JPS58192032A - 重合画像形成方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/0285—Silver salts, e.g. a latent silver salt image
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は重合物による画像の形成方法に関する。
%にハロゲン化銀写真乳剤と還元剤の作用によって写真
的1w儂に対応する部分に選択的に高分子化合物を生成
させる方法に関する。
的1w儂に対応する部分に選択的に高分子化合物を生成
させる方法に関する。
W元され次ハロゲン化錯の存在下で、ノ10ゲン化銀の
還元反応と同時に付加重合しつるエチレン性不飽和化合
物を重合させることt%徴とするノ゛ロゲン化嫁センサ
ー型1合性感光材料に関する。
還元反応と同時に付加重合しつるエチレン性不飽和化合
物を重合させることt%徴とするノ゛ロゲン化嫁センサ
ー型1合性感光材料に関する。
元の作用によってエチレン性不飽和化合物全1会させ高
分子化合物を生成させてgIを形成する万εは極々提案
されている。ハロゲン化銀金触媒として用いて元1合を
il接起させることも提案されている(英国特許第f4
4,47/号明細書、S。
分子化合物を生成させてgIを形成する万εは極々提案
されている。ハロゲン化銀金触媒として用いて元1合を
il接起させることも提案されている(英国特許第f4
4,47/号明細書、S。
レビノス(Levinos)他フォトグラフインク。
サイエンス・アンドOエンジニアリング(Photog
raphic 5cience &Engineer
ing)第6巻第λココ〜λ26頁(/り62))。こ
の反応では、ハロゲン化銀の光分解によって生じ次生成
物が@接1合の触媒となるものと考えられており、通常
の現儂によってハロゲン化鋼粒子を還元する場合程の高
g度は得られていない。又、露光され九ハロゲン化嫁乳
剤粒子を通常の現gI液によって現儂しm後、生じ九*
m*、あるいは未反応のハロゲン化at触媒として利用
してエチレン性不飽和化合物の重合金行わせ高分子化合
物全画像状に生成させることも提案されている(ベルギ
ー特許第を弘2弘77号明細書等)。この反応は現偉操
作と]!曾操作會分離して行わねばならない欠点がある
。露光されたハロゲン化銀全エチレン性不飽和化合物の
存在下で還元性の化合物で現儂し、その過程で生じる酸
化生成物或いはその中間生成物に工ってエチレン性不飽
和化合物の重合を起させることは、すでにべンゼン壌上
でお互にオルト又は・Rうの位置に2個以上の水al基
又はアミン基又はアルキル、又はアリールで置換された
アミン基tVする様な所111ベンゼノイド化酋物を還
元剤としてこの様な反応を行わせる事が提案されている
(米国特許第3.O7り、70弘号明a賽、G、オスタ
ー・ネイチュア(0ster、Nature )第11
0巻第127j頁(/りj7))。しかし、このベンゼ
ノイド化合物による反応の実例では、ハロゲン化銀の銀
儂の光学1111度の上昇を認め友のみであり、高分子
の生長を直接裏致ける様な粘度上昇、あるいは反応熱の
発生の確鯵あるいは生成高分子の雛離は行われていない
。
raphic 5cience &Engineer
ing)第6巻第λココ〜λ26頁(/り62))。こ
の反応では、ハロゲン化銀の光分解によって生じ次生成
物が@接1合の触媒となるものと考えられており、通常
の現儂によってハロゲン化鋼粒子を還元する場合程の高
g度は得られていない。又、露光され九ハロゲン化嫁乳
剤粒子を通常の現gI液によって現儂しm後、生じ九*
m*、あるいは未反応のハロゲン化at触媒として利用
してエチレン性不飽和化合物の重合金行わせ高分子化合
物全画像状に生成させることも提案されている(ベルギ
ー特許第を弘2弘77号明細書等)。この反応は現偉操
作と]!曾操作會分離して行わねばならない欠点がある
。露光されたハロゲン化銀全エチレン性不飽和化合物の
存在下で還元性の化合物で現儂し、その過程で生じる酸
化生成物或いはその中間生成物に工ってエチレン性不飽
和化合物の重合を起させることは、すでにべンゼン壌上
でお互にオルト又は・Rうの位置に2個以上の水al基
又はアミン基又はアルキル、又はアリールで置換された
アミン基tVする様な所111ベンゼノイド化酋物を還
元剤としてこの様な反応を行わせる事が提案されている
(米国特許第3.O7り、70弘号明a賽、G、オスタ
ー・ネイチュア(0ster、Nature )第11
0巻第127j頁(/りj7))。しかし、このベンゼ
ノイド化合物による反応の実例では、ハロゲン化銀の銀
儂の光学1111度の上昇を認め友のみであり、高分子
の生長を直接裏致ける様な粘度上昇、あるいは反応熱の
発生の確鯵あるいは生成高分子の雛離は行われていない
。
更にまた他の研究者達は追試に成功しながつ友と4報告
している(S、レビノス(Levinos) andF
、W、H,ミュラー・フォトグラフィック・サイx y
ス(Mue l l e r 、 Photograp
hic 5cience)& エンジニアリング(En
gineering) 第ぶ巻第λコ2惠(/り6λ
))。
している(S、レビノス(Levinos) andF
、W、H,ミュラー・フォトグラフィック・サイx y
ス(Mue l l e r 、 Photograp
hic 5cience)& エンジニアリング(En
gineering) 第ぶ巻第λコ2惠(/り6λ
))。
次いでjI元されたハロゲン化銀の存在下でレゾルシン
、ナフトール、ピラゾロン、ヒドラジン化合物、フェノ
ール化合−を重合開始剤として用いてエチレン性不飽和
化合物tm合させることが特公昭≠j−///弘?号、
同to−io≠rr号、同弘j−JOJJr号、同44
4−277JJ号、PI≠7−11111号、同弘6−
6すt/号、開−7−/参ぶ孟7号、同≠7−/≠≦1
1号、同体7−/4444デ号、同@7−72431号
、同弘7−λ07弘1号、同弘ター/夕ぶり号、間係タ
ー/!70号、同経ター弘17≦2号及び同蓼?−10
4F7号、特願昭54−23り/り号、%願昭!≦−λ
r/!≠号で提案されている(ハロゲン化銀センサー型
重合性W&光材料)。
、ナフトール、ピラゾロン、ヒドラジン化合物、フェノ
ール化合−を重合開始剤として用いてエチレン性不飽和
化合物tm合させることが特公昭≠j−///弘?号、
同to−io≠rr号、同弘j−JOJJr号、同44
4−277JJ号、PI≠7−11111号、同弘6−
6すt/号、開−7−/参ぶ孟7号、同≠7−/≠≦1
1号、同体7−/4444デ号、同@7−72431号
、同弘7−λ07弘1号、同弘ター/夕ぶり号、間係タ
ー/!70号、同経ター弘17≦2号及び同蓼?−10
4F7号、特願昭54−23り/り号、%願昭!≦−λ
r/!≠号で提案されている(ハロゲン化銀センサー型
重合性W&光材料)。
しかし、これらの発明ではエチレン性不飽和化合物の重
合体は生じるものの形成され之重合体画嘗の強度はいま
だ充分とはいえなかっ友。
合体は生じるものの形成され之重合体画嘗の強度はいま
だ充分とはいえなかっ友。
本発明の目的は、露光されたハロゲン化銀の存在下でエ
チレン性不飽和化合物を重合させる感度の高い方法全提
供することである。本発明のもう1つの目的は、ハロゲ
