JPS5822095B2 - アクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法 - Google Patents
アクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法Info
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- JPS5822095B2 JPS5822095B2 JP53106130A JP10613078A JPS5822095B2 JP S5822095 B2 JPS5822095 B2 JP S5822095B2 JP 53106130 A JP53106130 A JP 53106130A JP 10613078 A JP10613078 A JP 10613078A JP S5822095 B2 JPS5822095 B2 JP S5822095B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の
製法に関するものである。
製法に関するものである。
本発明の製法は、一般式（１）で示されるビスフェノー
ル化合物とアクリロイルハライドあるいはメタアクリロ
イルハライドを脱・・ロゲン化水素剤の存在下で、かつ
触媒量の第四級アンモニウム・・ライド、第四級アンモ
ニウムハイドロオキサイドあるいは第四級アンモニウム
基を分子内に有するアニオン交換樹脂の存在下で反応せ
しめることを特徴とする一般式（２）で示されるアクリ
ロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法である。
ル化合物とアクリロイルハライドあるいはメタアクリロ
イルハライドを脱・・ロゲン化水素剤の存在下で、かつ
触媒量の第四級アンモニウム・・ライド、第四級アンモ
ニウムハイドロオキサイドあるいは第四級アンモニウム
基を分子内に有するアニオン交換樹脂の存在下で反応せ
しめることを特徴とする一般式（２）で示されるアクリ
ロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法である。
（ただし、式中、ＸはＢｒ 、ＣＩ、 分岐または
直鎖低級アルキル基、ｍはＯ〜４の整数、ＹはＨまたは
ＣＨ３、 −ＣＯ−１−ＳＯ２−１−（ＣＨ２）ｂ＝、Ｒｊ、Ｒ２
はＣ，〜４の直鎖あるいは分岐鎖アルキル、Ｃ１、Ｂｒ
ｉたはＣＮ、ｂは１〜４の整フ）本発明において使用す
る一般式（１）で示されるビスフェノール化合物として
は、例えば４，４′ジヒドロキシジフエニルエーテル、
４，４ ジヒドロキシジフェニル、３．３’ ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４′ジヒドロキ
シジフエニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、４．４’ ジヒドロキシジフェニルス
ルホン、４．４’ ジヒドロキシジフェニルケトン、２
，２′ ジヒドロキシジフェニルメタン、２．２ビス（
４−ヒドロキシフェニル）プロパン。
直鎖低級アルキル基、ｍはＯ〜４の整数、ＹはＨまたは
ＣＨ３、 −ＣＯ−１−ＳＯ２−１−（ＣＨ２）ｂ＝、Ｒｊ、Ｒ２
はＣ，〜４の直鎖あるいは分岐鎖アルキル、Ｃ１、Ｂｒ
ｉたはＣＮ、ｂは１〜４の整フ）本発明において使用す
る一般式（１）で示されるビスフェノール化合物として
は、例えば４，４′ジヒドロキシジフエニルエーテル、
４，４ ジヒドロキシジフェニル、３．３’ ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４′ジヒドロキ
シジフエニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、４．４’ ジヒドロキシジフェニルス
ルホン、４．４’ ジヒドロキシジフェニルケトン、２
