JPS58198007A - 保護膜を有する回折格子 - Google Patents
保護膜を有する回折格子Info
- Publication number
- JPS58198007A JPS58198007A JP57080114A JP8011482A JPS58198007A JP S58198007 A JPS58198007 A JP S58198007A JP 57080114 A JP57080114 A JP 57080114A JP 8011482 A JP8011482 A JP 8011482A JP S58198007 A JPS58198007 A JP S58198007A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- relief
- diffraction grating
- grating
- refractive index
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はレリーフ（ロ）折格子において、その表面レ
リーフの形状を保護するための均一な保護膜を有する回
折格子に関する。
リーフの形状を保護するための均一な保護膜を有する回
折格子に関する。
均一な屈折率を有する透明媒實が場所により厚さを変え
、その茨直にレリーフ状の凹凸が作られているｌ回折格
子け、表面レリーフ回折格子と呼ばれる。糠にホトレジ
ストに干渉縞を記録して作られる１回折格子は、正弦波
状の凹凸を有し、入射光に対する１」折効率も高く、ポ
ログラムスキャナー等として利用される。
、その茨直にレリーフ状の凹凸が作られているｌ回折格
子け、表面レリーフ回折格子と呼ばれる。糠にホトレジ
ストに干渉縞を記録して作られる１回折格子は、正弦波
状の凹凸を有し、入射光に対する１」折効率も高く、ポ
ログラムスキャナー等として利用される。
このようなレリーフ回υず格子の衣（栢レリーフの形状
を保護するた、め、子板ガラヌ會載斬接着するガラスシ
ール法がある。すなわち、第１図に示すように、表面に
レリーフ１ｌＩｉ２を有する基板ｌ上に保躾用ガラス３
を載１ｉｆｔ Ｌ、周辺を接着剤４によってシールする
方法である。し７かし、この方法は、１呆謹用ガラス３
を接着する際に生ずる６カ歪みにより回折格子表面のレ
リーフ２がつぶれる欠点があり、呼だ、接着に部用する
接着剤４から発生するガスにより、回折格子戎面のレリ
ーフ２が破壊さね、る欠点も生じる口また接着なども手
間がかかり、回折格子としての゛直置も耐くなるという
問題もあった。
を保護するた、め、子板ガラヌ會載斬接着するガラスシ
ール法がある。すなわち、第１図に示すように、表面に
レリーフ１ｌＩｉ２を有する基板ｌ上に保躾用ガラス３
を載１ｉｆｔ Ｌ、周辺を接着剤４によってシールする
方法である。し７かし、この方法は、１呆謹用ガラス３
を接着する際に生ずる６カ歪みにより回折格子表面のレ
リーフ２がつぶれる欠点があり、呼だ、接着に部用する
接着剤４から発生するガスにより、回折格子戎面のレリ
ーフ２が破壊さね、る欠点も生じる口また接着なども手
間がかかり、回折格子としての゛直置も耐くなるという
問題もあった。
この発明け、レリーフ２上に１．９１折格子材料とほぼ
同じ屈νｆ率の１呆謹１良を設けることにより、上記の
欠点のないレリーフのｖＩＡｔａ層を有する回折格子會
１８ようとするものである。
同じ屈νｆ率の１呆謹１良を設けることにより、上記の
欠点のないレリーフのｖＩＡｔａ層を有する回折格子會
１８ようとするものである。
以下、図面を参照（７て詳細に説明する。
第２図は６明平板カラスｌ上に４与が正弦波伏に変化し
た透光匪叫脂層２が形成されたレリ・−フ（ロ）折格子
ケ示す。このような透過型レリーフＩＱＩ折格子はホロ
グラフィック技術により製作されるが、そのための光学
系４第３図に示す。
た透光匪叫脂層２が形成されたレリ・−フ（ロ）折格子
ケ示す。このような透過型レリーフＩＱＩ折格子はホロ
グラフィック技術により製作されるが、そのための光学
系４第３図に示す。
レーザ光源５からの光分レンズ６で下行光とし、対物レ
ンズ７でピンホール８ ＶＣ集束する。ピンホール８を
通過した発散光はレンズ９により再び下行光となる。こ
の下行光はピンホール８のフィルタリング効呆によりほ
ぼガウス分布状の強虻分布を儒゛する。分布補正蒸着フ
ィルタ１゜け逆ガウス分布の透過率を持ち、ガウス強変
分布ケ有する下行光が透過すると一様分布の下行光とな
る。この一様分布の下行光はビームスプリッタ１１で２
つの光Ｗ、に分割され、１′）け反射＠１２で他方は反
射＠１３で反射され、共にガラス基板１上に塗布された
ホトレジスト２上に菫なり合うように照射される。この
ようにすれば、ホトレジスト２上でけ２つの光束は干渉
し、ψ１暗の縞を形成し、ホトレジスト２はこの明暗の
縞に応じて感光する。ホトレジストとしてポジタイプの
ものを用いた場合は、光照射後、現１埃処哩を行なえば
感光したＩＷ分／バ除去され、第２図のような正弦技法
のレリーフが形成される。
