JPS58219994A - ばつ気槽内溶存酸素の監視制御方法 - Google Patents
ばつ気槽内溶存酸素の監視制御方法Info
- Publication number
- JPS58219994A JPS58219994A JP57103651A JP10365182A JPS58219994A JP S58219994 A JPS58219994 A JP S58219994A JP 57103651 A JP57103651 A JP 57103651A JP 10365182 A JP10365182 A JP 10365182A JP S58219994 A JPS58219994 A JP S58219994A
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- water
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
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- Activated Sludge Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、下水処理場活性汚泥プロセスにおけるばつ気
槽の溶存酸素の監視制御方法に関するものである。
槽の溶存酸素の監視制御方法に関するものである。
従来の活性汚泥プロセスにおける監視制御の構成例をオ
１図に示す。同図において（１）−はばつ気槽、（ｌａ
）〜（ｌｃ）は各回路、（２）は最終沈殿池、 （８ａ
） 〜（８ｃ ）は散気装置、（４１は送気量制御パル
プ、（６）は汚泥引抜ポンプ、（６）は返送汚泥量制御
パルプ、（））は余浄汚泥引抜パルプ、（８←（８ｃ）
は流入下水径路、（９）は処理水径路を示す。
１図に示す。同図において（１）−はばつ気槽、（ｌａ
）〜（ｌｃ）は各回路、（２）は最終沈殿池、 （８ａ
） 〜（８ｃ ）は散気装置、（４１は送気量制御パル
プ、（６）は汚泥引抜ポンプ、（６）は返送汚泥量制御
パルプ、（））は余浄汚泥引抜パルプ、（８←（８ｃ）
は流入下水径路、（９）は処理水径路を示す。
ｕａは溶存酸素計、 ｔ＋Ｑは活性汚泥濃度（ＭＬ８Ｅ
＋）計、Ｈは演算器、（１８ａ）は溶存酸素濃度設定器
、（１８ｂ）はＭＬ８８設定器、（ｘ＋ａ）。
＋）計、Ｈは演算器、（１８ａ）は溶存酸素濃度設定器
、（１８ｂ）はＭＬ８８設定器、（ｘ＋ａ）。
（１４ｂ）は指示調節器である。
次に動作について説明する。流入下水は（８ａ）〜（８
Ｃ）を経て、ばつ気槽（１）に導入され、ここで活性汚
泥微生物と混合ばつ気されることにより生物的に浄化さ
れ、最終沈殿池（２１を経て処理水径路（９）から排出
される。
Ｃ）を経て、ばつ気槽（１）に導入され、ここで活性汚
泥微生物と混合ばつ気されることにより生物的に浄化さ
れ、最終沈殿池（２１を経て処理水径路（９）から排出
される。
このばつ気槽内の特定地点に浸漬した溶存酸素計（ｌα
の計測値と、設定器（１８ａ ）によυ設定された溶存
酸素目標値とを、演算器０２１に入力し。
の計測値と、設定器（１８ａ ）によυ設定された溶存
酸素目標値とを、演算器０２１に入力し。
その出力を調節器（１４ａ）に入力し、送気量制御パル
プ（４）を調節し、ばつ気槽への送気量を制御すること
により、溶存酸素濃度を一定に保つ。
プ（４）を調節し、ばつ気槽への送気量を制御すること
により、溶存酸素濃度を一定に保つ。
一方、同様に浸漬したＭＬ８Ｅ！計（Ｉｌ）の計測値は
同様の操作を経て、返送汚泥量制御パルプ（６）を調節
し、ばり気槽内のＭＬ８Ｂを所定の値に保つ。余浄汚泥
は引抜パルプ（７）を経て排出される。
同様の操作を経て、返送汚泥量制御パルプ（６）を調節
し、ばり気槽内のＭＬ８Ｂを所定の値に保つ。余浄汚泥
は引抜パルプ（７）を経て排出される。