，２′ ジヒドロキシジフェニルメタン、２．２ビス（
４−ヒドロキシフェニル）プロパン。
２．２′ メチレンビス（４−エチル−６−タージャリ
ブチルフェノール）、４．４′チオビス（６−ターシャ
リブチル−ｍ−クレゾール）、４，４′ジヒドロキシ３
．３’５．５’テトラブロムジフエニルメタン、４．４
’ ジヒドロキシジフェニルジシアノメタン、２，２ビ
ス（４−ヒドロキシ３゜５ジブロモフエニル）プロパン
、４．４′ジヒドロキシ３．３’５．５’テトラブロム
ジフエニルスルホン、４，４ ジヒドロキシ３，３ ５
．５’テトラブロムジフエニルケトン、４，４ ジヒド
ロキシ３ 、３’ ５ 、５’テトラクロルジフエニル
メタン等が挙げられる。
ブチルフェノール）、４．４′チオビス（６−ターシャ
リブチル−ｍ−クレゾール）、４，４′ジヒドロキシ３
．３’５．５’テトラブロムジフエニルメタン、４．４
’ ジヒドロキシジフェニルジシアノメタン、２，２ビ
ス（４−ヒドロキシ３゜５ジブロモフエニル）プロパン
、４．４′ジヒドロキシ３．３’５．５’テトラブロム
ジフエニルスルホン、４，４ ジヒドロキシ３，３ ５
．５’テトラブロムジフエニルケトン、４，４ ジヒド
ロキシ３ 、３’ ５ 、５’テトラクロルジフエニル
メタン等が挙げられる。
これらの一般式〇）で示されるビスフェノール化合物は
、単独あるいは２種以上の混合の状態でも使用し得る。
、単独あるいは２種以上の混合の状態でも使用し得る。
次に、アクリロイルハライドあるいはメタアクリロイル
ハライドとしては、通常市販されているもので、例えば
アクリロイルクロライド、アクリロイルブロマイド、メ
タアクリロイルクロライド、メタアクリロイルブロマイ
ド等が挙。
ハライドとしては、通常市販されているもので、例えば
アクリロイルクロライド、アクリロイルブロマイド、メ
タアクリロイルクロライド、メタアクリロイルブロマイ
ド等が挙。
げられる。
次に溶媒としては、炭素数１〜６の直鎖ないし分岐アル
コール、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、塩化メ
チレン、トリクレン、四塩化炭素等の塩素系溶媒等が挙
げられる。
コール、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶媒、塩化メ
チレン、トリクレン、四塩化炭素等の塩素系溶媒等が挙
げられる。
溶媒の使用量は一般式（１）で示されるビスフェノール
化合物の１〜５倍量で充分である。
化合物の１〜５倍量で充分である。
次に脱ハロゲン化水素剤としては、ピリジン、ジエチル
アニリン、トリエチルアミン、トリアリルアミン等の三
級アミン、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化
カリウム等の苛性アルカリ等が挙げられる。
アニリン、トリエチルアミン、トリアリルアミン等の三
級アミン、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化
カリウム等の苛性アルカリ等が挙げられる。
本発明において使用する脱・・ロゲン化水素剤としては
、経済的理由から苛性アルカリを使用する方が望ましい
が、この場合一般式け）で示される化合物と苛性アルカ
リの反応によるフェノラート生成の際に生成する水が反
応収率に大きい影響がある。
、経済的理由から苛性アルカリを使用する方が望ましい
が、この場合一般式け）で示される化合物と苛性アルカ
リの反応によるフェノラート生成の際に生成する水が反
応収率に大きい影響がある。
したがって、一般式（１）で示されるビスフェノ−化合
物のフェノ−ラード生成時に副生ずる水をアクリロイル
ハライドあるいはメタアクリロイル・・ライド滴下前に
溶媒により共沸留去するが、無水芒硝、無水硫酸マグネ
シウム等の脱水剤？加え除くことが望ましい。
物のフェノ−ラード生成時に副生ずる水をアクリロイル
ハライドあるいはメタアクリロイル・・ライド滴下前に
