JPS58200546A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS58200546A JPS58200546A JP57083091A JP8309182A JPS58200546A JP S58200546 A JPS58200546 A JP S58200546A JP 57083091 A JP57083091 A JP 57083091A JP 8309182 A JP8309182 A JP 8309182A JP S58200546 A JPS58200546 A JP S58200546A
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- pellet
- copper
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- H10W70/411—Chip-supporting parts, e.g. die pads
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- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は安価で確実なペレット付けを行うことのできる
半導体装置に関するものである。
半導体装置に関するものである。
従来、半導体製品の製造過程において半導体ベレットを
リードフレームのタブ等のベレット取付面上に散り付け
る場合、ベレットのシリコン(Si)とベレット取付面
上の金(Au)との共晶を利用してペレット付けを行っ
てぃる@ ところが、金の価格の高騰によりペレット付けのコスt
が極めて高くなって米ており、この傾向は全資源の枯渇
により将来ますます深刻化して行くものと考えられる。
リードフレームのタブ等のベレット取付面上に散り付け
る場合、ベレットのシリコン(Si)とベレット取付面
上の金(Au)との共晶を利用してペレット付けを行っ
てぃる@ ところが、金の価格の高騰によりペレット付けのコスt
が極めて高くなって米ており、この傾向は全資源の枯渇
により将来ますます深刻化して行くものと考えられる。
そこで、金のようκ高価な材料を用いることなくペレッ
ト付けを行なうために様々な提案がなされており、その
1つとして半田を用いる方式がある。半田は金忙比べて
はるかに安価な材料であり、ペレット付は性能から見て
も非常に有望なものである。
ト付けを行なうために様々な提案がなされており、その
1つとして半田を用いる方式がある。半田は金忙比べて
はるかに安価な材料であり、ペレット付は性能から見て
も非常に有望なものである。
しかしなから、半田材料を用いることにも間鵬点がない
わけではない。すなわち、半田は鉛(Pb)とすず(S
n)との合金で、その融点が非常に低く、たとえばPb
50%,Sn50%の半田合金の融点は213℃である
。
わけではない。すなわち、半田は鉛(Pb)とすず(S
n)との合金で、その融点が非常に低く、たとえばPb
50%,Sn50%の半田合金の融点は213℃である
。
そのため、半田を用いてペレット付けをした場合、その
後のワイヤボンディング時やノくツケージの刺止時にた
とえば350℃以上の高温で加勢さVる際に半田が溶融
し、ペレッ}K対して圧着力が加えられるとベレットの
位置がずれてしまう等(7’)問題があった。
後のワイヤボンディング時やノくツケージの刺止時にた
とえば350℃以上の高温で加勢さVる際に半田が溶融
し、ペレッ}K対して圧着力が加えられるとベレットの
位置がずれてしまう等(7’)問題があった。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、安価
な半田材料を使用して確実なペレット付けを行ない、ワ
イヤボンディング時等にペレット付は位置のずれを生じ
ることのない半導体装置を提供することにある。
な半田材料を使用して確実なペレット付けを行ない、ワ
イヤボンディング時等にペレット付は位置のずれを生じ
ることのない半導体装置を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明は半田中に銅を混入し
、半田の融点を上げることを%像とするものである。
、半田の融点を上げることを%像とするものである。
以下、本発明を図面に示す一実施例にしたがって詳細に
説明する。
説明する。
第1図は本発明により銅を少量混入させた半田材料でペ
レット付けを行なった半導体装置のペレット取付部の部
分断面図である。
レット付けを行なった半導体装置のペレット取付部の部
分断面図である。
本実施例において、リードフレーム1のタブ2の上には
、シリコンよりなる半導体ペレット4が半田3を用いて
ペレット付けされている。そして、半導体ペレット4の
ポンディングパッド(電極部)はアルミニウム(Aりの
ワイヤ5により前記リードフレーム1のインナーリード
部6と電気的に接続されている。その後、ペレット取付
部はたとえばセラミック材料等よりなる)くツケージ0
)中に気密刺止される。
、シリコンよりなる半導体ペレット4が半田3を用いて
ペレット付けされている。そして、半導体ペレット4の
ポンディングパッド(電極部)はアルミニウム(Aりの
ワイヤ5により前記リードフレーム1のインナーリード
部6と電気的に接続されている。その後、ペレット取付
部はたとえばセラミック材料等よりなる)くツケージ0
)中に気密刺止される。
本実施例では、ペレット付けのために用(・もれている
半田3は鉛とすすに少量の銅を混入し、その融点をたと
えば350℃以上、660℃以下f)範囲まで上げるよ
うにしたものである。
半田3は鉛とすすに少量の銅を混入し、その融点をたと
えば350℃以上、660℃以下f)範囲まで上げるよ
うにしたものである。
すなわち、この場合の鋼の含有率は第2図f)状塾図に
おい℃半田の融点が350℃以上、660″C以下にな
る範囲で選ばれている。この場合σン350℃の下限値
はリードフレーム1の加熱温度を基準とし、また660
℃の上限偽はワイヤボンディング用のワイヤとしてアル
ミニウムワイヤを用(・た場合の熱圧着時のアルミニウ
ムの融点を基準とした、ものである。
おい℃半田の融点が350℃以上、660″C以下にな
る範囲で選ばれている。この場合σン350℃の下限値
