JPS58207903A - 膜の洗浄方法 - Google Patents

膜の洗浄方法

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Publication number
JPS58207903A
JPS58207903A JP9193482A JP9193482A JPS58207903A JP S58207903 A JPS58207903 A JP S58207903A JP 9193482 A JP9193482 A JP 9193482A JP 9193482 A JP9193482 A JP 9193482A JP S58207903 A JPS58207903 A JP S58207903A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
membrane
resin
cleaning
module
beads
Prior art date
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Pending
Application number
JP9193482A
Other languages
English (en)
Inventor
Takatoshi Shimomura
下村 隆敏
Kiminari Nakamura
中村 公成
Mitsuaki Tanaka
田中 光昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58207903A publication Critical patent/JPS58207903A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は膜分離特性の回復法、より詳しくは液体の濃縮
、精製、脱塩なと広範囲に応用されている逆浸透、限外
濾過等の膜分離法において使用する半透膜の膜面上に形
成される汚染層を除去し、半透膜の透水性能、物質排除
能を高く保つための膜洗浄方法に関するものである。
現在逆浸透膜や限外濾過で半透膜の透水性能、物質排除
能が膜面汚染のため1こ低下した場合の性能回復法とし
ては、半透膜の形状、処理対象液等によって種々異なる
が、いくつかの方法がとられている。
例えば、スポンジボールによる機械的洗浄、薬品による
汚染層除去、処理する液を高速で流して液体の乱流によ
って膜面汚染層を除去する方法、あるいは一定時間の加
圧運転後圧力を抜いて半透膜の外側から内側・\液体の
浸透圧による逆流により膜面上に形成された汚浄層を除
去する方法などがある。
ま、た、できるだけ性能低下を起さないようにする方法
として液中に存在する懸濁物を精密なフィルターを通し
て前処理して膜面に汚染層が形成されないようにする方
法もある。
しかし、膜性で液体を処理する場合、例え液中に存在し
ている微少な懸濁物質を除去しても溶解している主とし
て有機性の低分子および高分子物質などが半透膜表面上
に蓄積して、膜の透水性能、物質排除能を低下させるが
、かかる現象は膜性においては避けられないことである
また、逆浸透法の場合使用する半透膜は強酸性または強
アルカリ性の液には比較的弱いため、前2って中性付近
にph;I!1kをする必要があるか、この場合にはア
ルカリ性では溶は易い物質か中性液中で運転中↓とモジ
ュール内で析出して膜面に付着することもある。
以上述べた汗染層除去方法のうち、スポンジボールを用
いた1械的洗浄法が最も直接的でかつ効果的な方法であ
るが、この方法は管状型構造で管状支持体の内面に半透
膜を形成せしめ1:いわゆる真正型管状モジュールにし
か適用しに(いこと、洗浄時に711)rlりの圧力損
失か生じ動力費がかかることなどの問題があった。
本発明者らはかかる状況に鑑み鋭意検討した結果、内圧
型管状モジュールのみならず、管状支持体の外面に半透
膜を形成せしめたいわゆる外圧型賞状モジュール 平板
状の膜を使用したプレートアンドフレーム型モジュール
にも適用可能で、しかも洗浄時の圧力損失のきわめて少
ない機械的洗浄法を発明した。
すなわち、本発明は半透膜を利用した膜分離法において
、半透膜を装着したモジュール内にビーズを含有した液
体を供給することにより半透膜の膜面上に形成された汚
染層を除去することを特徴とする膜の洗浄方法に関する
本発明においては洗浄方法は限外濾過膜または逆浸透膜
を用いた内圧型管状モジュール、外圧型管状モジュール
またはプレートアンドフレーム型モジュールに金属、無
機物、樹脂またはゴムのビーズを添加した液体を供給し
て膜面に形成した物質をビーズに擦り取らせるものであ
る。
使用するビーズは洗浄対象の膜を損傷しないために密度
が余り大き過ぎない範囲のものを使用し、好ましくは洗
浄用に供給する液体の密度の0.8ないし1.5倍の範
囲のものを使用するのか望ましい。更に好ましくはモジ
ュール内に供給する液体の密度の1.0ないし1゜2倍
の範囲にあるものが当該液体に分散し易くより適当であ
るー。
洗浄対象の膜を損傷しjζくいビーズの材質としては次
のものが土げられる。すなわち熱可塑性樹脂であるポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂
、アクリロニトリル−スチレン−ブタジェン樹脂、アク
リロニトリル−スチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リメチルメタアクリルFC!脂、ナイロン樹脂、ポリア
セタール樹脂、ポリカーボネート圀脂、ポリスルホン樹
脂、ポリエステル樹脂、等のいずれかを主成分として含
有するもの、または前記樹脂のいずれかのものの共重合
体を主成分として含有するものまたは熱硬化性樹脂であ
るエポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂
、フェノール樹脂等のいずれかを主成分として含有する
ものまたは天然ゴムまトは合成ゴムであるスチレンブタ
ジェンゴム、クロロプロピレンゴム、ニトリルゴム、シ
リコシゴム、エチレンプロピレンゴム、弗素コム等のい
ずれかを主成分として含有するものなどである。
ビーズはその最大粒子の粒径がモジュール内の被処理液
の流絡め間隔中、最小部分よりも小さいものを使用する
必要がある。更にその最大粒径は流路最/j)間隔の1
15ないし3/4倍の範囲でモジュールの形態、汚染の
状況、使用ポンプの仕様等により選択するのが好ましい
。ビーズの最大粒径が大き過ぎるとモジュール流路に閉
幕し易く、ポンプ流送も困難になることがあるので、こ
の範囲が望ましい。
なお、汚染の状況によってはモジュールの被処理液入口
配管から空気等の気体をビーズを添加した供給成体に吹
き込んでモジュール内のど一ズの流れに変化を与える方
法をとってもよい。
供給液体中のビーズ添加量はモジュールの形態及び汚染
層の状況によって0.1ないし5゜0重量パーセントの
範囲で適当な濃度を選択する1 ビーズが添加量がこの
範囲より多いと流路に閉寒し易く、少ないと洗浄効果が
得にくいっ 洗浄時間は30分ないし1時間の範囲が適当である。
以上の本発明の洗浄方法により膜面に形成した汚染物質
が除去され膜の透ボ性能及び物質排除性能が回復する。
本発明の洗浄方法は従来の機械的洗浄方法のスポンジボ
ールによる洗浄方法が適用できなかった外圧型管状モジ
ュール及びプレートアンドフレーム型モジュールにも適
用することができる特徴がある。
本発明の実施例を以下に示す。ただし本発明はこの実施
例に限定されるものではない。
この実施例は次の仕様のモジュールをエマルジョン廃液
処理に約200時間使用し、それを本発明の方法で洗浄
したものである。
使用モジュール仕様 型式   外圧型管状モジュール(使用膜:ポリアクリ
ロニiリル膜) 膜有効面積 1.13v 処理液流路 断面積0.75al!、最小流路間隔2鱈
このモジュールの使用前及び使用後の性能は次のとおり
であった。
使用性能:水道過量  90.5 1/lri e H
r食塩排除率 90,1 % 使用後性能:水道過量  67.91/vd @ Hr
食塩排除率 85.6% なお、モジール性能は0.5%重量パーセントの食塩水
を用い装置圧は50Kg/−一01食塩水の流量6e/
Hr、同液温度25℃の条件で透過水の量及び食塩濃度
を測定し、次により算出したものである。(以下同じ) 前記の汚染モジュールの洗浄は次の洗浄条件で実施した
洗浄条件 洗浄液  水 添加ビーズ 材質 :アクリロニトリルーブタジェンな
い粒径のビーズ 添加量 :2.5重量パーセント 流量6 z/min 洗浄時間 30分 その結果洗浄後のモジュール性能は次のとおりで、性能
がほぼ使用前の性能に回復した。
洗浄後性能:水道過量 87.2  t/vd ・Hr
食塩排除率 88.1 % −