ン化銀前に対してポジのポリマーgI金得ることのでき
るiwi感度のハロゲン化銀感光材料を提供することで
ある。本発明のもう7つの目的はll会体画g1部の強
度音強<シ、傷がつきにくいli!11g11に:形成
する方法を提供することである。
チレン性不飽和化合物を重合させる感度の高い方法全提
供することである。本発明のもう1つの目的は、ハロゲ
ン化銀前に対してポジのポリマーgI金得ることのでき
るiwi感度のハロゲン化銀感光材料を提供することで
ある。本発明のもう7つの目的はll会体画g1部の強
度音強<シ、傷がつきにくいli!11g11に:形成
する方法を提供することである。
本発明省らは適当な重合開始剤(還元剤)を便用してエ
チレン性不飽和化合物の存在下でハロゲン化銀を還元す
ると上記エチレン性不飽和化合物の重合をひき起し、し
η島もノ・ロゲン化銀としてノ・ロケン化銀与真乳剤を
用いると、反応はノ・ロゲン化銀微結晶が現儂核ゲ保有
して居る場合に工す速やかに起り、従って適当な反応条
件と反応時間を選べば現儂核に!するハロゲン化銀粒子
の存在する部分のみにおいて、選択的に1会を起す事が
出来るハロゲン化銀センサー型]!会性感元材料會、t
iJgIllI党、現像、エツチング処理し皮恢、全面
露光することにより、形成された画gI!強度が著しく
強くなることを見出した。
チレン性不飽和化合物の存在下でハロゲン化銀を還元す
ると上記エチレン性不飽和化合物の重合をひき起し、し
η島もノ・ロゲン化銀としてノ・ロケン化銀与真乳剤を
用いると、反応はノ・ロゲン化銀微結晶が現儂核ゲ保有
して居る場合に工す速やかに起り、従って適当な反応条
件と反応時間を選べば現儂核に!するハロゲン化銀粒子
の存在する部分のみにおいて、選択的に1会を起す事が
出来るハロゲン化銀センサー型]!会性感元材料會、t
iJgIllI党、現像、エツチング処理し皮恢、全面
露光することにより、形成された画gI!強度が著しく
強くなることを見出した。
光重合系で後j11光に:り画偉強度勿向上させること
は知られているが、(%開昭タフー2≠り≠0)本発明
のハロゲン化銀センサー型重合性感光材料では、1合開
始剤(還元剤)として光重合禁止剤會多量に用いる。そ
の几め光重合禁止剤を多量に含むjJS飯で処理しt後
、全面露光で1iii像強度が向上することは予測でき
なかつ友。
は知られているが、(%開昭タフー2≠り≠0)本発明
のハロゲン化銀センサー型重合性感光材料では、1合開
始剤(還元剤)として光重合禁止剤會多量に用いる。そ
の几め光重合禁止剤を多量に含むjJS飯で処理しt後
、全面露光で1iii像強度が向上することは予測でき
なかつ友。
本発明において、現像処理後の全面照射はケミカルラン
プ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノンランプなどを用い、/〜!O秒間照射する。
プ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノンランプなどを用い、/〜!O秒間照射する。
本発明のハロゲン化銀センサー型重合性感光材料α、非
気体状エチレン性不飽和化合物(ビニル化合物)をハロ
ゲン化鐘乳剤層および/まtは隣接層に含有して−良い
が、隣接層に含有させる方が好ましい。ま皮下塗り層、
保護層、中間層上膜けても艮い。
気体状エチレン性不飽和化合物(ビニル化合物)をハロ
ゲン化鐘乳剤層および/まtは隣接層に含有して−良い
が、隣接層に含有させる方が好ましい。ま皮下塗り層、
保護層、中間層上膜けても艮い。
本発明の感材に含有するハロゲン化銀のiiは7m2当
り0,007tないしょtが適当で、特にo、ortな
いし/fが好ましい。各層の結台剤金合わせt量は7m
当りo、itないし30?が適当で特にo、ryない
し/すtが好ましい。
り0,007tないしょtが適当で、特にo、ortな
いし/fが好ましい。各層の結台剤金合わせt量は7m
当りo、itないし30?が適当で特にo、ryない
し/すtが好ましい。
ビニル化合物は同一層の結合剤の//30ないし30倍
、轡に//弘ないし参倍が好ましい。また後で述べる重
合開始剤を感材に添加する場合は同一面積に含まれるハ
ロゲン化銀1モルに対してl/10モルないし10モル
が好都合である0重合開始剤を処理液中に添加する場合
は、用いる化合物によって最適濃度に多少異なるが、濃
度は/lあ友り171000モルないしjモルが適当で
あり、特に1710モルないし1モルが好ましい。
、轡に//弘ないし参倍が好ましい。また後で述べる重
合開始剤を感材に添加する場合は同一面積に含まれるハ
ロゲン化銀1モルに対してl/10モルないし10モル
が好都合である0重合開始剤を処理液中に添加する場合
は、用いる化合物によって最適濃度に多少異なるが、濃
度は/lあ友り171000モルないしjモルが適当で
あり、特に1710モルないし1モルが好ましい。
ビニル化合物上処理液に添加する場合は/を当り0.7
モルないしjモルが適当で特に0.3−E−にないし3
モルが好ましい。
モルないしjモルが適当で特に0.3−E−にないし3
モルが好ましい。
本発明で述べる写真的な潜像とは電磁波又は粒子線の作
用に依ってハロゲン化銀写真乳剤に生じた、通常そのま
までは目に見えない惨状の変化であり、現像する事に依
って可視像となる翫のである。通常の陽画を生ずる乳剤
では、電磁波又は粒子線で照射され皮ハロゲン化銀粒子
に現像核が生ずる@VC依って潜像が生じ、直接陽画乳
剤でに最初全粒子に存在していた現像核が照射に依って
消失する几めに、agIが生ずる(ジェームス(Jam
e5)and/’ギンス(Huggins)著1ファン
ダメンタルス・オブ・ホトグラフィック・セオリー(F
’undamantals of Photogr
aphicTheory )−@二@Morgam
& Morgam。
用に依ってハロゲン化銀写真乳剤に生じた、通常そのま
までは目に見えない惨状の変化であり、現像する事に依
って可視像となる翫のである。通常の陽画を生ずる乳剤
では、電磁波又は粒子線で照射され皮ハロゲン化銀粒子
に現像核が生ずる@VC依って潜像が生じ、直接陽画乳
剤でに最初全粒子に存在していた現像核が照射に依って
消失する几めに、agIが生ずる(ジェームス(Jam
e5)and/’ギンス(Huggins)著1ファン
ダメンタルス・オブ・ホトグラフィック・セオリー(F
’undamantals of Photogr
aphicTheory )−@二@Morgam
& Morgam。
社、1260年発行、3章及びμ章参照)。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真乳剤は、電磁波又
は粒子線の作用に依って照射された部分に現儂核全生ず
るような即ち、現儂に依って陰画金生ずる様な通常のハ
ロゲン化鏝与真乳剤本便用できるし、―惨状の光の照射
を受けた部分より屯それ以外の部分の方が多数のハロゲ
ン釧粒子に現amが存在する様ないわゆる直接陽画乳剤
本便用できる。
は粒子線の作用に依って照射された部分に現儂核全生ず
るような即ち、現儂に依って陰画金生ずる様な通常のハ
ロゲン化鏝与真乳剤本便用できるし、―惨状の光の照射
を受けた部分より屯それ以外の部分の方が多数のハロゲ
ン釧粒子に現amが存在する様ないわゆる直接陽画乳剤
本便用できる。