従来の活性汚泥プロセスの監視制御は以上のように構成
されているので、水質計器の保守点検に際しては、ばつ
気槽の設置場所までおもむき９作業する必要がある。
されているので、水質計器の保守点検に際しては、ばつ
気槽の設置場所までおもむき９作業する必要がある。
このため、複数地点に水質計器を設置したり。
複数のばつ気槽施設を有する下水処理場では。
作業者が、各設置点を点検して廻らねばならず。
保守作業に相当の労力を必要とするなどの欠点があった
。
。
本発明は、従来のものの欠点を除去するためになされた
もので、ばつ気槽内の被測定液を自動採水し、受水槽に
導入し、ここに県中的に取付けられた水質計器でＭＬＳ
８や溶存酸素を監視制御しようとするもので、特に溶存
酸素の計測値から、ばつ気槽内の溶存酸素を推定する機
能を備えた監視制御方法を提供することを目的としてい
る。
もので、ばつ気槽内の被測定液を自動採水し、受水槽に
導入し、ここに県中的に取付けられた水質計器でＭＬＳ
８や溶存酸素を監視制御しようとするもので、特に溶存
酸素の計測値から、ばつ気槽内の溶存酸素を推定する機
能を備えた監視制御方法を提供することを目的としてい
る。
以下、この発明の一実施例を第２図にもとづいて説明す
る。同図において（１８ｃ）は設定器。
る。同図において（１８ｃ）は設定器。
Ｑｏは採水ポンプ、（１１ｔｉ受水槽ｓ （１７ａ）〜
（１７ｃ ）（１〜はパルプ、 ａｍはパルプ操作盤、
シ１は流量計測器である。なおその他の符号は第１図と
同一部分を示す・ ・・・
、つぎに本発明の作用について説明する。
（１７ｃ ）（１〜はパルプ、 ａｍはパルプ操作盤、
シ１は流量計測器である。なおその他の符号は第１図と
同一部分を示す・ ・・・
、つぎに本発明の作用について説明する。
活性汚泥プロセスにおける酸素消費は、微生物の内生呼
吸による酸素消費と汚泥基質であるＢＯＤ成分の酸化に
よる酸素消費の和として表わされる。これを酸素消費速
度式で示すと１１１式のようになる。
吸による酸素消費と汚泥基質であるＢＯＤ成分の酸化に
よる酸素消費の和として表わされる。これを酸素消費速
度式で示すと１１１式のようになる。
１ｈ−ａ、、−リ＋ｂ’ｌ［−−−一−−−−−−−−
−−−１１１ｔａｔ ここで、Ｉ 、 ｂｅは係数、ｌは基質、ＸはＭＬ８Ｂ
である。
−−−１１１ｔａｔ ここで、Ｉ 、 ｂｅは係数、ｌは基質、ＸはＭＬ８Ｂ
である。
一方、下水処理場などの場合、基質除去速度上は、近似
的に（り式の一次式で示されるｔ ” −−−−−−−−ｆｉｌｔ ここで１．にけ速度定数である （１）、（２１式より ｄｏ、 。
的に（り式の一次式で示されるｔ ” −−−−−−−−ｆｉｌｔ ここで１．にけ速度定数である （１）、（２１式より ｄｏ、 。
一＝＝ａ、ｋＸｊ＋ｂ’Ｘ−−−−−−−−−−−−１
３１ｔ 本発明者等は、下水処理場での実測調査例から、 ａ’
に＝ ０．００８． ｂ’ ｘ Ｏ，１ｇを得た。下水
処理場では、ばつ気槽内の基質は一般に比較的低濃度で
あり１例えばＢＯＤ ” ８１）Ｉ）ｍとすると、（３
１式の右辺オー環はオニ項の値の７．５％となり近似的
に無視出来る。
３１ｔ 本発明者等は、下水処理場での実測調査例から、 ａ’
に＝ ０．００８． ｂ’ ｘ Ｏ，１ｇを得た。下水
処理場では、ばつ気槽内の基質は一般に比較的低濃度で
あり１例えばＢＯＤ ” ８１）Ｉ）ｍとすると、（３
１式の右辺オー環はオニ項の値の７．５％となり近似的
に無視出来る。
ところで、溶存酸素を自動採水装置内の受水槽で計測す
る場合、採水地点から、計測地点オでの採水管路内での
酸素消費を考慮する必要がある。これはさきの（３）式
より Δ０１ ｙ （ａ’、に、 ｊ＋’ｂ’） Ｘ・Δｔ
＃ １）’、Ｘ、Δｔ−−−−−−− １４１採水装置
の採水流量をＱ、管路長をり、管径をＤとすると Δｔ＝πぜ”／＋ｃ＋、 −−−”−＋＋＋＋＋＋−−
−−−−−−− １１ｓｌ＋４１ 、 ＋５１式より整
