JPS5821337B2 - 情報記録媒体原盤の製作方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 例えば、テレビジョン映像信号のような広い周波数帯域
を有する所要な情報信号の記録再生のたンめの記録媒体
の１つとして、情報信号を高い記録密度で記録できるよ
うにした円盤状の情報記録媒体（情報記録円盤）が使用
されることがあり、前記の所要な情報信号の記録再生に
使用される情報記録円盤としては、無溝形態のものと有
溝形態の１ものとのそれぞれのものが知られている。

そして、有溝形態の情報記録円盤は、それに記録されて
いる情報信号を再生する際に、その溝をガイド溝として
その溝中にガイド針を辿らせながら再生動作を行なわせ
ることができるので、複雑；な構成のトラッキングサー
ボ系などのサーボ系を必要としないなどの利点があるた
めに、各種の情報記録再生方式で採用されることが多い
。

ところで、有溝形態の情報記録円盤を得るための原盤と
して使用される情報記録媒体原盤は、従来、例えばそれ
ぞれ次のような製作方法などの適用によって作られてい
た。

すなわち、情報記録媒体原盤の従来の製作方法は、その
１つとして、表面が平滑に仕上げられた状態の円盤状基
体における上記の表面に、カッタ□針によって渦巻状の
ガイド溝を機械的に切削してから、その表面へ光及びま
たは電子ビームに感応するようなビーム感応材の薄膜を
被着させ、前記のビーム感応材の薄膜における溝中に、
記録すべき状報信号により強度変調された光ビームまた
は電子ビーム（以下、単にビームという）によって情報
信号の記録を行ない、次いで現像処理を施こすことによ
り、前記したビーム感応材の薄膜における溝中に情報信
号と対応した凹凸記録の形成された情報記録媒体原盤を
得るようにした方法であり、また、別の従来法としては
、表面が平面状の円盤状基体の表面にビーム感応材の薄
膜を被着形成させ、前記のビーム感応材の薄膜に対して
、ビーム感応材の薄膜に設けられるべきガイド溝上対応
する信号と、ガイド溝中に記録されるべき情報信号とが
重畳された状態の信号によって強度変調が行なイっれた
ビームをあてて、次いで現像処理を施こすことにより、
前記したビーム感応材の薄膜に、記録すべき情報信号と
対応した凹凸を有するガイド溝を備えた情報記録媒体原
盤を得る方法があるが、前記した従来法の内の前者の方
法では、円盤状基体に溝を作るのに機械的な切削手段を
適用しているために、円盤状基体を低速回転の状態とし
て溝の切削を行なうことが必要とされるから、溝切削の
効率が低く、また、溝の切削のために溝切削用の専用機
が必要である他、溝の切削に使用されるカッタ針の寿命
が短かいなどの欠点を有し、さらに、カッタ針が固定の
ために円盤状基体の面振れによって溝形状が変化して溝
のピッチが不均一になり、再生不安定の状態をひき起こ
すなどの問題があり、他方、前記した従来法の内の後者
の方法では、情報記録媒体原盤を効率よく製作できると
いう利点を有してはいるが、出来上がったガ。

イド溝と、ガイド溝中における記録すべき情報信号と対
応した凹凸上の何れもが安定せず、それにより再生不安
定の状態を引き起こすという欠点があった。

本発明は、上記した従来法におけるような欠点、のない
情報記録原盤の製作方法を提供するものであって、以下
、添付図面を参照しながらその内容を具体的に説明する
。

第１図は、情報記録媒体原盤の素材として用いられる円
盤状基体Ａの一部の縦断側面図であり、。

前記の円盤状基体Ａとしては、例えばガラス板などが用
いられる。

第２図は、前記した第１図示の円盤状基体Ａの表面に、
いわゆるポジティブ型のビーム感応材により０．６μｍ
〜１．０μｍ程度の厚さの薄膜Ｂを被う蓋形成させた状
態のものの一部の縦断側面図である。