本発明において、15jIINIを生ずるようなハロゲ
ン化銀写真乳剤としては、通常の現倫処理に対して用い
られるハロゲン化銀写真乳剤が好都合に使用されつる。
ン化銀写真乳剤としては、通常の現倫処理に対して用い
られるハロゲン化銀写真乳剤が好都合に使用されつる。
即ち塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀
4真乳剤が便用可能である。本発明に愛用される写真乳
剤には、通常の写真乳剤に対して村われる様な化学増感
、光学増感色素用する拳が出来る。即ち、化学増感とし
ては、備黄増感、貴金属増感、還元増W&を行う事が出
来る(例えばP6グラフキテス・シミー・フォトグラフ
ィック(Gl a fk i de s ChimI
Photographique)li4λ版フォトシネ
マ・ホール・モンテル・パリ(Photocinema
Paul Montel Paris)/りt7
年第λμ7〜30/jj参照)。ザ・セオリー・オプ・
ザ・フォトグラフィックプロセス(The Theor
y of the PhotographicP
rocess)第参版マクミラy(Macmillan
社)lり77年発行の第1章参照。又、光学増感には、
シアニン色素、メロシアニン色素等通常の与真法で用い
られる光学増感色素(例えば菊地真−他和学写真便覧、
中巻、丸善発行lり12年、lり〜コ参頁参fi)が有
効である。又、本発明で使用する乳剤は通常の写真法で
利用される様な安定剤を含んでいても艮い。
4真乳剤が便用可能である。本発明に愛用される写真乳
剤には、通常の写真乳剤に対して村われる様な化学増感
、光学増感色素用する拳が出来る。即ち、化学増感とし
ては、備黄増感、貴金属増感、還元増W&を行う事が出
来る(例えばP6グラフキテス・シミー・フォトグラフ
ィック(Gl a fk i de s ChimI
Photographique)li4λ版フォトシネ
マ・ホール・モンテル・パリ(Photocinema
Paul Montel Paris)/りt7
年第λμ7〜30/jj参照)。ザ・セオリー・オプ・
ザ・フォトグラフィックプロセス(The Theor
y of the PhotographicP
rocess)第参版マクミラy(Macmillan
社)lり77年発行の第1章参照。又、光学増感には、
シアニン色素、メロシアニン色素等通常の与真法で用い
られる光学増感色素(例えば菊地真−他和学写真便覧、
中巻、丸善発行lり12年、lり〜コ参頁参fi)が有
効である。又、本発明で使用する乳剤は通常の写真法で
利用される様な安定剤を含んでいても艮い。
本発明に便用出来る直接陽−ノ・ロゲン化銀与臭乳剤は
、ソラリゼーション、ノ1−シェル効果、クライデン効
果、サバチェ効果【利用して詐取することができる。此
等の効果の1l12kJAは例えばC,E。
、ソラリゼーション、ノ1−シェル効果、クライデン効
果、サバチェ効果【利用して詐取することができる。此
等の効果の1l12kJAは例えばC,E。
K、<−ス(Mess)著ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(The Theory
of the Photographic Pr
ocess)、第二II(マク建ラン(MACMILL
AN)社、lりl←年発行)の第六章及び第七章に述べ
られている。ソラリ(−ジョン會利用して、直接陽画ハ
ロゲン化銀乳剤會作るKはソラリゼーシ習ン會起し易い
タイプのハロゲン化fs与真乳剤を作シ、画儂露光なし
て充分ms可能となる様にあら凌為しめ全面に露光を与
えるか化学薬品を作用させておけば良い。此の様な乳剤
の作り方の例は、例えば英国%許第1qコ4It−4明
細書及び同等グー2フ30号判細書等に見られる。
ォトグラフィック・プロセス(The Theory
of the Photographic Pr
ocess)、第二II(マク建ラン(MACMILL
AN)社、lりl←年発行)の第六章及び第七章に述べ
られている。ソラリ(−ジョン會利用して、直接陽画ハ
ロゲン化銀乳剤會作るKはソラリゼーシ習ン會起し易い
タイプのハロゲン化fs与真乳剤を作シ、画儂露光なし
て充分ms可能となる様にあら凌為しめ全面に露光を与
えるか化学薬品を作用させておけば良い。此の様な乳剤
の作り方の例は、例えば英国%許第1qコ4It−4明
細書及び同等グー2フ30号判細書等に見られる。
バーシェル効果は全面露光管受ける〃・、化学薬品に依
って全面的KIA倫可能性を有する橡に麿つ友ハロゲン
化錬に長波長の党會当てる事に依ってひき起こされるが
、此の場合には、塩化銀を多く含むハロゲン化銅乳剤が
有利であり、又ハーシエル効果【助長する為にピナクリ
プトールイエロー、フェノサフラニン尋の減感色素1加
える事も行われる。バーシェル効果全利用した直接陽I
jl礼剤の製造方法は例えば英@ll#軒第647コo
t号明細書、米国%軒第λ117コ7J号明細誓等に見
られる。
って全面的KIA倫可能性を有する橡に麿つ友ハロゲン
化錬に長波長の党會当てる事に依ってひき起こされるが
、此の場合には、塩化銀を多く含むハロゲン化銅乳剤が
有利であり、又ハーシエル効果【助長する為にピナクリ
プトールイエロー、フェノサフラニン尋の減感色素1加
える事も行われる。バーシェル効果全利用した直接陽I
jl礼剤の製造方法は例えば英@ll#軒第647コo
t号明細書、米国%軒第λ117コ7J号明細誓等に見
られる。
クライデン効果金利用して直接陽11t−得るには、高
照度で蜆時間のl1ji儂露光を与えt後に、比較的低
照度で全面に露光することが必要であって、この全面露
光のvkKはじめて、7IIJ照度の画儂篇光を受けな
かった部分が現像可能性を持つようになる。
照度で蜆時間のl1ji儂露光を与えt後に、比較的低
照度で全面に露光することが必要であって、この全面露
光のvkKはじめて、7IIJ照度の画儂篇光を受けな
かった部分が現像可能性を持つようになる。
サバチェ効果は、ハロゲン化銅乳剤が画像状に露光會受
けた後、現gII液に浸され次状態で全面にlI党され
るか、化学薬品の作用を受けるかすることによって、画
像状の露光を受けなかつfcs分に現像可能性【生じる
ことに依って起る。クライデン効果、サバチェ効果は、
最初の露光に依って/・ロゲン化−粒子の粒子表面よシ
も、粒子内部に楓gI核會生ずる傾向が強い様なハロゲ
ン化錯乳剤會用いた場合に軽易に実用的におこすことが
できる。
けた後、現gII液に浸され次状態で全面にlI党され
るか、化学薬品の作用を受けるかすることによって、画
像状の露光を受けなかつfcs分に現像可能性【生じる
ことに依って起る。クライデン効果、サバチェ効果は、
最初の露光に依って/・ロゲン化−粒子の粒子表面よシ
も、粒子内部に楓gI核會生ずる傾向が強い様なハロゲ
ン化錯乳剤會用いた場合に軽易に実用的におこすことが
できる。
この様な内S現像核音生じ易い乳剤の製造方法は例えば
、米!iii%FF第λ、!12,210号qm書、米
−特許第2,4!97,17を号明細書、英1ii1%
許第t、oit、otx44rEIJm書、 ドイツ!
許第1.コ57,7F/′ijj明細誉等に記載されて
いる。
、米!iii%FF第λ、!12,210号qm書、米
−特許第2,4!97,17を号明細書、英1ii1%
許第t、oit、otx44rEIJm書、 ドイツ!