理すると ΔＯＩ＃γ、ｂ″、に一一−−−−＝−−−−−−−−
−−−（６１ここでγは採水装置の特性にもとづく修正
係数。
る場合、採水地点から、計測地点オでの採水管路内での
酸素消費を考慮する必要がある。これはさきの（３）式
より Δ０１ ｙ （ａ’、に、 ｊ＋’ｂ’） Ｘ・Δｔ
＃ １）’、Ｘ、Δｔ−−−−−−− １４１採水装置
の採水流量をＱ、管路長をり、管径をＤとすると Δｔ＝πぜ”／＋ｃ＋、 −−−”−＋＋＋＋＋＋−−
−−−−−−− １１ｓｌ＋４１ 、 ＋５１式より整
理すると ΔＯＩ＃γ、ｂ″、に一一−−−−＝−−−−−−−−
−−−（６１ここでγは採水装置の特性にもとづく修正
係数。
またｂ＃工πＤ ｂ、ｂ／である・
これより、採水地点の溶存酸素濃度Ｄｏ、 、受水槽内
計測地点のそれをＤｏ、とすると５次式で採水点の濃度
を算出可能となる。
計測地点のそれをＤｏ、とすると５次式で採水点の濃度
を算出可能となる。
＃ Ｘ
Ｄｏ、 ｆｆｉ ：ｏｏｓ＋γ、１３・−−一呻−−−
−−−−−−−−−−（７１すなわち、ＭＬ８Ｂ計の計
測値Ｘ、採水流量Ｑ。
−−−−−−−−−−（７１すなわち、ＭＬ８Ｂ計の計
測値Ｘ、採水流量Ｑ。
および定数γ・ｂ“が与えられると、 Ｄｏ、を算出で
きる。
きる。
牙８図は本発明の水質監視システムの一実施例であるが
、これにもとづいて動作の説明を以下性なう。
、これにもとづいて動作の説明を以下性なう。
ばつ気槽内の各回ｗ！１（ｌａ）〜（ｌａ）の被測定液
は採水ポンプ輛および操作盤綽の指令にもとづいて順次
動作されるパル・プ（１７ａ ）〜（１７ａ）との作用
によシ順次、受水槽−に導入され同槽内に設置された溶
存酸素計（ｌＯ，とＭＬｒＢＢ計（＋１１により、自−
動計測され、演算器０埴に入力される。
は採水ポンプ輛および操作盤綽の指令にもとづいて順次
動作されるパル・プ（１７ａ ）〜（１７ａ）との作用
によシ順次、受水槽−に導入され同槽内に設置された溶
存酸素計（ｌＯ，とＭＬｒＢＢ計（＋１１により、自−
動計測され、演算器０埴に入力される。
−万Ｑけ採水流量計−によシ、γ・ｂ“は定数設定器（
１８０）によシ、それぞれ演算器に入力され、ここで、
採水地点の溶存酸素を演算する。
１８０）によシ、それぞれ演算器に入力され、ここで、
採水地点の溶存酸素を演算する。
演算結果は、指示調節器（１４ａ）を介して、送気量制
御パルプ（４１を操作し、溶存酸素を一定に制御する。
御パルプ（４１を操作し、溶存酸素を一定に制御する。
なお、パルプｔｔＳは被測定液の採水地点が順次切換る
のに応じて、受水槽重”の液を排出するための弁である
。
のに応じて、受水槽重”の液を排出するための弁である
。
第８図は１本発明を構成する他の実施例である。同図に
おいて、＠υは採水ポンプの回転数制御用操作盤である
。同図において、採水地点は一点であるが、採水ポンプ
の回転数制御等に゛よシ、採水流量をばり気槽の状態が
一定となる短い時間で変化させ、その間の受水槽の計測
値変化から、ばつ気槽の溶存酸素を演算推定する機能を
備えたものである。すなわち、ばつ気槽の状態が変化し
ない間、Δを時間において、流量をｑ ｔｔｌからＱ（
ｔ＋Δｔ）に変化させた時、溶存酸素計ｆｆ１ｌ １ｍ
ＲＤＯｓｉｔ）からＤｏｓＣｔ＋Δｔ）に変化したと
すると（８）式を得る。
おいて、＠υは採水ポンプの回転数制御用操作盤である
。同図において、採水地点は一点であるが、採水ポンプ
の回転数制御等に゛よシ、採水流量をばり気槽の状態が
一定となる短い時間で変化させ、その間の受水槽の計測
値変化から、ばつ気槽の溶存酸素を演算推定する機能を
備えたものである。すなわち、ばつ気槽の状態が変化し
ない間、Δを時間において、流量をｑ ｔｔｌからＱ（
ｔ＋Δｔ）に変化させた時、溶存酸素計ｆｆ１ｌ １ｍ
ＲＤＯｓｉｔ）からＤｏｓＣｔ＋Δｔ）に変化したと
すると（８）式を得る。