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (])半透膜を利用した膜分離法において、半透膜を装
    着したモジュール内にビーズを含有した液体を供給する
    ことにより半透膜の膜面上に形成される汚染物を除去す
    ることを特徴とTる膜の洗浄方法。 (2)半透膜が限外−過膜または逆浸透膜である特許請
    求の範囲第1項記載の洗浄方法。 (3)  モジュールが管状型構造またはプレートアン
    ドフレーム型構造のものである特許請求の範囲第1項記
    載の膜の洗浄方法。 (4)管状型構造が管状支持体の外面に半透膜を形成で
    しめたものである特許請求の範囲第3項記載の洗浄方法
    、っ (5)  管状型構造が管状支持体の内面に半透膜を形
    成せしめたものである特許請求の範囲第3項記載の洗浄
    方法 (6)  ビーズがその密度がモジュール内に供給載の
    膜の洗浄方法。 (7)  ビーズがその密度がモジュール内に供給する
    液体の密度の1.0ないし1.2 @の範囲にある特許
    請求の範囲第6項に記載の膜の洗浄方法っ (8)  ビーズが熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または
    ゴムのいずれか、もしくはそれらの混合物から構成され
    たものである特許請求の範囲第1項記載の膜の洗浄方法
    。 (9)  熱可塑性樹脂がポリエチレン樹脂、ポリプロ
    ピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−ス
    チレン−ブタジェン樹脂゛アクリロニトリル−スチレン
    樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレン・タアクリル
    樹脂、ナイロン樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネー
    ト、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂のいずれかを
    主成分として含有するもの、または前記樹脂のいずれか
    のものの共重合体を主成分として含有するものである特
    許請求の範囲第8項記載の膜の洗浄方法− (lO)熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、ポリエステル
    樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂のいずれかを
    主成分として含有するものである特許請求の範囲第8項
    の膜の洗浄方法。 (11)  コムが天然ゴム、スチレンブタジェンゴム
    、クロロブレンゴム、ニトリルゴム、シリコンコム、エ
    ナレンプロピレンゴム、弗素ゴムのいずれかを主成分と
    して含有するものである特許請求の範囲第8項記載の膜
    の洗浄方法。 0匂 ビーズが、その最も大きい粒子の粒径がモジュー
    ル内の被処理液流路の最小間隔よりも小さいものである
    特許請求の範囲第1項記載の膜の洗浄方法。 (13ビーズが、その最も大さい粒子の粒径力・モジュ
    ール内の被処理液流路の最小間隔の115ないし3/4
    倍で、るる特許請求の範囲第12項記載の膜の洗浄方法
    。 a4i  ビーズを含有した液体が気体を混入したもの
    である特許請求の範囲第1項記載の膜の洗浄方法。 (15)  ビーズを含有した液体中のビーズの含有量
    が0.1ないし5重量パーセントである特許請求の範囲
    第1項記載の膜の洗浄方法。
JP9193482A 1982-05-28 1982-05-28 膜の洗浄方法 Pending JPS58207903A (ja)

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JPS58207903A true JPS58207903A (ja) 1983-12-03

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0697459A3 (de) * 1994-08-19 1997-01-15 Muhammed Dr Rer Nat Refai Verfahren zur Intensivierung von Waschprozessen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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