許第1.コ57,7F/′ijj明細誉等に記載されて
いる。
コア・シェル乳剤を用いて陽l1jlを作成することも
てきる。コア・シェル乳剤の製造法は米国特許第3,7
4/、276号明細畳、米国特許第3゜コ04.171
号明細−IK配軟されている。
てきる。コア・シェル乳剤の製造法は米国特許第3,7
4/、276号明細畳、米国特許第3゜コ04.171
号明細−IK配軟されている。
上記の4真乳剤は高分子物質の溶液中にハロゲン化f1
17に粒子の分散した系からなっており、その高分子物
質としてはゼラチンが広く用いられているが、それ以外
の取水性コロイドも用いることかできる。たとえばゼラ
チン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイ/勢Oj白質:ヒドロキシェチ
ルセルロース、 iカルボキシメチルセルロー
ス、セルローズ硫酸エステル結合の如きセルロース誘導
体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などのIIWh導体
;ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分ア
セタール、ポリ−へ−ビニルピロリドン、ポリアクリル
酸、ポリメタクリル酸(またはポリ(メタ)アクリル酸
にグリシジル(メタ)アクリレートをエステル結合させ
7’j吃の。)、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミ
ダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重
合体の如き多重の合成親水性高分子物質を用いることが
できる。
17に粒子の分散した系からなっており、その高分子物
質としてはゼラチンが広く用いられているが、それ以外
の取水性コロイドも用いることかできる。たとえばゼラ
チン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマ
ー、アルブミン、カゼイ/勢Oj白質:ヒドロキシェチ
ルセルロース、 iカルボキシメチルセルロー
ス、セルローズ硫酸エステル結合の如きセルロース誘導
体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などのIIWh導体
;ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分ア
セタール、ポリ−へ−ビニルピロリドン、ポリアクリル
酸、ポリメタクリル酸(またはポリ(メタ)アクリル酸
にグリシジル(メタ)アクリレートをエステル結合させ
7’j吃の。)、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミ
ダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重
合体の如き多重の合成親水性高分子物質を用いることが
できる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
ゼラチン誘導体としては、ゼラチンにたとえば酸ハライ
ド、酸無水物、インシアナート類、ブロモ酢酸、アルカ
ンサルトン類、ビニルスルホンアミド類、マレインイミ
ド化合物類、ポリアルキレンオキシド類、エポキシ化合
物類等抛々の化合物を反応させて得られるものが用いら
れる。その具体例は米国も計2,4/44.り21号、
同3./Jλ、りμj号、同3.IIt、IIIt号、
同3゜31λ、153号、英国特許161.弘/参号、
同/、OJI、/Iり号、同/ 、 00! 、 71
47号、特公昭リス−2tr弘!号などに記載されてい
る。
ド、酸無水物、インシアナート類、ブロモ酢酸、アルカ
ンサルトン類、ビニルスルホンアミド類、マレインイミ
ド化合物類、ポリアルキレンオキシド類、エポキシ化合
物類等抛々の化合物を反応させて得られるものが用いら
れる。その具体例は米国も計2,4/44.り21号、
同3./Jλ、りμj号、同3.IIt、IIIt号、
同3゜31λ、153号、英国特許161.弘/参号、
同/、OJI、/Iり号、同/ 、 00! 、 71
47号、特公昭リス−2tr弘!号などに記載されてい
る。
前記ゼラチン・グラフトポリマーとしては、ゼラチンに
アクリル酸、メタアクリル酸、それらのエステル、アミ
ドなどの誘導体、アクリロニトリル、スチレンなどの如
き、ビニル系七ツマー〇巣−(ホモ)または共1合体t
クラフトさせたものt用いることができる。ことに、ゼ
ラチンとあるt[相溶性のあるポリマーたとえばアクリ
ル酸、メタアクリル酸、アクリルアミド、メタアクリル
アミド、ヒドロキシアルキルメタアクリレート等の1合
体とのグラフトポリマーが好ましい。これらの例は米国
特許λ、747,4.2を号、同一。
アクリル酸、メタアクリル酸、それらのエステル、アミ
ドなどの誘導体、アクリロニトリル、スチレンなどの如
き、ビニル系七ツマー〇巣−(ホモ)または共1合体t
クラフトさせたものt用いることができる。ことに、ゼ
ラチンとあるt[相溶性のあるポリマーたとえばアクリ
ル酸、メタアクリル酸、アクリルアミド、メタアクリル
アミド、ヒドロキシアルキルメタアクリレート等の1合
体とのグラフトポリマーが好ましい。これらの例は米国
特許λ、747,4.2を号、同一。
III、747号、同一、Pすt、it参号などに記載
がある6代表的な合成親水性高分子物質はたとえは西′
H1特許出1ii(OL8 )コ、xiλ、7or号、
米国特許3.≦20 、7jtI号、IW、I3゜17
デ、、201号、特公昭11−7り61号に記載のもの
であみ。
がある6代表的な合成親水性高分子物質はたとえは西′
H1特許出1ii(OL8 )コ、xiλ、7or号、
米国特許3.≦20 、7jtI号、IW、I3゜17
デ、、201号、特公昭11−7り61号に記載のもの
であみ。
本発明の感光材料は無機または有機の硬膜剤を含Mする
ことかできる。また、塗布助剤、帯電防止、スベリ性改
良、乳化分散、および接着防止など種々の目的で糧々の
公知の界面活性剤を含んでもよい。
ことかできる。また、塗布助剤、帯電防止、スベリ性改
良、乳化分散、および接着防止など種々の目的で糧々の
公知の界面活性剤を含んでもよい。
本発明に於てビニール化合物(エチレン性不飽和化合物
)は常温で液体又は固体の附加It曾性の化合物又はそ
れ等の混曾物1rg!用する。此の様な化合物としては
、アクリルアイド、アクリルニトリル、N−ヒドロキシ
メチルアクリルアミド、メタアクリルアミド、N−t−
ブチルアクリルアミド、メタアクリル酸、アクリル酸、
アクリル鈑カルシウム、アクリル酸ナトリウム−メタア
クリルアミド、メタアクリル酸メチル、アクリル除メチ
ル、アクリル酸エチル、コーアクリルアミドー1−メチ
ルプロパ/スルホン酸、ビニルピロリドン、λ−ビニル
ピリジン、l−ビニルピリジン、コーメチルーヘービニ
ルイミダゾール、ビニルベンゼンスルホン酸カリウム、
ビニールカルノτゾール等がある。本発明に於ては二つ
以上のビニール[1有する化合物が%に好都合であり、
前記の様なビニール暴−Ilt有する化合物と併用する
か、あるいは此の様な複数個のビニール基1r+する化
合物単独で使用する。此の様な化合物の例としてはN。
)は常温で液体又は固体の附加It曾性の化合物又はそ
れ等の混曾物1rg!用する。此の様な化合物としては
、アクリルアイド、アクリルニトリル、N−ヒドロキシ
メチルアクリルアミド、メタアクリルアミド、N−t−
ブチルアクリルアミド、メタアクリル酸、アクリル酸、
アクリル鈑カルシウム、アクリル酸ナトリウム−メタア
クリルアミド、メタアクリル酸メチル、アクリル除メチ
ル、アクリル酸エチル、コーアクリルアミドー1−メチ
ルプロパ/スルホン酸、ビニルピロリドン、λ−ビニル
ピリジン、l−ビニルピリジン、コーメチルーヘービニ
ルイミダゾール、ビニルベンゼンスルホン酸カリウム、
ビニールカルノτゾール等がある。本発明に於ては二つ
以上のビニール[1有する化合物が%に好都合であり、
前記の様なビニール暴−Ilt有する化合物と併用する
か、あるいは此の様な複数個のビニール基1r+する化
合物単独で使用する。此の様な化合物の例としてはN。
N’−メチレンビスアクリルア宴ド、エチレングリコー
ルジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタア
クリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ジビ
ニルエーテル、ジビニルベンゼンビスフェノール−人−
ジメタアクリレート、トリメチロールブロノ櫂ンドリア
クリレート、インタエリスリトールテトラアクリレート
、ビスオキシエチレン化ビスフェノール−A−ジアクリ
レート、ジインタエリスリトールへキサアクリレートあ
るいはウレタン基【含有する不飽和奉量体例えばジー(
J I−メタクリロキシエチル)−λ。
ルジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタア
クリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、ジビ
ニルエーテル、ジビニルベンゼンビスフェノール−人−
ジメタアクリレート、トリメチロールブロノ櫂ンドリア
クリレート、インタエリスリトールテトラアクリレート
、ビスオキシエチレン化ビスフェノール−A−ジアクリ
レート、ジインタエリスリトールへキサアクリレートあ
るいはウレタン基【含有する不飽和奉量体例えばジー(
J I−メタクリロキシエチル)−λ。
≠−トリレンジウレタ/、ジー(コ′−アクリロキシエ
チル)トリメチレンジウレタンのようなジオールモノ(
メタ)アクリレートとジイソシアネートとの反応生成物
等がある。
チル)トリメチレンジウレタンのようなジオールモノ(
メタ)アクリレートとジイソシアネートとの反応生成物
等がある。
本発明に於ては水溶性のビニール化合物を用いて奄良く
、また非水溶性のビニール化合物を乳液としてま友過当
な溶媒に溶解して添加する拳により重合1行わせること
も出来る。乳化は常法に従って界面活性剤及び/又は高
分子化合物の存在下で適当な攪拌装置によって行うこと
が出来る。
、また非水溶性のビニール化合物を乳液としてま友過当