溶媒により共沸留去するが、無水芒硝、無水硫酸マグネ
シウム等の脱水剤？加え除くことが望ましい。
この場合、使用する無水芒硝、無水硫酸マグネシウムの
使用量は結晶水として水を吸着する量の１．１倍程度で
充分である。
使用量は結晶水として水を吸着する量の１．１倍程度で
充分である。
また使用する背中アルカリの量は、滴下するアクリロイ
ルハライドあるいはメタアクリロイルハライドと等モル
で良いが、反応系内が酸性となるのを防止し、加水分解
を防ぐため、苛性アルカリに対し１０係以下の炭酸ンー
ダー、炭酸カリ、重炭酸カリあるいは重炭酸ソーダを添
加する。
ルハライドあるいはメタアクリロイルハライドと等モル
で良いが、反応系内が酸性となるのを防止し、加水分解
を防ぐため、苛性アルカリに対し１０係以下の炭酸ンー
ダー、炭酸カリ、重炭酸カリあるいは重炭酸ソーダを添
加する。
次に本発明に使用する触媒である第四級アンモニウムハ
ライド、第四級アンモニウム基・イドロオキサイド、第
四級アンモニウム基を分子内に有するアニオン交換樹脂
としては、テトラメチルアンヒニウムプロマイド、トリ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、オクチルトリメチルア
ンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムハイ
ドロオキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムハイ
ドロオキサイド、アンバーライト、ＩＲＡ４００（オル
ガ株式会社製イオン交換樹脂）、アンバーライトＩＲＡ
４］０（オルガ株式会社製イオン交換樹脂）等が挙げら
れる。
ライド、第四級アンモニウム基・イドロオキサイド、第
四級アンモニウム基を分子内に有するアニオン交換樹脂
としては、テトラメチルアンヒニウムプロマイド、トリ
メチルベンジルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチルアンモニウムクロライド、オクチルトリメチルア
ンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムハイ
ドロオキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムハイ
ドロオキサイド、アンバーライト、ＩＲＡ４００（オル
ガ株式会社製イオン交換樹脂）、アンバーライトＩＲＡ
４］０（オルガ株式会社製イオン交換樹脂）等が挙げら
れる。
触媒として使用する第四級アンモニウム・・ライド、第
四級アンモニウムハイドロオキサイドあるいは分子中に
第四級アンモニウム基を有するアニオン交換樹脂の使用
量は一般式（１）で示される化合物の１０係以下である
。
四級アンモニウムハイドロオキサイドあるいは分子中に
第四級アンモニウム基を有するアニオン交換樹脂の使用
量は一般式（１）で示される化合物の１０係以下である
。
もちろん、これ以上の量な添加することも可能であるが
、経済的な面から１０係以下で充分である。
、経済的な面から１０係以下で充分である。
また、本発明を実施するに際し、反応生成物の重合を防
止するため、使用するアクリルノ・ライドあるいはメタ
アクリロイルノ・ライドに対し１１０００ｐｐ以下の重
合禁止剤、例えばメトキシ・・イドロキノン等を添加す
る。
止するため、使用するアクリルノ・ライドあるいはメタ
アクリロイルノ・ライドに対し１１０００ｐｐ以下の重
合禁止剤、例えばメトキシ・・イドロキノン等を添加す
る。
反応温度は一１０℃〜６０℃が望ましいが、−１０°Ｃ
〜４０℃が好適である。
〜４０℃が好適である。
−１０℃未満の温度では、反応の進行速度が遅く長時間
を要する。
を要する。
６０℃を超えた温度では、重合禁止剤が存在しても重合
し、目的とするモノマーにポリマーが混在することがあ
る。
し、目的とするモノマーにポリマーが混在することがあ
る。
