JPS58221803A - 塩化カリウム用反射防止膜 - Google Patents
塩化カリウム用反射防止膜Info
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- JPS58221803A JPS58221803A JP57104693A JP10469382A JPS58221803A JP S58221803 A JPS58221803 A JP S58221803A JP 57104693 A JP57104693 A JP 57104693A JP 10469382 A JP10469382 A JP 10469382A JP S58221803 A JPS58221803 A JP S58221803A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、炭酸ガスレーザー光（１０。６波長）に対し
て抵吸収であって猫且つ０．６３２８ｕｍ波長の有し、
さらに耐水性に優れた塩化カリウム用反射防止膜に関す
るものである。
て抵吸収であって猫且つ０．６３２８ｕｍ波長の有し、
さらに耐水性に優れた塩化カリウム用反射防止膜に関す
るものである。
従来、大パワーの炭酸ガスレーザー用の窓、しいて透明
であり耐水性に優れかつ大型の結晶が得られるという利
点の反面、欠点としては、高価であり、大パワー照射に
・よシ生ずる光学歪が大きく、又結晶育成時に有毒なＨ
２ｒｅガスを使ったシ、結晶表面研磨加工工程において
有毒なセレン系ガスを発生するなど安全対策上あつがい
にくいということが挙げられる。ＧａＡｓにあっては波
長１０．６μｍにおいて透明であシ、その熱伝導度がｚ
ｎＳｅの約３倍良いということ、さらには耐水性に優れ
ているという利点の反面直径約８ｃｒｎ以上の大きさの
ものが入手出来ない、可視光重畳用の波長０．６３２８
μｍのＨｅ −Ｎ ｅレーザー光を透過しないこと、高
価であること、光学歪が大きい事、さらにはヒ素（Ａｓ
）という有害元素をその構成要素に含むため育成、加工
時の安全対策が必要であるという多〈の欠点を有してい
る。
であり耐水性に優れかつ大型の結晶が得られるという利
点の反面、欠点としては、高価であり、大パワー照射に
・よシ生ずる光学歪が大きく、又結晶育成時に有毒なＨ
２ｒｅガスを使ったシ、結晶表面研磨加工工程において
有毒なセレン系ガスを発生するなど安全対策上あつがい
にくいということが挙げられる。ＧａＡｓにあっては波
長１０．６μｍにおいて透明であシ、その熱伝導度がｚ
ｎＳｅの約３倍良いということ、さらには耐水性に優れ
ているという利点の反面直径約８ｃｒｎ以上の大きさの
ものが入手出来ない、可視光重畳用の波長０．６３２８
μｍのＨｅ −Ｎ ｅレーザー光を透過しないこと、高
価であること、光学歪が大きい事、さらにはヒ素（Ａｓ
）という有害元素をその構成要素に含むため育成、加工
時の安全対策が必要であるという多〈の欠点を有してい
る。
一方、波長１０．６μｍ 、 ０．６３２８μｍにおい
て透明で、光学歪が小さく、毒性がなく、安価であると
いう多くの利点を持つＫＣＩが実用透明光学部品（窓、
レンズ等）の基板として使用されない最大の理由は潮解
性があυ水に溶けるため、湿度の多い環境μｍに対して
透明であるという光学的特性はもちろんのこと、耐水性
をもかねそなえることが出来るならば、上記の多くの利
点を有したＫＣＩの窓、レンズが実現出来る事になる。
て透明で、光学歪が小さく、毒性がなく、安価であると
いう多くの利点を持つＫＣＩが実用透明光学部品（窓、
レンズ等）の基板として使用されない最大の理由は潮解
性があυ水に溶けるため、湿度の多い環境μｍに対して
透明であるという光学的特性はもちろんのこと、耐水性
をもかねそなえることが出来るならば、上記の多くの利
点を有したＫＣＩの窓、レンズが実現出来る事になる。
現在光学特性と耐水性を両方同時に有した反射防止膜が
存在しない状況にある。
存在しない状況にある。
本発明は光学特性と耐水性両方を満足させたＫｃｌ用反
射防止膜を提供することを目的とする。
射防止膜を提供することを目的とする。
現在、米国のレーサーパヮーオプテックス社カ市販して
いるＫＣｌ窓、レンズの反射防止膜はＮａＦ単層膜よシ
構成されている。ＮａＦの屈折率は１２３とＫＣｌの屈
折率の平方根（、／ＴＴ４−５ ＝ １．２０４ ）に
非常に近いために光学的膜厚ｎｄ−λ／４ ＝ ２．６
５μｍ を蒸着すれば反射率としては０．０５％と理想
に近い値いが期待出来る。実際に上記メーカーよシ購入
した直径１インチ、厚み５箇のＮａＦ両面反射防止膜付
ＫＣＩ窓の反射率を１０．６μｍ波長で測定したとこが
検討される。反射防止膜の材料として満足しなければな
らない条件としては、水に溶けに＜＜、、。
いるＫＣｌ窓、レンズの反射防止膜はＮａＦ単層膜よシ
構成されている。ＮａＦの屈折率は１２３とＫＣｌの屈