ンズ７でピンホール８ ＶＣ集束する。ピンホール８を
通過した発散光はレンズ９により再び下行光となる。こ
の下行光はピンホール８のフィルタリング効呆によりほ
ぼガウス分布状の強虻分布を儒゛する。分布補正蒸着フ
ィルタ１゜け逆ガウス分布の透過率を持ち、ガウス強変
分布ケ有する下行光が透過すると一様分布の下行光とな
る。この一様分布の下行光はビームスプリッタ１１で２
つの光Ｗ、に分割され、１′）け反射＠１２で他方は反
射＠１３で反射され、共にガラス基板１上に塗布された
ホトレジスト２上に菫なり合うように照射される。この
ようにすれば、ホトレジスト２上でけ２つの光束は干渉
し、ψ１暗の縞を形成し、ホトレジスト２はこの明暗の
縞に応じて感光する。ホトレジストとしてポジタイプの
ものを用いた場合は、光照射後、現１埃処哩を行なえば
感光したＩＷ分／バ除去され、第２図のような正弦技法
のレリーフが形成される。
この発明においては、第４図に示すように、保護用ガラ
スの代りに透明固体被膜１４によって回折格子２の表１
ｔｉ］會被覆している。
スの代りに透明固体被膜１４によって回折格子２の表１
ｔｉ］會被覆している。
この固体被膜として要求される粂汗は透明体であること
、その屈折率はホトレジストの屈折率と同程変であるこ
と、保護膜として気密囲（ですぐれ、ある程度の強度を
持つことである。
、その屈折率はホトレジストの屈折率と同程変であるこ
と、保護膜として気密囲（ですぐれ、ある程度の強度を
持つことである。
この粂１４：を満す材料として高分子物質、５ｉ０２７
などがある。Ｊｆｌを在市販のホトレジストの屈折率け
１６〜１７捏度であり、これにより製作されたレリーフ
回折格子に好適な保護膜材料の１し０をあげろと、屈折
率約１，６４のポリモノクロバラキシレンを・あけるこ
とが出来る。この高分子吻′−は蒸着法によって破膜を
形成することかで ・１きる。その１嘆阜が１回折
格子の溝の深さｈ以下であれば１回折格子の凹凸の形状
け（呆存出来る。
などがある。Ｊｆｌを在市販のホトレジストの屈折率け
１６〜１７捏度であり、これにより製作されたレリーフ
回折格子に好適な保護膜材料の１し０をあげろと、屈折
率約１，６４のポリモノクロバラキシレンを・あけるこ
とが出来る。この高分子吻′−は蒸着法によって破膜を
形成することかで ・１きる。その１嘆阜が１回折
格子の溝の深さｈ以下であれば１回折格子の凹凸の形状
け（呆存出来る。
回折格子の材料が異なり、その屈折率が変った場合は、
当然、固体被膜の材料の屈折率もそれに近（八ものを選
ば斥ければなら々い。比較的屈折率の低いＩＯＩ折格子
材料に対しては、屈折率が１４６の５１０２ を便う
ことが出来、これも蒸着法によパ］て被膜を作ることが
出来る。
当然、固体被膜の材料の屈折率もそれに近（八ものを選
ば斥ければなら々い。比較的屈折率の低いＩＯＩ折格子
材料に対しては、屈折率が１４６の５１０２ を便う
ことが出来、これも蒸着法によパ］て被膜を作ることが
出来る。
第１図は公知のガラスシール（′！″！１折格子の断面
図、第２図はレリーフ回折格子の断面図、第３図１しそ
の製作用光学系の光路図、第４図はこの発明の保朦被膜
ケ有するレリーフ回折格子の断面図 １：基板 ２：ホトレジスト・レリーフ層３：保護ガラ
ス ４：接着剤 ５：レーザ光源８：ピンホール ｌＯ
：逆ガウス分布袖正フィルタ ｌｌ：ビームスグリツタ
１４：蒸着固体保護膜 特許出顧へ 株式会社 リコー 出鵬人代理人 弁理士 佐 藤 文 男（ほか１
名）
図、第２図はレリーフ回折格子の断面図、第３図１しそ
の製作用光学系の光路図、第４図はこの発明の保朦被膜
ケ有するレリーフ回折格子の断面図 １：基板 ２：ホトレジスト・レリーフ層３：保護ガラ
ス ４：接着剤 ５：レーザ光源８：ピンホール ｌＯ
：逆ガウス分布袖正フィルタ ｌｌ：ビームスグリツタ
１４：蒸着固体保護膜 特許出顧へ 株式会社 リコー 出鵬人代理人 弁理士 佐 藤 文 男（ほか１
名）
Claims (1)
- 均一な屈折率の透光ケ四脂が、周期的に厚さが変化し、
ているレリーフ回折格子の表面に、上記透光１生働脂と
同程度の屈折率を持つ透明体により、表面レリーフの形
状を医存する程度の４与の均一な被覆を設けたことを特
徴とするレリーフ回折格子
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57080114A JPS58198007A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 保護膜を有する回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57080114A JPS58198007A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 保護膜を有する回折格子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58198007A true JPS58198007A (ja) | 1983-11-17 |