はリードフレーム1の加熱温度を基準とし、また660
℃の上限偽はワイヤボンディング用のワイヤとしてアル
ミニウムワイヤを用(・た場合の熱圧着時のアルミニウ
ムの融点を基準とした、ものである。
したがって、この場合には、銅の含有率は約1〜4原子
% (AtomiC−) テアル。
% (AtomiC−) テアル。
また、アルミニウムワイヤを用いない場合等の条件を考
慮に入れると、銅の含有率&1好ましく(家l〜2原子
嘩である0 その結果、本実施例においては、ペレット付は後K ハ
ラケージの気密刺止やワイヤボンディングのために35
0℃以上の高温で加熱された場合でも、半田3が溶融し
て半導体ペレット4の位置がずれるようなことは防止さ
れる。
慮に入れると、銅の含有率&1好ましく(家l〜2原子
嘩である0 その結果、本実施例においては、ペレット付は後K ハ
ラケージの気密刺止やワイヤボンディングのために35
0℃以上の高温で加熱された場合でも、半田3が溶融し
て半導体ペレット4の位置がずれるようなことは防止さ
れる。
以上説明したように、本発明によれば、半田中に銅を所
定量混入することにより、半田の融点を上げ、ワイヤボ
ンディング時等のペレット付は位置のずれを防止し、安
価で確実なペレット付けを行なうことができろう
定量混入することにより、半田の融点を上げ、ワイヤボ
ンディング時等のペレット付は位置のずれを防止し、安
価で確実なペレット付けを行なうことができろう
第1図は本発明により鋼を混入した半田でペレット付け
を行った半導体装置のペレット取付部の部分断面図、 第2図は銅の含有率と融点の関係郷な示す図である。 1・・・リードフレーム、2・・・タブ、3・・・半田
、4・・・半導体ペレット、5・・・ワイヤ、6・・・
インナーリード部7 代理人 弁理士 薄 1)利 幸 第1図 第 2 図 鉛(オf・*〕
を行った半導体装置のペレット取付部の部分断面図、 第2図は銅の含有率と融点の関係郷な示す図である。 1・・・リードフレーム、2・・・タブ、3・・・半田
、4・・・半導体ペレット、5・・・ワイヤ、6・・・
インナーリード部7 代理人 弁理士 薄 1)利 幸 第1図 第 2 図 鉛(オf・*〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体ベレットを半田によりベレット取付面上に取
り付けてなる半導体装置において、半田の中に銅を混入
させたことを特徴とする半導体装置。 2、半田中の銅の含weが1〜4Jr(子チであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3 半田中の銅の含有率が1〜2原子チであることを特
徴とする特許請求の範囲第2項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083091A JPS58200546A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083091A JPS58200546A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58200546A true JPS58200546A (ja) | 1983-11-22 |
Family
ID=13792505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57083091A Pending JPS58200546A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58200546A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4622205A (en) * | 1985-04-12 | 1986-11-11 | Ibm Corporation | Electromigration lifetime increase of lead base alloys |
| JP2008235898A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Infineon Technologies Ag | パワー半導体モジュール、パワー半導体モジュールの製造方法、および、半導体チップ |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5036225B1 (ja) * | 1970-03-02 | 1975-11-21 | ||
| JPS5424826B2 (ja) * | 1975-11-25 | 1979-08-23 | ||
| JPS5653996Y2 (ja) * | 1977-08-17 | 1981-12-16 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57083091A patent/JPS58200546A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5036225B1 (ja) * | 1970-03-02 | 1975-11-21 | ||
| JPS5424826B2 (ja) * | 1975-11-25 | 1979-08-23 | ||
| JPS5653996Y2 (ja) * | 1977-08-17 | 1981-12-16 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4622205A (en) * | 1985-04-12 | 1986-11-11 | Ibm Corporation | Electromigration lifetime increase of lead base alloys |
| JP2008235898A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Infineon Technologies Ag | パワー半導体モジュール、パワー半導体モジュールの製造方法、および、半導体チップ |
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