ＤＯ，ｔｔｌ−ＤＯＩ（ｔ＋Δｔ ）−（ＤＯ＊ｔｔｌ
−ＤｏｔＣｔ＋Δ１））γｂ“ここで、ばり気槽の状態
が定常とすると、上式左辺はゼロとして取扱える。した
がってこのことは、γ・ｂ＃に関する外部設定器はなく
１ても、演算器内で自動的に７ ＊ ｂ”を演
算し、これ −にもとづいて、採水地点の溶存酸素濃度
を推定できることを示している。
−ＤｏｔＣｔ＋Δ１））γｂ“ここで、ばり気槽の状態
が定常とすると、上式左辺はゼロとして取扱える。した
がってこのことは、γ・ｂ＃に関する外部設定器はなく
１ても、演算器内で自動的に７ ＊ ｂ”を演
算し、これ −にもとづいて、採水地点の溶存酸素濃度
を推定できることを示している。
この方法は、ばつ気槽をＭＬ８８一定制御をかけている
状、Ｓでは微生物呼吸に伴なう酸素消費は一定であるの
で、一層安定した推定を行なうことができる。
状、Ｓでは微生物呼吸に伴なう酸素消費は一定であるの
で、一層安定した推定を行なうことができる。
なお、採水装置の採用に際しては、採水系統各部におけ
るスライム付着などが実用上問題とされているが１本発
明者らは、スライム付着防止機構を備えた採水装置を先
行技術として発明している。
るスライム付着などが実用上問題とされているが１本発
明者らは、スライム付着防止機構を備えた採水装置を先
行技術として発明している。
以上のように９本発明によれば、活性汚泥プロセスにお
ける主要監視制御項目である溶存酸素制御をサンプリン
グ計測にもとづいて、監視制御可能とし、かつ、ＭＬ８
Ｓ制御も同時にサンプリング計測で行なうため、水質計
器の保守作業が容易となシ、かつ一つの装置で多点計測
を可能とするため、監視制御の情報を多くとれるなどの
効果がある。
ける主要監視制御項目である溶存酸素制御をサンプリン
グ計測にもとづいて、監視制御可能とし、かつ、ＭＬ８
Ｓ制御も同時にサンプリング計測で行なうため、水質計
器の保守作業が容易となシ、かつ一つの装置で多点計測
を可能とするため、監視制御の情報を多くとれるなどの
効果がある。
第１図は従来の活性汚泥プロセス監視制御システム構成
例を示す図、第８図はこの発明の方法を実施するーシス
テム例を示す図、第８図はこの発明の方法を実施するシ
ステムの他の例を示す図である。図において、 ＋１１
７−−ばっ気槽。 ＋１２１−−一最終沈殿池、（８ａ）〜（８ｃ）−−一
散気装置、 ＋４１− ’−−送気量制御パルプ、 ＋
ｆｉｌ −−−汚泥引抜ポンプ、 ｔｅｌ −−一返送
汚泥量制御パルプ′’、’ ＋７１−−一余浄汚泥引抜
パルブ、 １１（１−−一溶存酸素計、（川−一一活性
汚泥濃度（ＭＬ８８）計。 ａ２１−−一演算器、（１８ａ）ｆ’＝−溶存酸素濃度
設定器、（１８に＋）−−−ＭＬ８８設定器、 （ｔ
＊ａ）＊（１４ｂ）−−一指示調節器、 Ｈ−−一採水
ポンプ、−−−−受水槽、−−−−操作盤、翰−−−流
量計、６１υ−ｍ−採水ポンプ回転数制御盤。 なお１図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 第２図 第８図 １フ
例を示す図、第８図はこの発明の方法を実施するーシス
テム例を示す図、第８図はこの発明の方法を実施するシ
ステムの他の例を示す図である。図において、 ＋１１
７−−ばっ気槽。 ＋１２１−−一最終沈殿池、（８ａ）〜（８ｃ）−−一
散気装置、 ＋４１− ’−−送気量制御パルプ、 ＋
ｆｉｌ −−−汚泥引抜ポンプ、 ｔｅｌ −−一返送
汚泥量制御パルプ′’、’ ＋７１−−一余浄汚泥引抜
パルブ、 １１（１−−一溶存酸素計、（川−一一活性
汚泥濃度（ＭＬ８８）計。 ａ２１−−一演算器、（１８ａ）ｆ’＝−溶存酸素濃度
設定器、（１８に＋）−−−ＭＬ８８設定器、 （ｔ
＊ａ）＊（１４ｂ）−−一指示調節器、 Ｈ−−一採水
ポンプ、−−−−受水槽、−−−−操作盤、翰−−−流