な溶媒に溶解して添加する拳により重合1行わせること
も出来る。乳化は常法に従って界面活性剤及び/又は高
分子化合物の存在下で適当な攪拌装置によって行うこと
が出来る。
本発明においては上記のビニール化合物をハロゲン化銀
乳剤層に添加することができる。このビニール化酋物會
含有する重合性層の結合剤は、水又はアルカリ水溶液に
可溶であるか、少なくとも膨潤しうる天然高分子または
合成高分子を便用する。そのような天然高分子の例とし
て、ノ・ロゲン化銀乳剤の結合剤と同じく、ゼラチン、
ゼラチン誘導体及びゼラチングラフトポリマーなどのゼ
ラチン拳、澱粉、デキスト2ン尋の多糖類、セルロース
誘導体、ジエチレンなどがあシ、合成高分子としては、
アクリル酸又はメタクリル酸の単独又は共1に合体、マ
レイ/#R1イタコン酸、ビニル安層、査除の共重合体
などの遊離カルボキシ基含有ポリマー、スチレンスルホ
ン駿ナトリウム共重合体などのスルホン酸基含Mポリマ
ー、無水マレイン酸、無水イタコン瞭共重合体などの無
水カルボン酸基含Mポリマー、フェノールホルマリン樹
脂−及びクレゾールホルマリン樹脂などのノボラック樹
脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルアルコール及
びビニルアルコール共重合体などのヒドロキシ共含有ポ
リマー、ポリアクリルアミド及びアクリルア建ド共重酋
体などのアミド基金1ポリマー、スチレンスルホアミド
共1酋体などのスルホンアミド基含有ポリマー、ポリビ
ニルピロリドン及びビニルピロリドン共1合体、共1合
ナイロン、メトキシメチル化ナイロン、ポリアルキレン
グリコールなどがある。
乳剤層に添加することができる。このビニール化酋物會
含有する重合性層の結合剤は、水又はアルカリ水溶液に
可溶であるか、少なくとも膨潤しうる天然高分子または
合成高分子を便用する。そのような天然高分子の例とし
て、ノ・ロゲン化銀乳剤の結合剤と同じく、ゼラチン、
ゼラチン誘導体及びゼラチングラフトポリマーなどのゼ
ラチン拳、澱粉、デキスト2ン尋の多糖類、セルロース
誘導体、ジエチレンなどがあシ、合成高分子としては、
アクリル酸又はメタクリル酸の単独又は共1に合体、マ
レイ/#R1イタコン酸、ビニル安層、査除の共重合体
などの遊離カルボキシ基含有ポリマー、スチレンスルホ
ン駿ナトリウム共重合体などのスルホン酸基含Mポリマ
ー、無水マレイン酸、無水イタコン瞭共重合体などの無
水カルボン酸基含Mポリマー、フェノールホルマリン樹
脂−及びクレゾールホルマリン樹脂などのノボラック樹
脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルアルコール及
びビニルアルコール共重合体などのヒドロキシ共含有ポ
リマー、ポリアクリルアミド及びアクリルア建ド共重酋
体などのアミド基金1ポリマー、スチレンスルホアミド
共1酋体などのスルホンアミド基含有ポリマー、ポリビ
ニルピロリドン及びビニルピロリドン共1合体、共1合
ナイロン、メトキシメチル化ナイロン、ポリアルキレン
グリコールなどがある。
上記の重合性層に色材t−添力0しても良い。
色材は、酸4tチタン、酸化曲鉛、酸化鉄などの金属酸
化物、カーボンブラック、フタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料などの顔料や、ローダきンなどのキサンチン染料
、クリスタルバイオレットなどのトリフェニルメタン染
料、メチレンブルーなどのチアジン染料、アゾ染料、ア
ントラキノン染料などの染料t−使用する。染料又は顔
料に、溶解・乳化・分散など常法に従って添加すること
が出来る。
化物、カーボンブラック、フタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料などの顔料や、ローダきンなどのキサンチン染料
、クリスタルバイオレットなどのトリフェニルメタン染
料、メチレンブルーなどのチアジン染料、アゾ染料、ア
ントラキノン染料などの染料t−使用する。染料又は顔
料に、溶解・乳化・分散など常法に従って添加すること
が出来る。
重曾性層には、可塑剤を添加してもよい、可塑剤として
はジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチル
フタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタ
レート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロへキシ
ルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジインデシルフタレート、ジアリールフ
タレートナトノ7タル酸エステル類、ジメチルグリコー
ルフタレートエチルフタリルエチルグリコール、メチル
フタリルエチルグリコール、ブチルフタリルブチルグリ
コール、トリエチレングリコールシカプリル酸エステル
などのグリコールエステル類、トリクレジルフォスフェ
ート、トリフェニルフォスフェートなどの憐酸エステル
類、ジイソブチルアジハート、ジオクチルアジは一ト、
ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジイソオク
、チルアゼレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、り
エン酸) IJ−1−チル、グリセリントリアセチルエ
ステル、ラウリル酸ゾチルなどがある。
はジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチル
フタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタ
レート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロへキシ
ルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジインデシルフタレート、ジアリールフ
タレートナトノ7タル酸エステル類、ジメチルグリコー
ルフタレートエチルフタリルエチルグリコール、メチル
フタリルエチルグリコール、ブチルフタリルブチルグリ
コール、トリエチレングリコールシカプリル酸エステル
などのグリコールエステル類、トリクレジルフォスフェ
ート、トリフェニルフォスフェートなどの憐酸エステル
類、ジイソブチルアジハート、ジオクチルアジは一ト、
ジメチルセパケート、ジブチルセパケート、ジイソオク
、チルアゼレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、り
エン酸) IJ−1−チル、グリセリントリアセチルエ
ステル、ラウリル酸ゾチルなどがある。
1合性色材層にはさらに塗布性などの目的で椎々の公知
の界面活性剤t−添加してもよい。
の界面活性剤t−添加してもよい。
上記のハロゲン化銀センサー型1合性感光材料ts像(
ハロゲン化銀の還元反応およびビニル化付物の重合反応
)する際には、以下に述べる重合開始剤を使用する。重
合開始剤は感材の1膜に含有されても、現像11[K含
有されても良い、しかし本発明の目的達成には現偉液に
含有された方が好ましい。を尺現書方法は現gI液に黒
材會浸漬してもまた加熱のみKよっても良い。
ハロゲン化銀の還元反応およびビニル化付物の重合反応
)する際には、以下に述べる重合開始剤を使用する。重
合開始剤は感材の1膜に含有されても、現像11[K含
有されても良い、しかし本発明の目的達成には現偉液に
含有された方が好ましい。を尺現書方法は現gI液に黒
材會浸漬してもまた加熱のみKよっても良い。
本発明においては重合開始剤として下記の様なものが用
いられる0重合開始剤は*独で用いられてもよく、ま几
コ釉以上會併用しても良い。
いられる0重合開始剤は*独で用いられてもよく、ま几
コ釉以上會併用しても良い。
本発明においては重合開始剤としてはレゾルシンおよび
その誘導体、ナフトールおよびその誘導体、ピラゾロン
化合物、ヒドラジン化合物、カテコールおよびその誘導
体、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン
、アルキルフェノール等の下記の%計に記載されている
ものはいずれも用いることができる。(%公昭II−t
−///4Iり号、同10−10μit号、同すt−3
013を号、同経≦−27723号、N−7−yrzr
1号、同e+−tzri号、開−7−74’447号、
同!7−iattr号、同447−/#44り号、同<
47−/2tl1号、同(47−20717/号、同V
ター/!6ヂ号、同ゲター/!70号、間係ター弘17
6り号及び同Vター106り7号]。
その誘導体、ナフトールおよびその誘導体、ピラゾロン
化合物、ヒドラジン化合物、カテコールおよびその誘導
体、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン
、アルキルフェノール等の下記の%計に記載されている
ものはいずれも用いることができる。(%公昭II−t
−///4Iり号、同10−10μit号、同すt−3
013を号、同経≦−27723号、N−7−yrzr
1号、同e+−tzri号、開−7−74’447号、
同!7−iattr号、同447−/#44り号、同<
47−/2tl1号、同(47−20717/号、同V
ター/!6ヂ号、同ゲター/!70号、間係ター弘17
6り号及び同Vター106り7号]。
また下記一般式で表わされるフェノール化合物音用いる
こともできる。
こともできる。
一般式
)
式中、R1はアルキル基又は置換アルキル基金表わし、
R2及びR’2は各々水素、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基又はハ
ロゲン原子を表わし、R3及びR/3は各々水素、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基
、アラルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基又はハ
ロケン原子を衣わ丁。
R2及びR’2は各々水素、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基又はハ
