JPS58183996A - イオウスケ−ルの化学的除去方法 - Google Patents

イオウスケ−ルの化学的除去方法

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JPS58183996A
JPS58183996A JP6611382A JP6611382A JPS58183996A JP S58183996 A JPS58183996 A JP S58183996A JP 6611382 A JP6611382 A JP 6611382A JP 6611382 A JP6611382 A JP 6611382A JP S58183996 A JPS58183996 A JP S58183996A
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JP
Japan
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sulfur
scale
hydrazine
removal method
chemical removal
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JP6611382A
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Keiichi Miwa
敬一 三輪
Masatada Yamashita
正忠 山下
Yoshio Hamao
浜尾 良雄
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IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は壁面に付着した単体イオウおよびイオウ化合物
を主体とするイオウスケールを安全かつ迅速に#解剥離
するイオウスケールの化学的除去方法忙関する。
地熱発電所の冷却水系統の機器、配管や温泉水を輸送す
る配管などのように、硫化水素を含む水で運転される機
器やその配管(材質はいずれも炭素鋼、不銹鋼、アルミ
ニウム合金)の壁面に硫化水素から生成した熱伝導率の
悪い本体イオウやイオウ化合物が付着し、それKよって
伝導耐外やそのスケールによる配管などの閉塞も考えら
れる。
従って、この種のスケールが付着する機器の稼動率t−
高めるためには、該スケールの除去が必要である。
しかしながら、単体イオウは化学的に非常に安定で、直
接溶解するためには取扱いの危険な二硫化炭gを虜用す
るしかない。そのため1機械的な手段で、除去する方法
が一般的であるが、該スケールが乾燥すると1強固なス
ケールとなり%機械的な除去法ですら困難になる。
本発明はL記の従来方法の欠点を解決し、電画に付着し
た単体イオウおよびイオウ化&物を主体とするイオウス
ケールを安全かつ迅速に溶S@砿するイオウスケールの
化学的除去方法を提供するもので、その要旨とするとこ
ろは、ヒドラジン5幅以上および水酸化ナトリウムまた
はメタケイ酸ナトリウム0.1〜1.0俤を含む水浴液
を壁面に付着した単体イオウおよびイオウ化合物を主体
とするイオウスケールに接触させること全特徴とするイ
オウスケールの化学的除去方法、にある。
本発明で使用されるヒドラジン5憾以上及び水酸化ナト
リウムまたはメタケイ酸ナトリクム0.1〜1.0優を
含む水溶液の単体イオウおよびイオウ化合物を主体とす
るスケールを溶解剥離する反応機構について述べると、
次のごとくである。
(1)  ヒドラジン(Nwa4)の作用ヒドラジンは
次の式で示すように、アルカリ溶液中で化学的に活性度
が高くなるので、これ會ス3N、H4+28→(Nm 
Ha ) @・H,8+N、+)i、11ケールの主成
分である単体イオウに反応させ、イオウ粒子表面をヒド
ラジン硫化物に変える。また。
このとき発生するN1ガスや■ISI2ガスーズな4s
盾に変った該スケールの崩壊を促進する。ヒドラジンの
緯加量が5cs−Jc満ではこの効果ははとんと11い
。
(2)  水酸化ナトリウム(NaOH)の作用水酸化
ナトリウムはヒドラジンの該スケール中への浸透性と還
元剥離効果を高め、水酸化す) IJウムで浴けた硫化
物(NaI、S)かさらにイオウを浴つくる。
また系統内にアルミニウム合金で構成された機器や配管
がある場合、水酸化す) IJウム代りK。
メタケイ酸ナトリウム(Na、S io、 ) f O
,I Sl、0慢添加してもよめ。
水酸化ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムの添加量が0
.1優未満では上記の効果がなく、1%を越えると母材
の腐食が大きくなる。
次に1本発明を実施例によってさらに具体的に説明する
。
実施例 スケール付着量20 Iv/err?の実械配管を温度
2゜0Cで5%以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0
1の水酸化す) IJウムを含む#液1c24時間#!
漬装置処理すると、スケールは完全に除去できる。なお
。
ヒドラジン5優以上、水酸化ナトリウム0.1〜1.0
優の範囲内でのスケール除去率および母材の腐食率を第
1表に示す。
第1表 比較ガ 実IIAfi11と同一配管を5III塩酸にインヒビ
ターを加えた溶液(ボイラーの蒸発管に付着したスクー
ルを除去するのに使用されているtの)で夷總例と同一
条件で処理したところ、スケールのat去率は37%程
度で完全に除去することができなかった。
なお、比較例の2例の結果を次の第2表に示す。
第2!g! 上記の2f11ではスケールが溶解しなかった。
また、スケール除去時の母材腐食量について述べる。
母材が炭素鋼、不銹#については腐食量は〈0.02〜
4” e 48 Hrで無視できる種度であるが。
アルミニウム合金については図に下すように、水酸化ナ
トリウムS度’i 0.1%にすれば腐食量は0−1 
”f/cN” a Hrとなる。この場合、水酸化ナト
リウムの代りに、メタケイ酸ナトリウムを使用すると、
腐食量tさらに小さくできる。
本発明の効果は次の通りである。
(1351以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0−の
水酸化ナトリウムを含む水溶液で、従来法では化学的に
除去することが困峻であったイオウスケールを完全に付
着面から溶解剥離して除去することかでざる。
(2)本発明の除去方法は常温で処理できかつ流速も必
要でない。
(3)  4111成材料によって、水酸化ナトリウム
の代りに、メタケイ酸ナトリウムを用いることができる
。
(4)洗浄時の構成材料の腐食量は無視できる種度で問
題ない。
(5)引火性のつよい二硫化炭素を使用する必要がない
ので、イオウスケール除去作業上の危険が少ない。
【図面の簡単な説明】
添付図は0.1〜1.0嗟のNa0H(又は、メタケイ
−ナトリウム)と591kN*Haを含む溶液中でのN
aOH(又は、メタケイ酸ナトリウム)の濃度とアルミ
ニウム曾金の腐食率の関係を示すグラフ図。 曲−1はNaOHの場合1曲線璽はメタケイ酸ナトリウ
ムの場合である。 濃度(τ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  ヒドラジン5優以上および水酸化ナトリウム
    またはメタケイ酸ナトリウム0.1〜1.01を含む水
    #准をImrkJに付着した単体イオウおよびイオウ化
    合物を主体とするイオウスケールに接触させることt−
    特徴とするイオウスケールの化学的除去方法0
JP6611382A 1982-04-20 1982-04-20 イオウスケ−ルの化学的除去方法 Granted JPS58183996A (ja)

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JP2018115240A (ja) * 2017-01-17 2018-07-26 株式会社片山化学工業研究所 硫黄スケールの洗浄剤およびそれを用いる硫黄スケールの洗浄方法
CN118495624A (zh) * 2024-06-07 2024-08-16 阳新弘盛铜业有限公司 一种气液强化型硫化反应设备

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