上記したポジティブ型のビーム感応材としては、米国シ
ップレイ社のＡＺ−４３５０レジストを使用してもよく
、この場合、円盤状基体Ａの表面に所要の一様な厚さに
被着させたレジストに対しては、温度７５℃の雰囲気中
で約１時間のベーキングを行なう。

次に、第２図示のように、円盤状基体Ａの表面にビーム
感応材の薄膜Ｂが被着形成されたもののビーム感応材の
薄膜Ｂに対して、約１μｍ〜５μｍのスポット径となる
ように集束制御されたビームによって所定のピッチ約２
μｍ〜６μｍの渦巻状ノに走査する。

上記のビームによる渦巻状の走査は、円盤状基体とビー
ムとの相対的な運動によって行なわれるものであり、例
えば、回転を行ないながら一定の方向に移動する円盤状
基体と、前記の円盤状基体の移動する範囲内における特
定な１個所１を常に照射するようになされた固定のビー
ムとの組合わせにより、あるいは、例えば、一定の場所
で回転運動だけを行なうようになされた円盤状基体と、
前記の円盤状基体の径方向に移動しながら円盤状基体を
照射するようになされたビームとの；組合わせにより、
もしくは、その他公知の適当な手段によって容易に行な
われる。

前記のようにして感応材よりなる薄膜Ｂに対して所定の
ピッチの渦巻状の走査部と対応する部分が円盤状基体Ａ
の表面が露出するまで現像処理すると、薄膜Ｂには所定
の断面形状を備えた渦巻溝状の除去部１，１・・・形成
される。

第３図ａ、ｂ図は、それぞれ前記のような現像処理工程
を経て、感応材よりなる薄膜Ｂに形成される渦巻溝状の
除去部１，１・・・が、各異なる断面形状を備えている
ものの縦断側面図であり、第３図ａ図示のものにおいて
はその渦巻溝状の除去部１．１・・・がコ字状の断面形
状を有しており、また、第３図す図示のものにおいては
、その渦巻溝状の除去部１，１・・・が台形状の断面形
状を有しているものとして示されている。

渦巻溝状の除去部１，１・・・の断面形状は、例えば、
光ビームを用いて渦巻状の走査を行なった場合を例に挙
げて説明すると、露光量の増大に従って、円盤状基体２
の表面からの反射により半円状→コ字状→台形状のよう
に変化する。

また、円盤状基体Ａが透明なガラス板で構成されている
場合には、その裏面側からバイアス光を照射することに
よっても、露光量を増大させた光ビームによる走査の場
合と同様な断面形状の渦巻溝状の除去部１．１・・・が
形成される。

上記のように、所定の断面形状を有する渦巻溝状の除去
部１，１・・・が感応材の薄膜Ｂに形成されたものには
、次に、蒸着、あるいはスパッタリング、その他適癌な
手段を用いて、その上面側（感応材の薄膜Ｂが被着され
ている側）へ適当な金属または酸化物もしくは絶縁物の
薄膜Ｃを第４図ａｂ図に示すように被着させる。

前記した適当な金属または酸化物もしくは絶縁物の薄膜
Ｃは、例えば、その厚さが０．６μｒｒｒ−１μｍ程度
であり、それは感応材の薄膜Ｂの上面部分と感応材の薄
膜Ｂにおける渦巻溝状の除去部１，１・・・の底部に露
出した円盤状基体Ａの表面部分との２部分に完全に分離
した状態でそれぞれの部分へ付着された状態となされる
ことが望ましく、この点からすれば感応材の薄膜Ｂに形
成させる渦巻溝状の除去部１，１・・・の断面形状を、
第３図す図示のように台形状のものとした方が、適当な
物質を蒸着その他の手段によって薄膜Ｃとして付着させ
る時に、前記の２つの部分に付着する薄膜Ｃの分４離状
態が一層良好なものとなり易いために、感応材の薄膜Ｂ
に形成させる渦巻溝状の除去部１，１・・・とじては、
その断面形状が第３図ａ図示のようにコ字状のものより
も、第３図す図示のように台形状のものであった方が好
ましいのである。