量計、６１υ−ｍ−採水ポンプ回転数制御盤。 なお１図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代理人 葛 野 信 − 第２図 第８図 １フ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＋１１ ばつ気槽内の被測定液を自動採水する手段、
採水流量計測手段、採水された被測定液を受水する受水
槽、仁の受水槽内の活性汚泥濃度（ＭＬＳ１３）を計測
するＭＬ８Ｅ＋計、および前記受水槽内の溶存酸素を計
測する溶存酸素計を備えた自動採水り質計測システムに
おいて。 上記ＭＬＢＢの計測値、溶存酸素計測値、および採水流
量計測値とからばっ気槽内の採水地点ゐ溶存酸素を演算
推定することにょシ。 ばつ気槽内の溶存酸素を監視制御することを特徴とする
ばつ気槽内済存酸素の監視制御方法。 （２１同一採水地点からの採水流量を採水ポンプの回転
数制御等により遂次変更して、 ＭＬ８ＥＩおよび溶存
酸素計測を行ない、これらの計測値から、ばつ気槽内の
採水地点の溶存酸素を演算推定することにより、ばつ気
槽内の溶存酸素を監視制御することを特徴とする特許−
求の範囲オ１項記載のばつ気槽内溶存酸素の監視制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57103651A JPS58219994A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ばつ気槽内溶存酸素の監視制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57103651A JPS58219994A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ばつ気槽内溶存酸素の監視制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58219994A true JPS58219994A (ja) | 1983-12-21 |
Family
ID=14359676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57103651A Pending JPS58219994A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | ばつ気槽内溶存酸素の監視制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58219994A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61237693A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 被熱転写シ−ト |
| US8568593B1 (en) * | 2009-06-02 | 2013-10-29 | Entex Technologies, Inc. | Anoxic system screen scour |
-
1982
- 1982-06-14 JP JP57103651A patent/JPS58219994A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61237693A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 被熱転写シ−ト |
| US8568593B1 (en) * | 2009-06-02 | 2013-10-29 | Entex Technologies, Inc. | Anoxic system screen scour |
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