ロゲン原子を表わし、R3及びR/3は各々水素、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基
、アラルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基又はハ
ロケン原子を衣わ丁。
(II) (nl)
CN)
(JH
(■ン
式中、八は酸素原子または硫黄原子をめられし、RtU
アルキル基、fil[Mアルキル基、アリール基、m換
アリール基又はアラルキル基を表わし、R2及びR1′
2は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アル
コキシ基、チオアルキル基、アリール基、k、換アリー
ル基またはハロゲン原子を表わし、)t3はアリール漆
、置換アリール基又はアラルキル&ケ表わし、Xは、−
CH2−1置換アリール晶又はアラルキル基七表わし、
R2及びB/ 2は各々水X&子、アルキル基、WIt
換アルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基、アリー
ル基、置換アリール基fたはハロケン原子?衣ゎし、k
L3はアリール基、置換了り−ルム又はアラルキル基會
表わし、Xは、−CH2−1H3 CH3 −C−2表わし、nは/h・らμの整数1表わす。
アルキル基、fil[Mアルキル基、アリール基、m換
アリール基又はアラルキル基を表わし、R2及びR1′
2は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アル
コキシ基、チオアルキル基、アリール基、k、換アリー
ル基またはハロゲン原子を表わし、)t3はアリール漆
、置換アリール基又はアラルキル&ケ表わし、Xは、−
CH2−1置換アリール晶又はアラルキル基七表わし、
R2及びB/ 2は各々水X&子、アルキル基、WIt
換アルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基、アリー
ル基、置換アリール基fたはハロケン原子?衣ゎし、k
L3はアリール基、置換了り−ルム又はアラルキル基會
表わし、Xは、−CH2−1H3 CH3 −C−2表わし、nは/h・らμの整数1表わす。
〔■〕〔―〕
式中・R1s R2・R3・R4は各々水素、・・ログ
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルコキシ基、チオアルキル基又はシア
ン基を表わし、RIs R2、R3、)t4の肉牛く
と吃1つはハロゲン原子を表わす。
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルコキシ基、チオアルキル基又はシア
ン基を表わし、RIs R2、R3、)t4の肉牛く
と吃1つはハロゲン原子を表わす。
フェノール化合物の具体例としては下記の様なものがあ
る。
る。
([03)3u
H3
C2H50
CH30
CH30
CH3
CH3
HOCH。
(n)C4Hg S
CH30
CH30
H(、L; t13
H30
Hs0
C(JOH
aa OHOH
a α
α a
α
11 Br OH
4龜
4表
I
史に本発明方法において亜硫酸イオンが系内に存在する
と、ビニール化合物の重合が促進される。
と、ビニール化合物の重合が促進される。
亜硫酸イオンは例えばアルカリ金属又はアンモニウムの
亜硫酸塩、重亜硫酸塩の如く亜硫酸イオンを最初から肩
している化合物として、加えられても良いし、アルカリ
金−又はアンモニウムのピロ曲硫ill塩、又は1亜碕
酸塩とフォルムアルデヒド又はグリオキザールの如きア
ルデヒドとの附加物の如く、水浴液中で分解して亜硫酸
イオンを発生する@負として加えられても良い。亜硫酸
イオンの過当な添力口Iiは、使用するフェノール化合
物、ビニルモノマーの種麹および量、および系のpH等
で震化するのが、反応糸itmす0.002モル以上、
特にo、oiモル以上が肩効である。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩の如く亜硫酸イオンを最初から肩
している化合物として、加えられても良いし、アルカリ
金−又はアンモニウムのピロ曲硫ill塩、又は1亜碕
酸塩とフォルムアルデヒド又はグリオキザールの如きア
ルデヒドとの附加物の如く、水浴液中で分解して亜硫酸
イオンを発生する@負として加えられても良い。亜硫酸
イオンの過当な添力口Iiは、使用するフェノール化合
物、ビニルモノマーの種麹および量、および系のpH等
で震化するのが、反応糸itmす0.002モル以上、
特にo、oiモル以上が肩効である。
!li!硫酸の作用機構は明らかではないが、酸素に依
る1合の阻害作用を防止して居ると考えるのが妥当であ
ろうと思われる。
る1合の阻害作用を防止して居ると考えるのが妥当であ
ろうと思われる。
少量の通常の与真決gII薬を併用するか又は通常の写
真埃儂桑で前浴することによって11台反応會促進する
ことができる。
真埃儂桑で前浴することによって11台反応會促進する
ことができる。
−NH2又は−N HR,但し、ここでnにμ以下の整
数1r表わし、Rは総炭素1参以下のアルキル基、ヒド
ロアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルキルス
ルホンアミドアルキル基から選ばれた基又はアリール基
會表わ丁。)で示される様な構′f#會Mする化合物や
l−アリール−3−オクノビラゾリジン類、又は/−ア
リール−3−イミノピラゾリジン類があげられる。これ
らの通常の写真現像薬はそれ自身では1合を起す作用が
なくても重合開始の作用のある還元剤の机像作用?促進
することによって、1合反応會促進することができる。
数1r表わし、Rは総炭素1参以下のアルキル基、ヒド
ロアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルキルス
ルホンアミドアルキル基から選ばれた基又はアリール基
會表わ丁。)で示される様な構′f#會Mする化合物や
l−アリール−3−オクノビラゾリジン類、又は/−ア
リール−3−イミノピラゾリジン類があげられる。これ
らの通常の写真現像薬はそれ自身では1合を起す作用が
なくても重合開始の作用のある還元剤の机像作用?促進
することによって、1合反応會促進することができる。
本反応は一般にアルカリ性で良く連打するが最も過当な
pHはハロゲン化鈑、フェノール化合物及び媒体高分子
化合物のa1類、a11度及び反応温度によって異り、
pHFJ1以上で反応はi」能であり、P以上が粉に都
合が良い。
pHはハロゲン化鈑、フェノール化合物及び媒体高分子
化合物のa1類、a11度及び反応温度によって異り、
pHFJ1以上で反応はi」能であり、P以上が粉に都
合が良い。
反応の停止は系を酸性(例えばp Hs(r以下)にす
る事、冷却、写真用定着徹に依るハロゲン化銀の溶解、
又は重合禁止剤の系への龜加に依って容易に打われるが
、重合性層を#解しうる処理液(エツチング沿)に浸漬
し、未1合部を溶出することに依っても停止することが
できる。
る事、冷却、写真用定着徹に依るハロゲン化銀の溶解、
又は重合禁止剤の系への龜加に依って容易に打われるが
、重合性層を#解しうる処理液(エツチング沿)に浸漬
し、未1合部を溶出することに依っても停止することが
できる。
本発明で用いられるハロケン化欽センサー型1合性感光
材料の重合性層に光1合間始剤?添加することは本発明
の効果の上で特に好ましい。
材料の重合性層に光1合間始剤?添加することは本発明
の効果の上で特に好ましい。
本発明で用いられゐ感光性組成物の光1付−始剤として
は、従来周知の例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベン
ゾイン、α−エチルベンゾイン、ベンジル、ジアセチル
、コーナフタレンスルフオニルクロライド、ジフェニル
ジスルフィド、アントラキノン、ベンゾフェノン、ジー
tcrt−ブチルパーオキサイド、エオシン、チオニン
、アセトフェノン、トリフェニルホスフィン、λ−エチ
ルアンスラキノン、コーt−ブチルアンスツキノン、β
−メチルアンスラキノン、AIBN、ベンズアンスロン
、ベンゾイルアセトン・、過酸化ベンゾイル、テトラメ
チルチウラムモノスルフィト、ジフェニルジスルフィド
などが挙けられる。これらの光1酋開始剤は、1合性ヒ
ニルモノマー100**部に対しo、ooi〜10重り
部の割付で便用される。
は、従来周知の例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベン
ゾイン、α−エチルベンゾイン、ベンジル、ジアセチル
、コーナフタレンスルフオニルクロライド、ジフェニル
ジスルフィド、アントラキノン、ベンゾフェノン、ジー
tcrt−ブチルパーオキサイド、エオシン、チオニン
、アセトフェノン、トリフェニルホスフィン、λ−エチ
ルアンスラキノン、コーt−ブチルアンスツキノン、β
−メチルアンスラキノン、AIBN、ベンズアンスロン
、ベンゾイルアセトン・、過酸化ベンゾイル、テトラメ
チルチウラムモノスルフィト、ジフェニルジスルフィド
などが挙けられる。これらの光1酋開始剤は、1合性ヒ
ニルモノマー100**部に対しo、ooi〜10重り
部の割付で便用される。
本発明を用いて作られる与真感元材料においてビニル化
合物と色材と′lt含む1台性色材層とノ・ロゲン化鍜
写真乳剤層その他の層tユ与真感元材料に通常用いられ
ているプラスチックフィルム、紙、布などの可撓性支持
体またにガラス、陶器、金楓なとの剛性の支持体に塗布
される。可撓性支持体とし7て1用な4のは、硝酸セル
ロース、酢酸セルロース、酢a1m酸セルロース、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ボリカーボネート等の半酋成筐たは台数高分子から
成るフィルム、バライタ層またはa−オレフィンポリマ
ー(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン/
ブテン共1合体)轡を塗布またはラミネートした紙等で
ある。支持体は染料や顔料?用いて着色されてもよい。
合物と色材と′lt含む1台性色材層とノ・ロゲン化鍜
写真乳剤層その他の層tユ与真感元材料に通常用いられ