本発明において副生ずるアルカリノ・ライドは、反応系
内より炉別ないし、水洗により除去をする。
内より炉別ないし、水洗により除去をする。
本発明により得られる一般式（２）で示される化合物は
ラジカル発生触媒の存在下あるいは不存在下で重合する
ことにより重合体となる。
ラジカル発生触媒の存在下あるいは不存在下で重合する
ことにより重合体となる。
このような重合体は単独でも耐熱性、耐候性の良い材料
となるほか、各種のオレフィン性に重結合を有する化合
物との共重合により樹脂の性質を改質する。
となるほか、各種のオレフィン性に重結合を有する化合
物との共重合により樹脂の性質を改質する。
また、一般式（２）で示す化合物の中、分子中にハロゲ
ンを含有するものは難燃性モノマーとして各種のモノマ
ーと共重合するか、単独重合により難燃性高分子化合物
を生成する。
ンを含有するものは難燃性モノマーとして各種のモノマ
ーと共重合するか、単独重合により難燃性高分子化合物
を生成する。
以下に本発明の実施例について記載する。
実症例 １
反応器中に２，２ビス（４−ヒドロキシ３，５ジブロモ
フエニル）プロパン５４４９、メタノール１５００ｇを
加え、これに攪拌下苛性ソーダ（資）Ｉを３回に分は添
加する。
フエニル）プロパン５４４９、メタノール１５００ｇを
加え、これに攪拌下苛性ソーダ（資）Ｉを３回に分は添
加する。
均一溶液となった後、次に炭酸ソーダ−４ｇ、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロライド５ｇ、無水芒硝３０
ｇを加えた後−５℃に冷却する。
トリメチルアンモニウムクロライド５ｇ、無水芒硝３０
ｇを加えた後−５℃に冷却する。
これにメタアクリロイルクロライド２０９ｇを滴下する
（メトキシノ・イドロキノン２００ ｐｐｍ 含有）。
（メトキシノ・イドロキノン２００ ｐｐｍ 含有）。
滴下期間中反応温度は１ｏ０ｃ以下に保つ。
滴下完了後２５〜３０°０３時間攪拌する。
反応混合物を減圧沢過し溶媒を除去した後、トリクロル
エチレン１５００ｇを加え溶解後水洗し、無機塩を除去
し脱水後トリクロールエチレンを留去し、２，２ビス（
４−メタアクロイルオキシ３゜５ジブロモフエニル）フ
ロパンヲ得り。
エチレン１５００ｇを加え溶解後水洗し、無機塩を除去
し脱水後トリクロールエチレンを留去し、２，２ビス（
４−メタアクロイルオキシ３゜５ジブロモフエニル）フ
ロパンヲ得り。
収 量 ４７６ｇ 収率率 ７０係１、Ｖ
７３．０（７４，７） Ｂｒ％ ７３．０（４７゜１） ＤＴＡ ＭＰ １５８℃ 分解点 ３４０℃（）
内の数字は計算値。
７３．０（７４，７） Ｂｒ％ ７３．０（４７゜１） ＤＴＡ ＭＰ １５８℃ 分解点 ３４０℃（）
内の数字は計算値。
以下の実施例においても同様である。
実施例 ２
反応器中に４，４ジヒドロキシ３，３ ５．５テトラブ
ロモジフ工ニルメタン５１６ｇ、塩化メチレン１２０１
を加え、これに攪拌下苛性カリ１１２．２ｇを３回に分
けて加える。
ロモジフ工ニルメタン５１６ｇ、塩化メチレン１２０１
を加え、これに攪拌下苛性カリ１１２．２ｇを３回に分
けて加える。
苛性カリが消滅した後、重炭酸力ＩＪ５．５ｇ、テトラ
メチルアンモニウムクロライド４ｇ、無水芒硝３０９を
加え攪拌しつつ０℃に冷却する。
メチルアンモニウムクロライド４ｇ、無水芒硝３０９を
加え攪拌しつつ０℃に冷却する。
これにメタアクリロイルクロライド２０９ｇを滴下する
（メトキシノ１イドロキノン１０００ ｐｐｍ含有）。
（メトキシノ１イドロキノン１０００ ｐｐｍ含有）。
滴下期間中、反応温度は１０℃以下に保つ。
滴下完了後２０〜２５℃４時間攪拌する。
反応混合物に水２０００ｇを加え３回洗浄下層の塩化メ
チレン層を硫酸マグネシウムにて脱水後、合成マイカ（
商品名ダイモナイト・・・・・・・・・トビ工業）１０
ｇを加え炉別し、ｐ液より塩化メチレンを留去し、４．
４−ジメタアクロイルオキシ３，３５５テトラブロモジ
