JPS58200260A - 加熱定着装置 - Google Patents

加熱定着装置

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Publication number
JPS58200260A
JPS58200260A JP8359582A JP8359582A JPS58200260A JP S58200260 A JPS58200260 A JP S58200260A JP 8359582 A JP8359582 A JP 8359582A JP 8359582 A JP8359582 A JP 8359582A JP S58200260 A JPS58200260 A JP S58200260A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistance layer
core
temperature
preventing film
offset preventing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8359582A
Other languages
English (en)
Inventor
Setsuo Soga
節夫 曽我
Tomohiro Oikawa
及川 智博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP8359582A priority Critical patent/JPS58200260A/ja
Publication of JPS58200260A publication Critical patent/JPS58200260A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/20Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
    • G03G15/2003Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
    • G03G15/2014Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
    • G03G15/2053Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
    • G03G15/2057Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fixing For Electrophotography (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子複写機またはファクタきりなどにおいて
トナー支持体のトナーを加熱および加圧してトナー支持
体に定着する加熱定着装置に関する。
従来から、加熱定着装置として、セラミック体中罠発熱
導体を埋設してなるセラミックヒータ−によりローラー
芯体を形成し、かつ、このローラー芯体の外表面にオフ
セクト防止膜を形成してなるものが知られている。
しかし、この加熱定着装置は、ローラー芯体の荷重に対
する強さが小さいのでp−ラー芯体を厚く形成する必要
があると共に発熱導体からセラミック体の外表面までの
厚゛さが薄くても50μm程度であるから、熱容量が大
きいため発熱導体に給電を開始してから所望の温度にな
るまでの温度立上がり時間が長くなり、発熱導体の温度
をオフセット防止膜の外表面の温度より充分に高くしな
ければならず、かつ、ローラー芯体の加工性が悪いとい
う欠点がある。
本発明の目的は、上述の欠点を解消することができる加
熱定着装置を提供することにある。
本発明の特徴は、超耐熱性ポリイミドからなる円筒状の
芯体と、この芯体の外表面に形成されていて給電により
発熱する抵抗層と、この抵抗層の外表面に形成されたオ
フセット防止膜とからなることにある。
以下に図示した1実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
第1図において符号1は円筒状の芯体な示している。こ
の芯体1は、超耐熱性ポリイミドで形成されている。従
来の加熱定着装置の芯体な形成するセラミックの曲げ強
度および引張強度がそれぞれ3〜8に9/d、5〜20
kg/−であるのに対し、上記芯体1を形成する超耐熱
性ポリイミドの曲げ強度および引張強度は35kg/−
であるので、芯体1の厚さは1闘〜3ml!程度である
。また、芯体1を形成する超耐熱性ポリイミドは加工性
、電気的絶縁性および断熱性が良好である。
上記芯体1の外表面には抵抗層2が形成されている。こ
の・抵抗1@2は、ニク四ムまたはタングステンなどの
金属をイオンプレーテインク方法などのメタライズ加工
方法により芯体1の外表面に形成される。この抵抗層2
の厚さは、50μm〜100μm程度である。
上記抵抗層、2の両端部を除く部分の外表面にはオフセ
ット防止膜3が形成されている。このオフセット防止膜
3は、テフロンまたはシリコンなどを抵抗層2の外表面
に塗布して形成される。このオフセット防止膜3の厚さ
は″7μm〜数10μm程度である。
上記抵抗層2の両端部には、銅またはメタリックカーボ
ンなどからなる電極4が形成されている。
これらの電極4には図示してない給電用ブラシを介L7
て電源回路が接続されており、この電源回路により給電
用ブラシおよび電極を介して抵抗層2に給電されるとジ
ュール熱が発生する。この抵抗層20発熱によりオフセ
ット防止膜3および芯体1が加熱される。
上記芯体1の両端部は回転軸5に固定されている。この
回転軸5は、図示してない駆動手段により所定方向へ回
転され、これと−緒に芯体1、抵抗層2およびオフセッ
ト防止膜3も回転される。
上記オフセット防止膜3に圧接するように加圧ローラー
(図示してない)が配置されている。
上記抵抗層2の発熱によりオフセット防止膜3の外表面
の温度が所定以上に保たれ、芯体1、抵抗層2、オフセ
ット防゛止膜3および加圧ローラーが回転されている状
態で、オフセット防止膜3と加圧ローラーの間にトナー
支持体がトナーをオフセット防止膜3の側に位置させて
挿入されると、トナーは加熱されて熔融されると共に加
圧されてトナー支持体に定着される。
本発明の加熱定着装置は、芯体が超耐熱性ポリイミドで
形成しているため荷重に対する強さが大きいから芯体の
厚さを薄くすることができると共に抵抗層の外表面に直
接にオフセット防止膜を形成しているから、熱容積・を
小さくすることができるので抵抗層に給電を開始してか
ら所望の温度になるまでの温度立上がり時間を短縮する
ことができ、抵抗層の温度をオフセット防止膜の温度よ
りあまり高くする必要がなく、かつ、芯体の加工性が良
好であるほか芯体の電気的絶縁性および断熱性も良好で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の加熱定着装置を示す横断面図、および
、第2図は同一1=加熱定着装置を示す縦断面図である
。 1・・・芯体、2・・・11r、抗1−13・・・オフ
セット防止膜 手続補正書(自発) 1.事件の表示   昭和57年特許願第83595号
2、発明の名称  加熱定着装置 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 住 所 東京都大田区中馬込1丁目3番6号名 称  
 (674)株式会社リコー代表者 大植武士 4、代理人 6、補正の内容 (1)明細書第3頁第17行〜第19行の「このオフセ
ット防止膜3の厚さは7μm〜数1:θμm程度である
。」を「このオフセット防止膜3をテフロンで形成する
場た、オフセット防止膜3をシリコンで形成する場合に
はこの厚さは300μm〜500μm程度である。」と
補正する。 (2)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 超耐熱性ポリイミドからなる円筒状の芯体と、この芯体
    の外表面に形成されていて給電により発熱する抵抗層と
    、この抵抗層の外表面に形成されたオフセット防止膜と
    からなることを特徴とする加熱定着装置。
JP8359582A 1982-05-18 1982-05-18 加熱定着装置 Pending JPS58200260A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8359582A JPS58200260A (ja) 1982-05-18 1982-05-18 加熱定着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8359582A JPS58200260A (ja) 1982-05-18 1982-05-18 加熱定着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58200260A true JPS58200260A (ja) 1983-11-21

Family

ID=13806838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8359582A Pending JPS58200260A (ja) 1982-05-18 1982-05-18 加熱定着装置

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JP (1) JPS58200260A (ja)

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