シ第４図ａ、ｂ図においては薄膜Ｃが２つの部分に
完全に分離された状態のものとして図示されているが、
実際には円盤状基体Ａの表面に残された感応材の薄膜Ｂ
の側面にも、薄膜Ｃの厚さの１／１００〜１／１０程度
の厚さの極く薄い膜が！付着されることを避けることが
できない。

しかし、前記した極く薄い膜の部分は機械的強度が極め
て弱く、したがって、次の工程においてビーム感応材の
薄膜Ｂが溶解除去される際に自動的に切断除去されるの
で、薄膜Ｃは実質的に第４５図ａ、ｂ図示のように２つ
の部分に完全に分離されているものとして扱ってもよい
。

第４図ａ、ｂ図示のように、適当な物質の薄膜Ｃが感応
材の薄膜Ｂの上面部と、感応材の薄膜Ｂにおける渦巻溝
状の除去部１，１・・・の底部に露出。

しだ円盤状基体Ａの表面部発走の２部分に分離した状態
で付着されている状態のものは、次に、ビーム感応材の
みを溶解させうるような溶剤によって、ビーム感応材の
薄膜Ｂが溶解除去されて、第５図ａ、ｂ図示のように、
円盤状基板への表面部分に付着された適当な物質による
薄膜Ｃだけが残されて、円盤状基体Ａへ前記したような
適当な物質の薄膜による渦巻状の突起Ｃ１が付着形成さ
れた状態のものが得られる。

いうまでもなく、この第５図ａ、ｂ図中に示されている
渦巻状の突起℃１は、第４図ａ、ｂ図中に示されている
感応材の薄膜Ｂにおける渦巻溝状の除去部１，１・・・
の底部に露出した円盤状基体Ａの表面に付着されていた
適１当な物質の薄膜Ｃそのものである。

次に、上記した第５図ａ、ｂ図示の状態のものの上面側
に所定の粘度、例えば粘度が５ＣＰ程度の流動性を有す
るビーム感応材の薄膜りを被着して、このビーム感応材
の薄膜の上面に滑らかな表面状態を呈する渦巻状の溝Ｅ
、すなわちガイド溝Ｅを形成させる。

この状態を第６図ａ、ｂ図に示す。

上記したビーム感応材の薄膜りによって、その表面に渦
巻状のガイド溝Ｅを形成させる具体的手段の一例を説明
すると次のとおりである。

すなわち、第５図ａ、ｂ図示のような状態のものの上面
に、粘度が５ＣＪｍ度の流動性を有するビーム感応材、
例えば米国シソプレイ※社のＡＺ−１３５０レジストを
塗布した後に、円盤状基体Ａ （３００ｍｍ、ｇ）を５
０Ｏｒｐｍで約１分間回転させて、余分なビーム感応材
を除去した後に、回転数を急に５〜１０ ｒｐｍ に下
げて、適当に気密が保たれた容器中で１５分〜３０分間
回転させて、ビーム感応材の薄膜りの表面に滑らかな表
面状態のガイド溝Ｅが形成されるようにし、次いで、７
５℃の雰囲気中で約１時間にわたってベーキング処理を
椎こすのである。

このようにして、薄膜りに形成させるガイド溝Ｅは、そ
れの山と谷との間が約０．２μｍ〜０５５μｍであり、
またガイド溝Ｅの谷の部分と円盤状基体Ａの表面との間
が０．０５μｍ以上のものとなるようにする。

上記のように構成されたもののガイド溝Ｅ中に、情報信
号によって強度変調が姉こされた適当なスポット径を有
するビームをあてて情報信号の記録を行ない、次いで現
像処理を行なえば、渦巻状のガイド溝Ｅ中に情報信号と
対応した凹凸状の記録が柿こされた情報記録媒体原盤が
得られる。