フエニルメタンを得た。
チレン層を硫酸マグネシウムにて脱水後、合成マイカ（
商品名ダイモナイト・・・・・・・・・トビ工業）１０
ｇを加え炉別し、ｐ液より塩化メチレンを留去し、４．
４−ジメタアクロイルオキシ３，３５５テトラブロモジ
フエニルメタンを得た。
収量 ４８９ｇ 収率 ７５係
１、Ｖ ７７．１ （７７，９）
Ｂｒ％ ４９．８ （４９，１）
実施例 ３
反応器中に４，４ジヒドロキシ３ ３ ５．５テトラブ
ロモジフエニルスルホン５６６．９、メタノール１６０
１を加え、これに攪拌下苛性ソーダ８０ｇを４回に分け
て加える。
ロモジフエニルスルホン５６６．９、メタノール１６０
１を加え、これに攪拌下苛性ソーダ８０ｇを４回に分け
て加える。
苛性ソーダが消滅後、重炭酸ソーダ４ｇ、トリメチルベ
ンジルアンモニウムハイドロオキサイド４ｇ、無水芒硝
３０ｇを加え攪拌しつつ５℃に冷却する。
ンジルアンモニウムハイドロオキサイド４ｇ、無水芒硝
３０ｇを加え攪拌しつつ５℃に冷却する。
これにアクリロイルクロライド１８１ｇを滴下する（メ
トキシハイドロキノン８００ｐｐｍ含有）。
トキシハイドロキノン８００ｐｐｍ含有）。
滴下期間中、反応温度は１０℃以下に保つ。
滴下完了後２０〜２５℃３時間攪拌する。
反応混合物を炉別し溶媒を除去した後、２倍量の水で３
回攪拌水洗ｐ別後、メタノール２００ｇを加え洗浄後乾
燥し、４，４′ジアクリロイルオキシ３．３’５．５’
テトラブロモジフエニルスルホンを得た。
回攪拌水洗ｐ別後、メタノール２００ｇを加え洗浄後乾
燥し、４，４′ジアクリロイルオキシ３．３’５．５’
テトラブロモジフエニルスルホンを得た。
収量 ４５８ｇ 収率 ６８係
１、Ｖ ７１．６ （７２，４）Ｂｒ％
４８．８ （４７，５） 実施例 ４ 反応器中に２．２ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン２２８ｇ、塩化メチレン１０００ｇを加え、これに
攪拌上苛性ソーダ８０ｇを３回に分は添加する。
４８．８ （４７，５） 実施例 ４ 反応器中に２．２ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン２２８ｇ、塩化メチレン１０００ｇを加え、これに
攪拌上苛性ソーダ８０ｇを３回に分は添加する。
苛性ソーダが消滅した後、炭酸ソーダ−４ｇ、オクチル
トリメチルアンモニウムブロマイド１．４ｇ、無水芒硝
３１を加え攪拌しつつ５℃に冷却する。
トリメチルアンモニウムブロマイド１．４ｇ、無水芒硝
３１を加え攪拌しつつ５℃に冷却する。
これにメタアクリロイルクロライド２０９ｇを５℃に反
応温度を保ちつつ滴下する（メトキシノ・イドロキノン
１０００ ｐｐｍ含有）。
応温度を保ちつつ滴下する（メトキシノ・イドロキノン
１０００ ｐｐｍ含有）。
滴下完了後２０℃３時間攪拌、反応系内のｐＨの変化が
なくなった後反応を停止する。
なくなった後反応を停止する。
反応終了時点でのｐＨは７．２であった。
反応混合物を水洗後場化メチレン層を無水硫酸マグネシ
ウムにより脱水、減圧にて塩化メチレンを留去し、２，
２ビス（４−メタアクロイルオキシフェニル）プロパン
ヲ得り。
ウムにより脱水、減圧にて塩化メチレンを留去し、２，
２ビス（４−メタアクロイルオキシフェニル）プロパン
ヲ得り。
収量 ３０９ｇ 収率 ８５係
１、Ｖ １４０．５（１３９，６）
実施例 ５
実施例４で得た２、２ビス（４−メタアクリロイルオキ
ソフェニル）プロパン３６．４ｇを試験管。
ソフェニル）プロパン３６．４ｇを試験管。
に取り、アゾビスイソブチロニトリル０．０１ｇを加え
窒素ガスにて空気を置換した後完全に５ｅａｌし、１０
０〜１１０℃に保った油浴中に浸漬する。
窒素ガスにて空気を置換した後完全に５ｅａｌし、１０
０〜１１０℃に保った油浴中に浸漬する。
１０分後封管内にはガラス状淡黄褐色透明の重合物が生
成する。
成する。
封管内容物をアセトン２０倍量。に浸漬後乾燥しポリマ
ーを得た。