Family
ID=13709154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57080114A Pending JPS58198007A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | 保護膜を有する回折格子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58198007A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02143201A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Ricoh Co Ltd | ２重回折格子 |
| WO1999038040A1 (en) * | 1998-01-22 | 1999-07-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Phase mask for manufacturing diffraction grating, and method of manufacture |
| US6523963B2 (en) * | 2000-08-29 | 2003-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Hermetically sealed diffraction optical element and production method thereof |
| EP2149802A1 (en) * | 2008-07-28 | 2010-02-03 | Ricoh Company, Limited | Wavelength selection filter, filter unit, light source device, optical apparatus, and refractive index sensor |
| JP2012517610A (ja) * | 2009-02-09 | 2012-08-02 | オプタグリオ エス．アー．オ． | マイクロレリーフ構造 |
-
1982
- 1982-05-14 JP JP57080114A patent/JPS58198007A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02143201A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Ricoh Co Ltd | ２重回折格子 |
| WO1999038040A1 (en) * | 1998-01-22 | 1999-07-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Phase mask for manufacturing diffraction grating, and method of manufacture |
| US6200711B1 (en) | 1998-01-22 | 2001-03-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Phase mask for manufacturing diffraction grating, and method of manufacture |
| US6523963B2 (en) * | 2000-08-29 | 2003-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Hermetically sealed diffraction optical element and production method thereof |
| EP2149802A1 (en) * | 2008-07-28 | 2010-02-03 | Ricoh Company, Limited | Wavelength selection filter, filter unit, light source device, optical apparatus, and refractive index sensor |
| US8213083B2 (en) | 2008-07-28 | 2012-07-03 | Ricoh Company, Ltd. | Wavelength selection filter, filter unit, light source device, optical apparatus, and refractive index sensor |
| JP2012517610A (ja) * | 2009-02-09 | 2012-08-02 | オプタグリオ エス．アー．オ． | マイクロレリーフ構造 |
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