JPS58186438A - 不動態化せる接触富ガス法触媒 - Google Patents

不動態化せる接触富ガス法触媒

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JPS58186438A
JPS58186438A JP58040527A JP4052783A JPS58186438A JP S58186438 A JPS58186438 A JP S58186438A JP 58040527 A JP58040527 A JP 58040527A JP 4052783 A JP4052783 A JP 4052783A JP S58186438 A JPS58186438 A JP S58186438A
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temperature
reduction
precursor
reduced
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JP58040527A
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イ−ヴア−・ジヨン・キツチナ−
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British Gas Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01J23/86Chromium
    • B01J23/866Nickel and chromium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/03Precipitation; Co-precipitation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は触媒並びに触媒の製造方法に関する。
%に・本発明は炭化水素類の接触水蒸気改質法及び合成
ガスのメタン化法に使用される共沈ニッケルーアルミナ
触媒系KgIする。1つの斯ろ水蒸気改質法は接触音ガ
x (Catalytlc Rlch Ga5(CRG
))法であり、英国特許第820257号明細書に初め
て記載された。CRG法に使用これるニッケルーアルき
す触媒はCRG触媒として知られている。
CRG@媒は水溶性炭酸塩又は重炭酸塩を沈澱剤として
使用してニッケル及びアルミニウム塩類の混合水溶液よ
り混合脚酸塩錯体を沈澱することによって生成される。
沈+1FiF通後数回洗滌され。
乾燥、か焼及びベレット化される。か焼生成物汀二、ツ
ケル及びアルミニウムが酸化物として存在する触媒先駆
物質であり、活性触媒を得るために。
先駆物質は遊離ニッケル金属を生成するために還元され
なければならない。
還元された物Xは酸素含有ガス、例えば空気の存在にお
いて非常に発火性であるので、触媒の還元は水蒸気改質
反応が起る改質装置において1本との場所で行なわれる
。還元は水素で行なわれ。
斯くて改質作業が起る場所は新しい触媒補給の副次的還
元に対し少くとも有用である水素補給をもたなければな
らない。水素は充分な量の増結めされたガスを購入する
ことによって、或は水素製造設備を設けることKよって
提供され得る。斯くて。
副次的に使用される還元設備の準mFi触媒のコストに
負担を追加する。
要求される水素の、量に加えて、約500℃の高装置が
適当な還元ts保するのに長時間要求される。斯くて、
高価な加熱装置が触媒先駆物質11−還元するのに準備
されなければならない。
本発明は迅速かつ経済的に活性化することのできる触媒
を提供しようとしているものであり、それによ抄がス化
触媒を還元する装置を最小にすることができ、又メタン
化触媒の場合には、奮然廃止することができ、触媒を有
効に活性化するのに充分な水素が反応体に存在する。斯
る触媒は容易かつ安全に取扱いかつ輸送され得る。
木登−によれば、触媒を生成する方法が提供され、それ
KFI先駆物質がニッケル及びアルミニウムの塩類より
成る水溶液より触媒成分を共沈することにより形成され
1次いでP遇、洗滌、乾燥。
か焼され、その後先駆物質を活性触媒を形成するためK
111元される方法において、前記か焼け480〜55
0℃の温度で行なわれ、前記還元は先駆物質に存在する
還元可能な物質の少くとも2/3が還元されるまで少く
とも450℃の温度で行なわれ、かつ還元せ′る触媒は
炭酸ガス算囲気において少くとも1/2時間、175°
〜200℃の温度で状態調節され、その後状態調節され
た触媒は前記雰曲気で室温に冷却せしめられることを特
徴とするものである。
本発明方法はすべての共沈ニッケルーアルミナ系に適用
できるけれども、触媒は又少量のクロムを含有するのが
好ましく、この点において英国特許第1550719号
明細書に記載したような触媒は本発明により生成され得
る。3本発明方法は又米国41iF計枳4216123
号明細書に記載されているような触媒を生成するのにも
使用され得る。
温オデログラムの還元(TPR)及びメタン化(T P
 M ) (T@mperature Program
