JPH0159039B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0159039B2 JPH0159039B2 JP57066113A JP6611382A JPH0159039B2 JP H0159039 B2 JPH0159039 B2 JP H0159039B2 JP 57066113 A JP57066113 A JP 57066113A JP 6611382 A JP6611382 A JP 6611382A JP H0159039 B2 JPH0159039 B2 JP H0159039B2
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- scale
- sulfur
- sodium hydroxide
- hydrazine
- sodium metasilicate
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
本発明は壁面に付着した単体イオウおよびイオ
ウ化合物を主体とするイオウスケールの安全かつ
迅速に溶解剥離するイオウスケールの化学的除去
方法に関する。 地熱発電所の冷却水系統の機器、配管や温泉水
を輸送する配管などのように、硫化水素を含む水
で運転される機器やその配管（材質はいずれも炭
素鋼、不銹鋼、アルミニウム合金）の壁面に硫化
水素から生成した熱伝導率の悪い単体イオウやイ
オウ化合物が付着し、それによつて伝導阻外やそ
のスケールによる配管などの閉塞も考えられる。
従つて、この種のスケールが付着する機器の稼動
率を高めるためには、該スケールの除去が必要で
ある。 しかしながら、単体イオウは化学的に非常に安
定で、直接溶解するためには取扱いの危険な二硫
化炭素を使用するしかない。そのため、機械的な
手段で、除去する方法が一般的であるが、該スケ
ールが乾燥すると、強固なスケールとなり、機械
的な除去法ですら困難になる。 本発明は上記の従来方法の欠点を解決し、壁面
に付着した単体イオウおよびイオウ化合物を主体
とするイオウスケールを安全かつ迅速に溶解剥離
するイオウスケールの化学的除去方法を提供する
もので、その要旨とするところは、ヒドラジン５
％以上および水酸化ナトリウムまたはメタケイ酸
ナトリウム0.1〜1.0％を含む水溶液を壁面に付着
した単体イオウおよびイオウ化合物を主体とする
イオウスケールに接触させることを特徴とするイ
オウスケールの化学的除去方法、にある。 本発明で使用されるヒドラジン５％以上及び水
酸化ナトリウムまたはメタケイ酸ナトリウム0.1
〜1.0％を含む水溶液の単体イオウおよびイオウ
化合物を主体とするスケールを溶解剥離する反応
機構について述べると、次のごとくである。 (1) ヒドラジン（N2H4）の作用 ヒドラジンは次の式で示すように、アルカリ
溶液中で化学的に活性化が高くなるので、これ
をス 3N2H4＋2S→（N2H4）2・H2S＋N2＋H2S ケールの主成分である単体イオウに反応させ、
イオウ粒子表面をヒドラジン硫化物に変える。
また、このとき発生するN2ガスやH2Sガスは
ルーズな構造に変つた該スケールの崩壊を促進
する。ヒドラジンの添加量５％未満ではこの効
果はほとんどない。 (2) 水酸化ナトリウム（NaOH）の作用 水酸化ナトリウムはヒドラジンの該スケール
中への浸透性と還元剥離効果を高め、水酸化ナ
トリウムで溶けた硫化物（Na2S）がさらにイ
オウを溶かし、Na2S2、Na2S5、Na2S9などの
多硫化物をつくる。 また系統内にアルミニウム合金で構成された
機器や配管がある場合、水酸化ナトリウム代り
に、メタケイ酸ナトリウム（Na2SiO3）を0.1
〜1.0％添加してもよい。 水酸化ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムの
添加量が0.1未満では上記の効果がなく、１％
を越えると母材の腐食が大きくなる。 次に、本発明を実施例によつてさらに具体的に
説明する。 実施例 スケール付着量20mg／cm2の実械配管を温度20℃
で５％以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0％の水酸
化ナトリウムを含む溶液に24時間浸漬静置処理す
ると、スケールは完全に除去できる。なお、ヒド
ラジン５％以上、水酸化ナトリウム0.1〜1.0％の
範囲内でのスケール除去率および母材の腐食率を
第１表に示す。
ウ化合物を主体とするイオウスケールの安全かつ
迅速に溶解剥離するイオウスケールの化学的除去
方法に関する。 地熱発電所の冷却水系統の機器、配管や温泉水
を輸送する配管などのように、硫化水素を含む水
で運転される機器やその配管（材質はいずれも炭
素鋼、不銹鋼、アルミニウム合金）の壁面に硫化
