気領竣の輻射エネルギーは３００”Ｋの黒体
輻射エネルギー全体の約８５％に相当する。

本発明における物性測定法は次の通りである。

（１）　　凹凸部分の測定法 フィルム表面に薄くアルミニウム蒸着をしたものを砿分
千渉ｌ！！ｉ微鏡装置（例えばＮ１ｋｏｎ微分干渉顕１
１鏡Ｒ型）を用いて写真撮影し、その大きさをスケール
でＩＩＩ定する。

（２）Ｓ面粗さＣＬＡ 本発明で舊う繰１ｌｆｉ祖さＣＬＡ　（Ｃｅｎｔｅｒ　
ＬｌｎｓＡｖｅｒａｇｅ　）値とは、下記の方法によっ
て測定されたものである、。

粗面化されたフィルムを、例えは東京精密社製触針式課
面粗さｊｔ　（ＳＬＩＲＦＣＯＭ　３Ｂ　）を使用して
、針の半径２μｗＬ、荷菖７０唖の素性で、フィルム粗
さ曲−を求め、これにより測定長さＬ（ｉ準兼２蘭）の
部分を抜き取り、この仏き叡り部分の中心線をＸ＠、＃
倍率の方。向をＹ軸として、粗さ曲線なＹ　＝　ｆ　（
ｘｌで表わした時、次の式で与えられた値をμ単位で六
わ−ｒ。

この測定を８個のサンプルにつ（・て付い、値の大きい
方から３個除外し、５個の平均値で表わす。なお、測定
は縦方向と横方向とにつき行ない、両者を平均した値を
川魚、４゜（３）　　動摩擦係数 Ａ８ＴＭ　Ｄ−１８９４−６３Ｋよる方法によりフィル
ム表面とフィルム裏面？重ねてｉｓ擦させた時の値を測
定する、 １４１ノ日１折本 ７ンペの屈折ｇ１を用いて２５℃で＃］定されるＮａ−
Ｄ線に対する値を測定する。

（５）　　　ヘ　　−　　ズ ＪｌＢＫ−６７１４に従い測定し百分率（％）で表示す
る。

以下、本発明を実施例により更に旺しく貌明する。

実施例１〜５及び比較例１〜３ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料と
して、酢酸マンガンをエステル交換触媒、三酸化７ンチ
モンを重合触媒、亜リン酸を安定剤として用い、常法に
よりポリエチレンテレフタレートを製造した。

その際、エチレングリコール中に、不活性物質として、
シリカまたはクレー、カオリン勢な分散させておくこと
により、ポリマー中に所定量含有せしめた（表−ｓＢ照
）。

得もねたポリエチレンテレフタレートを＋６０゛ＣでＥ
ｊｉ＆したのち２１４０℃で溶融押出し、５０℃に保持
したキャスティングドラム上に急冷固化せしめ６３０μ
重の未延伸フィルムを得た。

引続キ該未延伸フィルムを図３に示した如、く４本の加
熱ローラー３１，３２．３３及び３４で予熱したのち赤
外線ヒーター３８でフィルムを加ｆＩ％Ｌながらローラ
ー３４と＋１−・−３５の間で縦方向に一段延伸をした
。更に該フィルムを１０５℃の温度で横方向に３．６倍
に延伸し、法（゛で２１Ｑ’Ｃで熱処理を施した。ｆ【
お、このときの延伸速度はＳＳ＠／分であった。

ここで縦送イ甲時の加熱ローラー３１〜３４での予熱温
度及び赤外ヒーター３Ｂの条絆を変更しながら、ρ−ラ
ーａｓＢＩ前のフィルム温度とｉζ伸倍率とを褒えて製
膜延伸し、表−１のｔｉｌｌきフィルムを得た。

祷らねた夫々のポリエチレンテレフタレートフィルムを
基材としてこのフィルムの上に犀さａｏｏＡの酸化チタ
ン薄膜層、犀さｔｓｏＸの銀及び銅の合金よりなる薄膜
層（釧９２重量％。

銅８重１チ）、２３Ｘのシリコン層及び２８０Ｘの酸化
チタン薄ｌＩ！Ｉ層を拳法積層し、選択光透過性積層体
を得た。

酸化チタン薄膜層はいずれもテトラブチルチタネートの
４ｉｌ′体３部、インプロピルアルコール９７部からな
る浴液をパーコーターで塗布し、１２０℃３分間加熱し
て設けた。

銀−鋼合金層は、憾−鋼合金（銀９２重量−２鋼８重量
饅）をターゲットにし、自流スパッタリングで設けた。

シリコン層は、電子ビーＸ加熱による真空蒸層方式で設
けた。

夫々の積層体の可視光線透過率、平均赤外反射率と基材
フィルムとしてのポリエステルフィルムの全ヘーズ、屈
折率、動摩擦係敷及びＣＬＡ値を表−１に示す。

【図面の簡単な説明】

図−１は従来法で製膜した基材フィルムの場合で粒子の
周りに出来たボイドの状態を示し、図１−１は平面図１
図１−２は断面卸°である。 図−２は本発明に供する基材フィルムであって、粒子を
含む突起とその周辺に！！ｌが形成されたものであり、
図２−１は平面図９図２−２は断面図である。 図−３は本発明の実施例に用いた基材フィルムの製造の
模式図である。 図−４は従来技術によるポリエステルの基材フィルムの
表面を示す顕微鏡写真であり、図−５は本発明のポリエ
ステル基材フィルムの表向の顕微鏡写真である（いずれ
も拡大倍率９００倍）。 舅２−１　　　　　　　図２−２ 図３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｉｌ＋　　透明な基材フィルムの少なくとも片面に金一
   層と高屈折率反射防止層とを積層してなる横一体であっ
   て、基材フィルムの宍面には突起と該突起周囲の窪とか
   らなる凹凸を有していることを％書とする積層フィルム
   。 １２１　　基材フィルムの全ヘーズがＭｌ　７１１５０
   μｍに換算して４嘔以下である特許請求の範囲第１項記
   載の積−フィルム。