med Reductlonand Methanat
lon )は一定のガス流と絶えず上昇する温度との条
件の下で起る接触反応を調査するのに使用される分析技
術である。例えば還元における技術は温度を予定の連寂
で別の温度にあげることであり、又還元剤1例えば水素
が消費される速度を決定することである。商業的規模で
の触媒の還元は温度!ログラムの基準で行なわれないで
通常先駆物質を所要のm1iI′まで予熱し、かつ所望
の還元の割合が達成されるまで還元剤を触媒の上を通す
ことによって達成される。勿論1通常の商業的慣例によ
れば還元の量温度をあげることができる。こ−で述べる
ようなTPR及びTPMの使用は特徴的技術を説明する
目的のためであって、本発明により触媒又は触媒先駆物
質を還元する条件を規定するためではない。
図面に示されるTPR輪郭(プロフィル)に対する加熱
速度は10℃/分の槙4図を除き30℃/分である。
触媒先駆物質は通常1例えばか焼工程が普通Klt!川
されているよりも高い温習で行なわれる点を除いて英国
1%軒第1550749号及び米国特許m421612
3号明細書において述べるような公知の共沈技術及び後
沈澱処理によって生成される。か焼に少くとも480℃
、好ましくV1480゜〜500℃のYMLlfで行な
われる。
還元は少くとも450℃、好ましくF’1450゜〜5
00℃の温度で実施されるべきである。高温習の使用は
一般に推選されない。基本的なものは還元が析なわれる
時間を還元すべき還元可能な成分の少くとも2/3に対
し充分とすべきことである。
第1図にか焼が480℃で行なわれる点を除き。
英国特許@1550749号明細書の実施例3により生
成される触媒先駆物質に対するTPR輪郭を示す。最初
のピーク(約280℃における)にクロム成分の還元を
示し、第二のピークはニッケル還元である。ニッケルの
最大還元は約550℃で生ずる。同様の先駆物質がTP
R東件で還元され1次いで2/3の還元を行なうために
3時間500℃に保持される。175℃の温度で0.5
時間炭酸ガスにさらし次いで冷却することによって不動
態化したsoNlgの試料は酸素にざらされる際に温度
上昇を示きず、実質的に貴酸化が起らず。
その結果触媒は完全に不動−化されたことを示している
触媒試料は次いでさら[TPIC付され、その反応輪郭
はTPR輪郭(第2図)K示される。これは250℃の
温rL#′i不動物化処理中に形成される表面の酸化物
層を除き、かくて完全に再活性化されることを示してい
る。第2図における180℃での大きな、充分に側定さ
れたピークけCO2処理中に形成される表面酸化物の量
を示す。第二のさらに大きなピークは先駆物質が500
℃で最初に還元されたとき還元されなかった先駆物質の
実際の主な還元である。
813図は夫々480℃でか焼され、550℃で還元さ
れる米国特許第4216123号明細書の実輪例1によ
り生成された触媒試料に対するTPR輪郭を示す。触媒
試料F116.4■の試料をCO2と175℃で0.5
時間接触することによって不動帖化される。
約250℃の温WIL#′i、IM−ピークによって示
されるように触媒試料を完全に再活性化するのに必要で
あることが第3図より明らかである。第二ピークは還元
可能な成分の最終の115の主な還元が初めの還元段階
(550℃)で還元されないことを示している。
実際の温度及びCO2不動態化処理の期間は処理される
触媒の量の関数である。然しなから、処理温度#′11
75℃より低くなく又200℃より高くなくすべきであ
る。小さな試料では、約0.5時間で光分であるが、商
業的規模の製造では数時間、例えば1〜6時間が必要で
ある。触媒#1CO2の下で室温に冷却後、有効な温度
上昇が酸素にされされるとき触媒の本体内で起らないと
きに完全に不動II享れていると考えられる0 本発明により生成される触媒は新しく生成された触媒と
、メタン化活性度及び主ガス化触媒としての両者につい
て、同じ活性度を有する。
次に本発明を実施例によって説明する。
下記の成分を含有する2つの別個の溶液を生成する: 溶液 1 硝酸ニッケル、水和物     95.4に#硝酸アル
ミニウム、水和物   42.6kll(2401の水
に全部を含有させる) 硝酸クロム([1)、水和物     5.06に#浴
液 2 炭酸ソーダ、無水物  192tの水において75.2
k1 両方の溶液を60℃に加熱し、炭酸塩浴液全容々に混合
物の温度を60℃に保ちながら添加する。
混合溶液において形成される沈澱は濾過分離され、60
℃で水によシ再スラリー化し、P遇することによって洗
滌される。最終−過ケーキは次いで125℃で24時間
乾燥され、その後480℃でか焼して触媒先駆物質を生
成する。
先駆物質は粉砕され、2優の黒鉛と混合し2.5.ai
x 2.5*mのzカットシリング−(5quantc
yllnder )  にペレット化される。
ペレット化した先駆物質の化学的、物理的性質Cま次の
通りである: 化学的性質       物理的性質 Nl       60.5*      0    
31”At203   17.3係 Cr(m)      1.9%     PSD  