水素から生成した熱伝導率の悪い単体イオウやイ
オウ化合物が付着し、それによつて伝導阻外やそ
のスケールによる配管などの閉塞も考えられる。
従つて、この種のスケールが付着する機器の稼動
率を高めるためには、該スケールの除去が必要で
ある。 しかしながら、単体イオウは化学的に非常に安
定で、直接溶解するためには取扱いの危険な二硫
化炭素を使用するしかない。そのため、機械的な
手段で、除去する方法が一般的であるが、該スケ
ールが乾燥すると、強固なスケールとなり、機械
的な除去法ですら困難になる。 本発明は上記の従来方法の欠点を解決し、壁面
に付着した単体イオウおよびイオウ化合物を主体
とするイオウスケールを安全かつ迅速に溶解剥離
するイオウスケールの化学的除去方法を提供する
もので、その要旨とするところは、ヒドラジン５
％以上および水酸化ナトリウムまたはメタケイ酸
ナトリウム0.1〜1.0％を含む水溶液を壁面に付着
した単体イオウおよびイオウ化合物を主体とする
イオウスケールに接触させることを特徴とするイ
オウスケールの化学的除去方法、にある。 本発明で使用されるヒドラジン５％以上及び水
酸化ナトリウムまたはメタケイ酸ナトリウム0.1
〜1.0％を含む水溶液の単体イオウおよびイオウ
化合物を主体とするスケールを溶解剥離する反応
機構について述べると、次のごとくである。 (1) ヒドラジン（N2H4）の作用 ヒドラジンは次の式で示すように、アルカリ
溶液中で化学的に活性化が高くなるので、これ
をス 3N2H4＋2S→（N2H4）2・H2S＋N2＋H2S ケールの主成分である単体イオウに反応させ、
イオウ粒子表面をヒドラジン硫化物に変える。
また、このとき発生するN2ガスやH2Sガスは
ルーズな構造に変つた該スケールの崩壊を促進
する。ヒドラジンの添加量５％未満ではこの効
果はほとんどない。 (2) 水酸化ナトリウム（NaOH）の作用 水酸化ナトリウムはヒドラジンの該スケール
中への浸透性と還元剥離効果を高め、水酸化ナ
トリウムで溶けた硫化物（Na2S）がさらにイ
オウを溶かし、Na2S2、Na2S5、Na2S9などの
多硫化物をつくる。 また系統内にアルミニウム合金で構成された
機器や配管がある場合、水酸化ナトリウム代り
に、メタケイ酸ナトリウム（Na2SiO3）を0.1
〜1.0％添加してもよい。 水酸化ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムの
添加量が0.1未満では上記の効果がなく、１％
を越えると母材の腐食が大きくなる。 次に、本発明を実施例によつてさらに具体的に
説明する。 実施例 スケール付着量20mg／cm2の実械配管を温度20℃
で５％以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0％の水酸
化ナトリウムを含む溶液に24時間浸漬静置処理す
ると、スケールは完全に除去できる。なお、ヒド
ラジン５％以上、水酸化ナトリウム0.1〜1.0％の
範囲内でのスケール除去率および母材の腐食率を
第１表に示す。
【表】
【表】
比較例
実施例１と同一配管を５％塩酸にインヒビター
を加えた溶液（ボイラーの蒸発管に付着したスケ
ールを除去するのに使用されているもの）で実施
例と同一条件で処理したところ、スケールの除去
率は37％程度で完全に除去することができなかつ
た。 なお、比較例の２例の結果を次の第２表に示
す。
を加えた溶液（ボイラーの蒸発管に付着したスケ
ールを除去するのに使用されているもの）で実施
例と同一条件で処理したところ、スケールの除去
率は37％程度で完全に除去することができなかつ
た。 なお、比較例の２例の結果を次の第２表に示
す。
【表】
上記の２例ではスケールが溶解しなかつた。
また、スケール除去時の母材腐食量について述
べる。 母材が炭素鋼、不銹鋼については腐食量は＜
0.02mg／cm2・48Hrで無視できる程度であるが、
アルミニウム合金については図に示すように、水
酸化ナトリウム濃度を0.1％にすれば腐食量は0.1
mg／cm2・Hrとなる。この場合、水酸化ナトリウ
ムの代りに、メタケイ酸ナトリウムを使用する
と、腐食量をさらに小さくできる。 本発明の効果は次の通りである。 (1) ５％以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0％の水
酸化ナトリウムを含む水溶液で、従来法では化
学的に除去することが困難であつたイオウスケ
ールを完全に付着面から溶解剥離して除去する
ことができる。 (2) 本発明の除去方法は常温で処理できかつ流速
も必要でない。 (3) 構成材料によつて、水酸化ナトリウムの代り
に、メタケイ酸ナトリウムを用いることができ
る。 (4) 洗浄時の構成材料の腐食量は無視できる程度
で問題ない。 (5) 引火性のつよい二硫化炭素を使用する必要が