ているプラスチックフィルム、紙、布などの可撓性支持
体またにガラス、陶器、金楓なとの剛性の支持体に塗布
される。可撓性支持体とし7て1用な4のは、硝酸セル
ロース、酢酸セルロース、酢a1m酸セルロース、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ボリカーボネート等の半酋成筐たは台数高分子から
成るフィルム、バライタ層またはa−オレフィンポリマ
ー(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン/
ブテン共1合体)轡を塗布またはラミネートした紙等で
ある。支持体は染料や顔料?用いて着色されてもよい。
遮光の目的で黒色にしてもよい。これらの支持体の表面
は重合性層等との接&によくするために1塗処理される
。支持体表面は下塗処理の前1次は恢に、コロナ放電、
紫外線照射、火焔処理婢を施してもよい。
は重合性層等との接&によくするために1塗処理される
。支持体表面は下塗処理の前1次は恢に、コロナ放電、
紫外線照射、火焔処理婢を施してもよい。
本発明に使用される親水性表面會Mする金属は、アルミ
ニウム(アルミニウム付会も含む。)、曲鉛、鉄、銅な
どのような金属が適当でありこれらの金属は紙もしくは
プラスチックフィルム上にラミネートまたは蒸着され友
複合支持体會形成してもしく、それ自身支持体となって
いてもよい。
ニウム(アルミニウム付会も含む。)、曲鉛、鉄、銅な
どのような金属が適当でありこれらの金属は紙もしくは
プラスチックフィルム上にラミネートまたは蒸着され友
複合支持体會形成してもしく、それ自身支持体となって
いてもよい。
cfLらの支持体のうち、アルミニウム板、特公昭ll
l−11327号公報に記されているポリエチレンプレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートなどが好ましい。
l−11327号公報に記されているポリエチレンプレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートなどが好ましい。
これらの支持体は親水性表−1會つるためIff必要に
より表向処理または観水層牙設けるなどの処理が施さ扛
る。親水化処理には抛々のものがある。
より表向処理または観水層牙設けるなどの処理が施さ扛
る。親水化処理には抛々のものがある。
金属、特にアルミニウムの表thIt肩する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソータ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩叫の水溶液への浸漬処理、あるいは
ll1m他酸化処理なとの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国%許第;z、y/a、o6t4
r3明細書に記載されている如く、砂目立てしたのちに
珪酸ナトリウム水浴液に浸漬処理されたアルミニウム板
、米国%i!Fl−第3゜/l/、す57号明細書に!
ieglitされているようにアルミニウム板を陽&酸
化処理したのちに、アルカリ金Jll珪散塙の水溶液に
浸漬処理したもの吃好適に使用される。上記#A極酸酸
化処理、例えば、fI4飯、クロム酸、硫酸、硼酸等の
無機酸、若しく&、’l、M酸、スルファミン酸等の壱
機酸またにこれらの塙の水溶扮又は非水浴数の雄独又は
二極幻上會組み合わせた溶液中で、%に好1しくに、燐
酸、Im除またはこnらの混付物の水溶液中でアルミニ
ウム板に電流?流すことにより実施される。また、米国
符F?第J、Gtf、AAλ号明細曹に記載されている
ようなシリケート電着もM効でめる。史V(−s英国へ
iW−第i、ior、λコ参号明細書に記載さrている
工うVこ、アルミニウム板を堪酸電解欣中で交流でt解
し、ついで硫酸電解液中で陽極酸1ヒしたアルミニウム
板も好ましい。ま九、上記の如き行程で陽&酸化された
アルミニウム板に、曲鉛などの金属の水溶性塩を含むセ
ルロース糸樹脂の下塗り層を設けることは、印刷時のス
カム會防止する上で、好ましい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソータ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩叫の水溶液への浸漬処理、あるいは
ll1m他酸化処理なとの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国%許第;z、y/a、o6t4
r3明細書に記載されている如く、砂目立てしたのちに
珪酸ナトリウム水浴液に浸漬処理されたアルミニウム板
、米国%i!Fl−第3゜/l/、す57号明細書に!
ieglitされているようにアルミニウム板を陽&酸
化処理したのちに、アルカリ金Jll珪散塙の水溶液に
浸漬処理したもの吃好適に使用される。上記#A極酸酸
化処理、例えば、fI4飯、クロム酸、硫酸、硼酸等の
無機酸、若しく&、’l、M酸、スルファミン酸等の壱
機酸またにこれらの塙の水溶扮又は非水浴数の雄独又は
二極幻上會組み合わせた溶液中で、%に好1しくに、燐
酸、Im除またはこnらの混付物の水溶液中でアルミニ
ウム板に電流?流すことにより実施される。また、米国
符F?第J、Gtf、AAλ号明細曹に記載されている
ようなシリケート電着もM効でめる。史V(−s英国へ
iW−第i、ior、λコ参号明細書に記載さrている
工うVこ、アルミニウム板を堪酸電解欣中で交流でt解
し、ついで硫酸電解液中で陽極酸1ヒしたアルミニウム
板も好ましい。ま九、上記の如き行程で陽&酸化された
アルミニウム板に、曲鉛などの金属の水溶性塩を含むセ
ルロース糸樹脂の下塗り層を設けることは、印刷時のス
カム會防止する上で、好ましい。
本発明VC於ては写真Ifil像會得るために便用でき
る電@彼又は粒子線としては、通常の写真¥L剤が感光
するあらゆる電磁波又は粒子線が利用口」能である。M
llち町祝光糾、紫外線、7.3μ上り下の赤外線、X
線、力/マ線及び電子線、アルフエ線の如き粒子線が適
用できる。特に通常の万伝丁なわち、タングステン′−
灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アークナ1、炭来アー
ク灯、キセノンフラッシュ灯、ハロケンランプ、発光ダ
イオード、陰極線管フライングスポット、クローチュー
ブ々どの放電管、アルゴンレーザー等のレーザー元など
公知の多機の光源會いずれでも用いることができる。
る電@彼又は粒子線としては、通常の写真¥L剤が感光
するあらゆる電磁波又は粒子線が利用口」能である。M
llち町祝光糾、紫外線、7.3μ上り下の赤外線、X
線、力/マ線及び電子線、アルフエ線の如き粒子線が適
用できる。特に通常の万伝丁なわち、タングステン′−
灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アークナ1、炭来アー
ク灯、キセノンフラッシュ灯、ハロケンランプ、発光ダ
イオード、陰極線管フライングスポット、クローチュー
ブ々どの放電管、アルゴンレーザー等のレーザー元など
公知の多機の光源會いずれでも用いることができる。
塵光時閣は771000秒から10秒の露光時間はもち
ろん、771000秒より知い*ft、、たとえはキセ
ノン閃光灯や陰極線管やレーザーft、を用いた//1
0 〜/// 0 秒の膓光會用いることもできるし
、50秒りり長いI!元を用いることもできる。必發に
応じて色フィルターで露光に用いられる光の分光組成を
調節することができる。
ろん、771000秒より知い*ft、、たとえはキセ
ノン閃光灯や陰極線管やレーザーft、を用いた//1
0 〜/// 0 秒の膓光會用いることもできるし
、50秒りり長いI!元を用いることもできる。必發に
応じて色フィルターで露光に用いられる光の分光組成を
調節することができる。
爽施例 L
ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共110体(t
o:ao)o、zy、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートo、tyおLびp−メトキシフェノール0.0
/を會メチルエチルケトン/≠21エチレンクリコール
モノメチルエーテルアセテート/参2およびシクロヘキ
サノンj2に浴解し、ミクロリスブラックCAIカーホ
ン)0゜tvl ミヒラーズケトンo、ootyを添加
したのち、小型分散機で分散し、下塗りポリエテレンテ
レフタレートフィルム上vc塗布し、膜#コμの重曾層
i得た。
o:ao)o、zy、ペンタエリスリトールテトラアク
リレートo、tyおLびp−メトキシフェノール0.0
/を會メチルエチルケトン/≠21エチレンクリコール
モノメチルエーテルアセテート/参2およびシクロヘキ
サノンj2に浴解し、ミクロリスブラックCAIカーホ
ン)0゜tvl ミヒラーズケトンo、ootyを添加
したのち、小型分散機で分散し、下塗りポリエテレンテ
レフタレートフィルム上vc塗布し、膜#コμの重曾層
i得た。
♂!モル憾の塩化銀、lタモル僑の臭化−からなるハロ
ケン化銀tセラチンを用いて調整し、通當の方法で硫賀
増感、金増感した。ノ・ロケン化釦粒子の平均粒径は0
.コOμm′T:あった。増感色素としてナタθmμに
感光極大會Mするメロシアニン色素で加え、過当な安定
剤、界面活性剤會カロえ史Vc表1に示した化付物全添
加し、その後で硬膜舜]としてゼラチン100f当り約
o、rtの!。
ケン化銀tセラチンを用いて調整し、通當の方法で硫賀
増感、金増感した。ノ・ロケン化釦粒子の平均粒径は0
.コOμm′T:あった。増感色素としてナタθmμに
感光極大會Mするメロシアニン色素で加え、過当な安定
剤、界面活性剤會カロえ史Vc表1に示した化付物全添
加し、その後で硬膜舜]としてゼラチン100f当り約
o、rtの!。
弘−ジインシアン酸トリレンを加えた感光917m2当
りO,コVの釦と0.Ifのゼラチン上官む様に、上記
のTL甘せの上に塗布して、塗膜試料ケ作製した。
りO,コVの釦と0.Ifのゼラチン上官む様に、上記
のTL甘せの上に塗布して、塗膜試料ケ作製した。
この試料r段差o、is(△togE)の階段ウェッジ
