JPS5820224A - ガス中の水銀の除去方法 - Google Patents

ガス中の水銀の除去方法

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JPS5820224A
JPS5820224A JP56118981A JP11898181A JPS5820224A JP S5820224 A JPS5820224 A JP S5820224A JP 56118981 A JP56118981 A JP 56118981A JP 11898181 A JP11898181 A JP 11898181A JP S5820224 A JPS5820224 A JP S5820224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mercury
adsorbent
gas
activated carbon
water
Prior art date
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Pending
Application number
JP56118981A
Other languages
English (en)
Inventor
Seizo Inaba
稲葉 誠三
Hideki Imazu
今津 英輝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Unitika Ltd
Original Assignee
Unitika Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP56118981A priority Critical patent/JPS5820224A/ja
Publication of JPS5820224A publication Critical patent/JPS5820224A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガス中の水銀の除去方法KWIIするもので
ある。
大気中に含まれる水銀は、労働、衛生的立場より水銀C
@する許容量0.05 Qld kt下に管1すること
が必要であり、最近の全書規制の強化に伴ない次第に厳
しい管理を要求されるようになっているのが現状である
。このような背景のもとで、水銀法ツーダニ場や水銀灯
あるいは水銀温度計などの製造工場で水銀ガスの処理を
必要としている拳特に水銀法食撫電解ブーセスで得られ
る水素ガス中には、水銀を含み、これは微量でも有機化
合物の接餉環尤などに水素を使用する場合、論媒毒とな
るため、あらトじめ**することが必要である・その他
にも、冶金工場、IIi化ビ=ル製造工場の焼却ガス中
の水銀また。汚水処理場の余剰汚泥の鋳却tx中に存在
する水銀の処IIが問題となっている。
従来、ガス中の水銀輪*に関しては、冷却して水銀を微
粒子W−凝−して−(、深冷−麹法が知られているが、
ガスを冷却するため、巨大な冷凍設備を必要とする欠点
がある。別C填素又は有効填素を會む食塩水で水銀含有
ガスを洗浄する樵素水洗浄法とか遥マンyy*倉ツー流
鍛属舎廖液の水銀吸着−を裏層した水fIIIft!中
へのガス状水銀の吸収方法も提案されているが、樵票に
よる再汚#とか設備、経済性と1%に種々9問題点があ
る。
一方、吸着剤をMいる方決は、a持が■単で。
ある程度大容量のガスCも適用できる等の利点を有する
が、吸着剤として、吸着能力の高いすぐれたものを要求
される。たとえば、lIi着剤として。
活性炭を使用する鳩舎、吸着青命が短(、吸着−も低い
ため、工業的な使用には、不適当である。
また、活性度に塩酸とか硫酸という鉱酸を10数優担持
させた吸着剤とか塊化カルシウム等の無機塩を担持させ
た吸着剤とかで亜硫酸ガス、硫化水素などでガス処理し
た方法、さらにキレート剤。
有機アミン壜、第2水銀樵を担持させた吸着剤で処理す
る数多くの方法が提案されているが、未だ。
充分なる条件を満足する吸着剤が、得られていないのが
実情である。特に、溶液中の水銀はイオン交換樹脂、キ
レート樹脂でほぼ完全に除去できてもガス中の水銀を容
品な手段でしかも十分に効果的に除去する吸着剤は確立
されておらず、ガス中の水銀を吸着させようとするとほ
とんど水銀を吸着除去できず、もっばら溶液中の水銀の
吸着にのみ効果を発揮するものであった。
先に本出願人は、活性度を水浴性アミンと二硫化炭素で
処理してなる吸着剤を提案したく特開昭55−1598
55号)、この吸着剤は0重金属、特に水銀に賞して高
い選択性と吸着容量にすぐれ。
かつ吸着剤の寿命がすぐれており、特に溶液中の水銀を
除去するために用いられて%1%る。
そこで1本発明者らは、ガス中の水銀の除去方法につい
て鋭意研究した結果、先に提案した活性度を水溶性アミ
ンと二硫化炭素で処理してなる吸着剤が、*ス中に含ま