第７図は渦巻状のガイド溝Ｅ中に情報信号と対応した凹
凸状の記録が椎こされた情報記録媒体原盤のごく一部の
斜視図である。

本発明の情報記録媒体原盤の製作方法では、上述したよ
うに複数の工程を経て、第５図示の状態のものを得て、
それにビーム感応材による薄膜りを被着して所要の滑ら
かな表面状態を備えた渦巻状のガイド溝Ｅを形成させた
のであるが、例えば第５図ａ、ｂ図示のような状態のも
のを、上述した本発明方法の場合よりも少ない工程で得
ようとして、例えは、円盤状基体Ａの一面に適当な金属
の薄膜を付着し、その上にフォトレジストを塗布し、そ
れを光で渦巻状に走査し、フォトエツチング法によって
円盤状基体Ａ上に適当な金属の薄膜による渦巻状の突起
を設けるということも考えられるのであるが、この方法
を採用した場合には、いわゆるサイドエツチング効果に
よって、円盤状基体Ａ上に形成される渦巻状の突起の縁
部がギザギザになり、特に、金属の薄膜の厚さが０．６
μｍ〜１μｍというように、エツチング処理によって除
去すべき部分の巾の寸法に近づいた場合には、形成。

された渦巻状の突起の縁部のギザギザが著しくなり、い
ずれにしても、それにビーム感応材の薄膜を被着形成さ
せても、ビーム感応材の薄膜には表面状態の清めらかな
ガイド溝を形成させ得ないので、このような方法は採用
できないのである。

以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明の情報記録媒体原盤の製作方法によれば、その表面に
滑らかな表面状態を呈する良好な形状の渦巻状のガイド
溝Ｅが形成されたビーム感応材の薄膜りが容易に形成さ
れるので、この原盤を基にして作られた情報記録円盤も
、そのガイド溝が良好な形状の渦巻状で、かつ、良好な
表面状；態を呈するものとなるので、そのガイド溝中に
凹凸によって記録されている情報信号が、常に安定に再
生できるのであり、本発明方法によれば、既述した従来
法における諸問題点がすべて良好に解決されるのである
。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図ａ、ｂ図〜第６図ａ。 ｂ図は、本発明の情報記録媒体原盤の製作方法における
各製作工程の説明に使用する縦断側面図、第７図は情報
記録媒体原盤の一部の拡大斜視図である。 Ａ・・・・・・円盤状基体、Ｂ、Ｄ・・・・・・ビーム
感応材の薄膜、Ｃ・・・・・・適当な物質の薄膜、Ｅ・
・・・・・ガイド溝、ＣＩ・・・・・・渦巻状の突起、
１・・・・・・渦巻溝状の除去部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 上表面にビーム感応材の薄膜を被着させた円盤状基
   体における前記のビーム感応材の薄膜を、ビームによっ
   て渦巻状に走査して後に現像処理を行ない、前記したビ
   ーム感応材の薄膜に所定の断面形状を備えた渦巻溝状の
   除去部を形成させる工程と、前記の工程を経て得たもの
   の上面側に適当な金属または酸化物もしくは絶縁物の薄
   膜を付着形成させる工程と、ビーム感応材のみを溶解さ
   せる溶媒による処理によって円盤状基体の上表面に、前
   記した適当な金属または酸化物もしくは絶縁物の薄膜に
   よる渦巻状の突起が付着形成された状態のものを得るよ
   うにする工程と、前記の工程を経て得たものの上面側に
   所定の粘度を有する流動性のビーム感応材の薄膜を被着
   し、前記のビーム感応材の薄膜の上面側に滑らかな表面
   状態を呈する渦巻状の溝を形成する工程と、前記のビー
   ム感応材の薄膜の上面側に形成された渦巻状の溝を記録
   すべき情報信号によって強度変調されているビームによ
   って走査した後に現像処理することにより、前記の溝内
   に記録すべき情報信号による凹凸を形成させる工程とか
   らなる情報記録媒体原盤の製作方法。