に密着せしめ、200ルツクスの白色タングステン光(
2160K)で1秒間繕光してη・ら、赤色の安全光の
下で下記の3J像液に、uo ’Cで30抄…]浸漬し
た。
に密着せしめ、200ルツクスの白色タングステン光(
2160K)で1秒間繕光してη・ら、赤色の安全光の
下で下記の3J像液に、uo ’Cで30抄…]浸漬し
た。
現儂俊、下記のエツチング液に20秒間浸漬した。
充分に水洗し、ノ・ロゲン化鋏乳剤層および未露光S(
未重合部)の1合層を溶出し、黒色の車付体−It得た
。
未重合部)の1合層を溶出し、黒色の車付体−It得た
。
その後コkWの超高圧水銀灯金備えた紫外線照射fkf
llI會用いて、4jffiの距離から3分間全面照射
し皮。
llI會用いて、4jffiの距離から3分間全面照射
し皮。
実施例 2
特開昭ダ1−33り11号の方法により、機械的に砂目
型てされた。2s材アルミニウム@fl/LO0Cに保
たれたコ鳴の水酸化ナトリウム水溶液に1分間洗清し表
面の−Sを腐蝕した。水洗恢、硫酸−クロム酸fIj液
に約1分間浸漬して糾アルミニウムの表面會露呈した。
型てされた。2s材アルミニウム@fl/LO0Cに保
たれたコ鳴の水酸化ナトリウム水溶液に1分間洗清し表
面の−Sを腐蝕した。水洗恢、硫酸−クロム酸fIj液
に約1分間浸漬して糾アルミニウムの表面會露呈した。
300Cに保たれたコ04硫酸に浸漬し、直流電圧t、
zV、電流密度3に76m” の条件下で2分間陽極
酸化処理を行った債、水洗、乾燥した。
zV、電流密度3に76m” の条件下で2分間陽極
酸化処理を行った債、水洗、乾燥した。
次に、アルコール可溶性ナイロン(東しアミラン CM
−1000)0.If、 ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレートo、rt、ニトロセルロースθ、If、
p−メトキシフェノール0゜0 / f、 ミヒラー
ズケトンo、oory會メタノール20f、シクロヘキ
サノンjfに溶解し、上記のアルミニウム板に塗布した
。乾燥膜厚はλμであった。
−1000)0.If、 ジペンタエリスリトールへキ
サアクリレートo、rt、ニトロセルロースθ、If、
p−メトキシフェノール0゜0 / f、 ミヒラー
ズケトンo、oory會メタノール20f、シクロヘキ
サノンjfに溶解し、上記のアルミニウム板に塗布した
。乾燥膜厚はλμであった。
上記の1台層上に実施例1.と同じ感元敵會i m2当
りO,コOfの銀と0.39のゼラチンを含むように塗
布し、#!膜試料試料製作製。
りO,コOfの銀と0.39のゼラチンを含むように塗
布し、#!膜試料試料製作製。
この試料′It実施例1.と同様に露光し現像しエツチ
ングした。充分に水洗し、ノ・ロゲン化鋼乳剤層と未露
光S(未重合S)の重付St−浴出し、1合体1Ikl
像會得た。これ會、zkWの超^圧水銀灯ケ備えた紫外
−照射襞fillk用いてttcmの距離から3分関全
向照射した。
ングした。充分に水洗し、ノ・ロゲン化鋼乳剤層と未露
光S(未重合S)の重付St−浴出し、1合体1Ikl
像會得た。これ會、zkWの超^圧水銀灯ケ備えた紫外
−照射襞fillk用いてttcmの距離から3分関全
向照射した。
この処理済試料tノ・マダスターtoocD印刷機に装
着し、市販湿し水上用いて印刷したところzooo枚以
上の良好な印刷物1r得た。
着し、市販湿し水上用いて印刷したところzooo枚以
上の良好な印刷物1r得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ? ハロゲン化銀センサー型重合性感光材料と現俸処理しi
i!i儂を形成し次後、全面露光することを特徴とする
重合画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7563282A JPS58192032A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 重合画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7563282A JPS58192032A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 重合画像形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58192032A true JPS58192032A (ja) | 1983-11-09 |
| JPH0373852B2 JPH0373852B2 (ja) | 1991-11-25 |
Family
ID=13581815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7563282A Granted JPS58192032A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 重合画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58192032A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5001032A (en) * | 1988-02-08 | 1991-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material containing a photosensitive and heat developable element and a polymerizable layer and image-forming method utilizing the same |
| US5064744A (en) * | 1988-02-26 | 1991-11-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material and image forming method |
| US5073791A (en) * | 1989-07-27 | 1991-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
| US5260164A (en) * | 1988-02-26 | 1993-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material and image forming method |
| US5663032A (en) * | 1988-01-29 | 1997-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive composition containing photosensitive and heat developable element and polymer element and image-forming method utilizing the same |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149939A (en) * | 1979-04-05 | 1980-11-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Image forming method and photosensitive material used for it |
-
1982
- 1982-05-04 JP JP7563282A patent/JPS58192032A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149939A (en) * | 1979-04-05 | 1980-11-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Image forming method and photosensitive material used for it |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5663032A (en) * | 1988-01-29 | 1997-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive composition containing photosensitive and heat developable element and polymer element and image-forming method utilizing the same |
| US5001032A (en) * | 1988-02-08 | 1991-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material containing a photosensitive and heat developable element and a polymerizable layer and image-forming method utilizing the same |
| US5064744A (en) * | 1988-02-26 | 1991-11-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material and image forming method |
| US5260164A (en) * | 1988-02-26 | 1993-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material and image forming method |
| US5073791A (en) * | 1989-07-27 | 1991-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0373852B2 (ja) | 1991-11-25 |
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