ーを得た。
ポリマー収量 ３５ｇ ポリマー収率 ９６係得たポリ
マーのＤＴＡ 分解点 ４２８℃実施例 ６ 反応器中に２，２′メチレンビス（４−エチル。
マーのＤＴＡ 分解点 ４２８℃実施例 ６ 反応器中に２，２′メチレンビス（４−エチル。
６−ターシャリブチルフェノール）３６８ｇを取り、イ
ンブタノール１５００ｇを加えこれに苛性カリ５６．９
、炭酸カリ２，５ｇを加え苛性カリの消滅後無水芒硝１
５ｇ、アニオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ ４１
０ １０．！ｌｉ’を加え５℃に冷・却する。
ンブタノール１５００ｇを加えこれに苛性カリ５６．９
、炭酸カリ２，５ｇを加え苛性カリの消滅後無水芒硝１
５ｇ、アニオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ ４１
０ １０．！ｌｉ’を加え５℃に冷・却する。
これ罠メタアクリロイルクロライド１０４．５．９を加
える（メトキシ・・イドロキノン１００ ｐｐ”含有）
。
える（メトキシ・・イドロキノン１００ ｐｐ”含有）
。
この際反応温度は１０℃以下に保つ。
滴下完了後反応混合物を２０〜２５℃６時間攪拌する。
反応系内のｐＨが一定となった後、反応を完結する。
反応混合物に水１５００ｇを加え、さらにトリクロルエ
チレン５００ｇを加工、トリクロルエチレン層を取り無
水芒硝により脱水ｐ過後トリクロルエチレンを留去し、
２，２メテレンピ（４−エチルロータージャリブテルフ
ェニルメタアクリレート）を得た。
チレン５００ｇを加工、トリクロルエチレン層を取り無
水芒硝により脱水ｐ過後トリクロルエチレンを留去し、
２，２メテレンピ（４−エチルロータージャリブテルフ
ェニルメタアクリレート）を得た。
収量 ３８０ｇ 収率 ８７係
１、Ｖ ５６．９ （５８，３）
ＯＨＶ １２９．４ （１２８，７）
実施例 ７
反応ｉ中に３，３ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペン
タン２８６ｇを取り、溶媒としてトリクロールエチレン
１０００ｇ、ブチトリメチルアンモニウムクロライド５
ｇ、ピリジン１５９ｇを加え攪拌し、０℃に冷却する。
タン２８６ｇを取り、溶媒としてトリクロールエチレン
１０００ｇ、ブチトリメチルアンモニウムクロライド５
ｇ、ピリジン１５９ｇを加え攪拌し、０℃に冷却する。
これに反応温度を１０℃に保ちつつ、アクリロイルクロ
ライド１８１ｇを滴下する（メトキシハイドロキノン５
０ ｐｐｍ含有）。
ライド１８１ｇを滴下する（メトキシハイドロキノン５
０ ｐｐｍ含有）。
アクリロイルクロライド滴下終了後２０℃３時間攪拌後
、重炭酸ツーダ１係水溶液を加えｐＨを７，５とする。
、重炭酸ツーダ１係水溶液を加えｐＨを７，５とする。
トリクロールエチレンの２倍量の水で数回洗浄後、トリ
クロールエチレンを５０℃以下で減圧留去し、３，３ビ
ス（４−アクリロイルオキシフェニル）ペンタンを得た
。
クロールエチレンを５０℃以下で減圧留去し、３，３ビ
ス（４−アクリロイルオキシフェニル）ペンタンを得た
。
収量 １９１ｇ 収率 ６５チ
１、Ｖ １７０．８ （１７：２８）
実施例 ８
反応器中に４．４′ジヒドロキシジフ工ニルジシアノメ
タン２５０ｇ、インブタノール１０００ｇ、ブチルトリ
メチルアンモニウムクロライド５ｇ、苛性ソーダ８０ｇ
を加え還流下に生成水を留去する。
タン２５０ｇ、インブタノール１０００ｇ、ブチルトリ
メチルアンモニウムクロライド５ｇ、苛性ソーダ８０ｇ
を加え還流下に生成水を留去する。
反応系内に残存する水を除去するため、反応混合物を１
０℃に冷却したものに無水芒硝８ｇ、重曹８ｇを加えた
後・・イドロキノン１００ ｐｐｍを含有するアクリル
酸クロライド１８１ｇを反応温度を１０℃に保ちつつ滴
下する。
０℃に冷却したものに無水芒硝８ｇ、重曹８ｇを加えた
後・・イドロキノン１００ ｐｐｍを含有するアクリル