ないので、イオウスケール除去作業上の危険が
少ない。
べる。 母材が炭素鋼、不銹鋼については腐食量は＜
0.02mg／cm2・48Hrで無視できる程度であるが、
アルミニウム合金については図に示すように、水
酸化ナトリウム濃度を0.1％にすれば腐食量は0.1
mg／cm2・Hrとなる。この場合、水酸化ナトリウ
ムの代りに、メタケイ酸ナトリウムを使用する
と、腐食量をさらに小さくできる。 本発明の効果は次の通りである。 (1) ５％以上のヒドラジンおよび0.1〜1.0％の水
酸化ナトリウムを含む水溶液で、従来法では化
学的に除去することが困難であつたイオウスケ
ールを完全に付着面から溶解剥離して除去する
ことができる。 (2) 本発明の除去方法は常温で処理できかつ流速
も必要でない。 (3) 構成材料によつて、水酸化ナトリウムの代り
に、メタケイ酸ナトリウムを用いることができ
る。 (4) 洗浄時の構成材料の腐食量は無視できる程度
で問題ない。 (5) 引火性のつよい二硫化炭素を使用する必要が
ないので、イオウスケール除去作業上の危険が
少ない。
添付図は0.1〜1.0％のNaOH（又は、メタケイ
酸ナトリウム）と５％N2H4を含む溶液中での
NaOH（又は、メタケイ酸ナトリウム）の濃度と
アルミニウム合金の腐食率の関係を示すグラフ
図、曲線はNaOHの場合、曲線はメタケイ
酸ナトリウムの場合である。
酸ナトリウム）と５％N2H4を含む溶液中での
NaOH（又は、メタケイ酸ナトリウム）の濃度と
アルミニウム合金の腐食率の関係を示すグラフ
図、曲線はNaOHの場合、曲線はメタケイ
酸ナトリウムの場合である。
Claims (1)
- １ ヒドラジン５％以上および水酸化ナトリウム
またはメタケイ酸ナトリウム0.1〜1.0％を含む水
溶液を壁面に付着した単体イオウおよびイオウ化
合物を主体とするイオウスケールに接触させるこ
とを特徴とするイオウスケールの化学的除去方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6611382A JPS58183996A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | イオウスケ−ルの化学的除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6611382A JPS58183996A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | イオウスケ−ルの化学的除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58183996A JPS58183996A (ja) | 1983-10-27 |
| JPH0159039B2 true JPH0159039B2 (ja) | 1989-12-14 |
Family
ID=13306500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6611382A Granted JPS58183996A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | イオウスケ−ルの化学的除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58183996A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03646U (ja) * | 1989-05-24 | 1991-01-08 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6872747B2 (ja) * | 2017-01-17 | 2021-05-19 | 株式会社片山化学工業研究所 | 硫黄スケールの洗浄剤およびそれを用いる硫黄スケールの洗浄方法 |
| CN118495624B (zh) * | 2024-06-07 | 2025-11-18 | 阳新弘盛铜业有限公司 | 一种气液强化型硫化反应设备 |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP6611382A patent/JPS58183996A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03646U (ja) * | 1989-05-24 | 1991-01-08 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58183996A (ja) | 1983-10-27 |
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