れる水銀を著しく効果的に除失しうろことを見い出し9
本発明を兜成した。
すなわち1本発明は、ガス中の水銀を吸着剤を用いて除
去するに際し、吸着剤として、活性度を水溶性アミンと
二硫化炭素で処理してなる吸着剤を用いることを特徴と
するガス中の水銀の除去方法である。
本発明に用いる吸着剤を得るには、特開昭55−159
855号会報によって得ることができる。この場合、活
性度としてはいかなるものであってもよいが、特にヤV
穀炭で比較的、低温で賦活されたものが、水銀ガス吸着
能が高く好適である。これは、恐らくヤV穀巌が石lI
e系にくらべ、鉄分#1少ないこと及び酸性基の憂い低
温賦活脚のVチオカルバ竜ン酸誘導体に対する吸着率の
高−ことに起因するものと思われる。また、l1着剤の
粒度番よ。
通ガス速度、圧力損失を支配する重要な因子であり、4
〜60メツVユ、411C4〜BメツV工が好適である
。また、水溶性アミンとは0分子中に少な(とも1傭の
第1級及び第2級アミノ甚を含み。
水に対する溶解度が少なくとも511有するものをいい
、そのような具体例としては、ヒドラジン。
エチレンVアミン、ブーピレンVアミン、グチVンジア
ミン、Il−フエ=レンVアミン、屋舎(論: p  
90 : 10〜10 : 90 )Il、p−キvv
ンジアミン、ピペツジン等のVアミン、デービルアミン
ブチルアミン、アニリン、ベンジルアミン等の屹ノアミ
ン及びジエチレントリアミン、ト!エチVンテトフミン
、テトフエチVンベンタミン並びにその同馬体であるI
9エチVンイミン等があげらt’Lルが、 特Cll1
シエチVンイミンが好重しい、また、水溶性アミンと二
硫化炭素の活性*C対する添着率は、活性厳重量の1〜
40優、特c5〜2511が好ましい。
本発明を実施するには、たとえば、活性度を水溶性アミ
ンと二硫化炭素で%理した吸着剤を内径25J111I
#)オツ五に充填層高が200−となるように充填し、
好ましくは、ガラスウーA/濾過器で水銀ミストを厭り
除いた後、水銀を含むガスを20〜150C,好ましく
は、20〜70℃で接触させればよい、この場合、たと
えば、水銀1〜15M1/dを含むガスを、たとえば、
遥ガス速度500〜40001/hTで充填層に通過せ
しめると、ガス中の水銀濃度を0.05雫〜以下に減少
させることができる。
本発明Cおいて、たとえば、水銀法アルカl塩電解で得
られる水素ガス、水銀決γμ力111電解スタッフプか
ら発生する廃ガスに適用することができ、その他の空気
、i1素、m化水素ガス中の水銀の除去r−−適用する
ことができる。
本発明によれば、ガス中に含まれる水銀を効率よく除去
することができ、吸着剤が長時間の使用にも十分に酎え
うるもので、実用的である。
次E!l!施例により本発明を具体的に説明する。
参考例1 活性1M(第1炭素工業製、4〜8メツV工、ヤF**
、破砕状) 5 Q lllFm濃度約50優f)19
xチレンイミン(工II!ミン@ p −1000,E
1本触媒化学工業製) 250 fを加え、室温で2時
間攪拌してから、活性炭を濾別した。その後、イオン交
換水250tを加え、攪拌しながら、二硫化炭素8.5
−を仕込み、そのまま室温で0.5時間攪拌し、温度を
40℃にあげ、1時間熟成した。さらに。
75℃まで昇温し、4時間熟成し、熟成後、約s5℃ま
で冷却し、濾別した。これに熱水185fを加え、洗浄
濾別し、この操作を21!!l繰り返した。
その後、減圧下80Cで12時間乾燥して、吸着剤を得
た。得られて吸着剤のI9エチVンイミンと二硫化炭素
の吸着量は約15重量優であった。
実施例1.比較例1 参考例1で得た吸着剤300−をカフム径251のカラ
五に充填(充填層高的204−)した、そのカフふに水
銀蒸気を含む空気(水銀濃度的9.0岬/I/)を遥ガ
ス速度16 j/winで表1に示す時間通過させて通
過後の水銀濃度を測定した(ガス申の水銀濃度の測定に
は、冷原子吸光法によりllIwlした。)。
その結果を表1に示す。
また、比較のため、未処壊の活性炭を用いて同様に行な
った結果も表1に示す。
表1 実施例2 水銀含有水素ガス(水銀濃度的10.01117W )
を接触させる以外は実施例1とまったく同様にして表2
に示す時間通過させて通過後の水銀濃度を測定した。
その結果を表2に示す。
表2

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス中の水銀を吸着剤を用いて除去するに際し、
    吸着剤として、活性炭を水溶性ア颯ンと二硫化縦索で処
    理してなる吸着剤を用いることを特徴とするガス中の水
    銀の**方法。
JP56118981A 1981-07-28 1981-07-28 ガス中の水銀の除去方法 Pending JPS5820224A (ja)

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