酸クロライド１８１ｇを反応温度を１０℃に保ちつつ滴
下する。
滴下完了後２０℃、４時間攪拌し、次いで水５００ｇを
加え充分に攪拌後静置し、下層の水層を除去する。
加え充分に攪拌後静置し、下層の水層を除去する。
上層中よりイソブタノールを留去後、水洗、減圧にて５
０℃〜６０℃で減圧・乾燥し、４．４−ジアクリロイル
オキシフェニルジシアノメタンを得た。
０℃〜６０℃で減圧・乾燥し、４．４−ジアクリロイル
オキシフェニルジシアノメタンを得た。
収量 ２５０ｇ 収率 ６９，８係
Ｉ 、Ｖ １３８．７ （１４１，９）比較例
実施例１において、ドデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド５ｇを除き、その他は実施例１と同様に行い、
２．２ビス（４−メタアクロイルオキシ３，５ジブロモ
フエニル）フロパンヲ得り。
ロライド５ｇを除き、その他は実施例１と同様に行い、
２．２ビス（４−メタアクロイルオキシ３，５ジブロモ
フエニル）フロパンヲ得り。
収量 ３８ｏ、ｌ 収率 ５６係
１、Ｖ ５６．１（７４，７）
Ｂｒ％ ５０．７（４７，１）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式け）で示されるビスフェノール化合物とアク
リロイルハライドあるいはメタアクリロイルハライドを
脱ハロゲン化水素剤の存在下で、かつ触媒量の第四級ア
ンモニウムハライド、第四級アンモニウムハイドロオキ
サイドあるいは第四級アンモニウム基を分子内に有する
アニオン交換樹脂の存在下で反応せしめることを特徴と
する一般式（２）で示されるアークリコイルまたはメタ
アクリロイル誘導体の製法。 （ただし、式中、ＸはＢｒ、Ｃ１、分岐または直鎖低級
アルキル基、ｍにＯ〜４の整数、ＹはＨまたは−ＣＨ３
、 Ｒ，、Ｒ２はＣ１〜４の直鎖あるいは分岐鎖アルキル、
Ｃ１，ＢｒまたはＣＮ、ｂは１〜４の整数）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53106130A JPS5822095B2 (ja) | 1978-08-29 | 1978-08-29 | アクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53106130A JPS5822095B2 (ja) | 1978-08-29 | 1978-08-29 | アクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5533429A JPS5533429A (en) | 1980-03-08 |
| JPS5822095B2 true JPS5822095B2 (ja) | 1983-05-06 |
Family
ID=14425816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53106130A Expired JPS5822095B2 (ja) | 1978-08-29 | 1978-08-29 | アクリロイルまたはメタアクリロイル誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822095B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5918735A (ja) * | 1982-07-22 | 1984-01-31 | Ube Ind Ltd | 難燃性樹脂組成物 |
-
1978
- 1978-08-29 JP JP53106130A patent/JPS5822095B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5533429A (en) | 1980-03-08 |
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