  901”Na      O,01% C2,Ol   気孔全容積 0 、307tM’f″
″1S       O,01チ ペレット化せる先駆物質の一部は次いで70饅瀘元され
るまで480℃で水素で還元され、その恢触媒は水素中
で200℃に冷却され、その後200℃で炭酸がスが4
時間触媒上に送られる。
冷却及び空気にさらしたときに温度上昇は見られなかっ
た。
不動態化せる触媒の1つのベレットは次いでTPRに付
嘔れる。結果を第4図に示し、ここにおいて再活性化が
約250℃において生ずることがわかる。
不動態化せる触媒の残りを活性触媒(^)を生成するた
めに5分間250℃で水素で再活性化した。
触媒先駆物質の他の部分を500℃で3時間水素を通し
てその位置で新しく還元する。このlfr鮮I@媒(I
ずresh’catalyst)  を触媒1f3Nと
称す。
再活性化せる触媒の部分は次いで温度!ログラムのメタ
ン化及びがス化に付され、不動態化処理を受けない還元
触媒(B)の部分と比較される。
がス化 軽油(沸騰範囲184〜541℃)を気化し水蒸気と混
合して(軽油1部に対し水蒸気2部の電蓋比で)反応体
混合物を生成し、それは次いで500℃に予熱し、流体
を別々に、1つはI再活性化Iせる触媒(蜀を含有し、
他はl新鮮l触媒(8)を含有する2つの触媒床上に送
る。各触媒床は床の長さの下に熱電対分備え、各点にお
ける温度を22.46.70.1664間後に測定した
。第5図は反応温度の輪郭を示し、それから再活性化せ
る触媒のガス化性能が新鮮還元触媒と実質的に161じ
であることがわかる。新鮮触媒(B)に対する輪郭は実
線で、再活性化せる触媒(A)は断続線によって示され
る。
メタン化 触媒の初めの活性度はメタン化し始める温度によって測
定される。
触媒(^)及び(81Vi引」々の反応器に装填され、
各反応器にCO2において10饅H2より成る反応体混
合物が送られる。触媒床の諷ぜは60℃/分の速度で上
昇される。TPM輪郭を第6図に示す。新111F、@
媒(e)に対する輪郭は実線で、再活性化せる触媒(A
)は点線によって示される。
がス分析はメタンの生成が水素除去の最初の1号と同時
に生ずることを示している。メタン普は輪郭とともに上
昇し、ピークの頂点において水素消費に対し最高に達す
る。この点の後に一酸化炭素の生成が始まり、メタンの
生成は約380℃から連続して低下する。480℃の後
に逆転が著しく起り、それは水素消費における正味の上
昇の原因である。
輪郭はJl論的千m+iE(点−断続線によって示され
る)に達せず:これはおそらくサーミスター検出器の応
答を混乱して形成されるメタンに依るものである。然し
ながら、新鮮触媒及び不動態化せる触媒の両者に対する
度広の輪郭は全く同じであることが観察される。
本発明の方法により生成される触媒がメタン化触媒とし
て使用されると、不動態化した触媒を再活性化する必要
がないことがわかる。メタン化の開始が生ずるmlf及
びメタン化される反応体混合物に存在する水素の量は触
媒を再活性化するのに必要な条件を充分に提供する。
【図面の簡単な説明】
重付図面において、WJ1〜4図は触媒に対する1厘プ
ログラムの還元の輪郭であり、ここでは還元中に消=R
される水系の量が磁闇上件に対してプロットされる。 第5図は本発明により生成される触媒を利用するがス化
反応に対する反に色温度の一郭である。 第6図は本発明により生成される触媒に対する+M W
プログラムのメタン化法の輪郭である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 fi+  ニッケル及びアルミニウムの塩類より成る水
    溶液より触媒成分を共沈することによって先駆物質を生
    成し1次いて濾過、洗滌、乾燥及びか塙せしめ、その後
    先駆物質を活性触媒に還元すな触媒の生成方法において
    、か焼を480°〜550℃の温度で行ない%還元を先
    駆物質中に存在する還元可能な物質の少くとも2/3が
    還元される!で少くとも450℃の温度で行ない、かつ
    還元せる触媒を炭酸ガスの雰囲気において少くとも17
    2時間、175°足200℃の温度で状態調節し、面本
    その後状態調節せる触媒を前記雰囲気において室温にま
    で冷却せしめることtS黴とする上記方法〇 (2) 触媒は又クロムを含有する特許請求の範囲第1
    gi記載の方法。 (3)  触媒を約jOO℃で還元する特許請求の範囲
    第1項又Fi第2璃記載の方法。 (4)  か焼を480°〜500℃で行なう特許請求
    の範囲l@1項から第3項までの各項記載の方法。 (5)状態調節を200℃で1〜6時間行なう特許請求
    の範囲第1JJから#!4項までの各項記載の方法。
JP58040527A 1982-03-12 1983-03-11 不動態化せる接触富ガス法触媒 Pending JPS58186438A (ja)

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DK (1) DK158202C (ja)
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