折率の平方根（、／ＴＴ４−５ ＝ １．２０４ ）に
非常に近いために光学的膜厚ｎｄ−λ／４ ＝ ２．６
５μｍ を蒸着すれば反射率としては０．０５％と理想
に近い値いが期待出来る。実際に上記メーカーよシ購入
した直径１インチ、厚み５箇のＮａＦ両面反射防止膜付
ＫＣＩ窓の反射率を１０．６μｍ波長で測定したとこが
検討される。反射防止膜の材料として満足しなければな
らない条件としては、水に溶けに＜＜、、。
波長１０．６μｍ 、 ０．６３２８μｍで透明で、基
板との密着 性が良く、さらに薄膜状になった時に
ピンホールの出来にくいアモルファス状態を示す物質が
選ばれなければならない。そこで有望な材料として三硫
化ヒ素（ＡＳ２Ｓ３）、三硫化セレ７ （Ａｓ２Ｓｅ３
）を代表とするカルコゲナイドガラスや四弗化トリウム
（ＴｈＦ４）が挙げられる。
板との密着 性が良く、さらに薄膜状になった時に
ピンホールの出来にくいアモルファス状態を示す物質が
選ばれなければならない。そこで有望な材料として三硫
化ヒ素（ＡＳ２Ｓ３）、三硫化セレ７ （Ａｓ２Ｓｅ３
）を代表とするカルコゲナイドガラスや四弗化トリウム
（ＴｈＦ４）が挙げられる。
二層反射防止膜の構造については以下の様なものが考え
られる。
られる。
’ｆ） ＫＣ１／ＧＡＴＳ／Ａ３２Ｓ３”） ＫＣｌ
／ Ａ３２Ｓ３／ ＴｈＦ４ハ） ＫＣＩ／ Ａ３２
Ｓ３／ ＰｂＦｚイ）の構造のものはいずれも カルコ
ゲナイドガあるが、ＴｈＦ４は放射性物質で法律的に我
国では以上の考察によシ我々は三層構造の反射防止膜Ａ
３２Ｓ３ではさみ込み保護し、その三層膜でさらにＫＣ
Ｉを保護することを本発明の基本方針とした。
／ Ａ３２Ｓ３／ ＴｈＦ４ハ） ＫＣＩ／ Ａ３２
Ｓ３／ ＰｂＦｚイ）の構造のものはいずれも カルコ
ゲナイドガあるが、ＴｈＦ４は放射性物質で法律的に我
国では以上の考察によシ我々は三層構造の反射防止膜Ａ
３２Ｓ３ではさみ込み保護し、その三層膜でさらにＫＣ
Ｉを保護することを本発明の基本方針とした。
効果としては、光吸収の少ないＡ ８２ Ｓ ３がＫＣ
Ｉに対して密着性が良く、かつ水に対する保護膜として
作用し、さらにその上に光吸収の少ないＰｂＦ２を附し
その欠点である水に弱い点をさらにＡ３２Ｓ３で保護し
、かつ反射率零という反射防止膜の条件を満たすと同時
に波長０．６３２８μｍ光にも透明である大パワー用反
射防止膜を実現する。以下実施例で本発明を説明する。
Ｉに対して密着性が良く、かつ水に対する保護膜として
作用し、さらにその上に光吸収の少ないＰｂＦ２を附し
その欠点である水に弱い点をさらにＡ３２Ｓ３で保護し
、かつ反射率零という反射防止膜の条件を満たすと同時
に波長０．６３２８μｍ光にも透明である大パワー用反
射防止膜を実現する。以下実施例で本発明を説明する。
第１図はＫＣＩ基板上の本発明による三層反射防止膜の
構造図である。図中４は両面が超精密に光１．０２９μ
ｍである。３は屈折率ｎ１が２．３８なる第２ｖｏ１．
１６． Ｎｏ１Ｏｐ２７２２）を満足する様に決定した
。
構造図である。図中４は両面が超精密に光１．０２９μ
ｍである。３は屈折率ｎ１が２．３８なる第２ｖｏ１．
１６． Ｎｏ１Ｏｐ２７２２）を満足する様に決定した
。
第２図、第３図、第４図にそれぞれ第一層１．第二層２
．第三層３の光学的膜厚ｎ１ｄｌの設定値を中１．０２
９μｍとし、ＰｂＦ２膜上に形成される第２のＡ Ｓ
２ Ｓ’３膜、の光学的厚みを変化した場合で、第２の
Ａ ８２ Ｓ ３膜の光学的厚みは１．０８ｆ１ｍ 〜
１．１５４／ｊｍの範囲において、波長１０．６μｍで
の反射率が０．１％程度と良好であった。
．第三層３の光学的膜厚ｎ１ｄｌの設定値を中１．０２
９μｍとし、ＰｂＦ２膜上に形成される第２のＡ Ｓ
２ Ｓ’３膜、の光学的厚みを変化した場合で、第２の
Ａ ８２ Ｓ ３膜の光学的厚みは１．０８ｆ１ｍ 〜
１．１５４／ｊｍの範囲において、波長１０．６μｍで
の反射率が０．１％程度と良好であった。
第３図はＫＣＩ基板上の第１のＡＳ２Ｓ３膜の光学的厚
みを２．６１７μｍ、第２のＡ３２Ｓ３膜の光学的厚み
を１．１２０μｍとし、ＰｂＦ２膜の光学的厚みを変化
させた場合で、ＰｂＦ２膜の光学的厚みは０．９９８μ
ｍ〜１．０６０μｍの範囲において、波長１０．６μｍ
での反射率が０．１ ％程度と良好な結果をえた。
みを２．６１７μｍ、第２のＡ３２Ｓ３膜の光学的厚み
を１．１２０μｍとし、ＰｂＦ２膜の光学的厚みを変化
させた場合で、ＰｂＦ２膜の光学的厚みは０．９９８μ
ｍ〜１．０６０μｍの範囲において、波長１０．６μｍ
での反射率が０．１ ％程度と良好な結果をえた。
第４図はＰｂＦ２膜、第２のＡ Ｓ ２ Ｓ ３膜の光
学的厚みをそれぞれ１．０２９μｍ 、 １．１２０μ
−ｍとした時の、第１のＡ３２Ｓ３膜の光学的厚みによ
る反射率の変化のようすを示したもので、第１のＡ３２
Ｓ３膜の光学的厚みは２．５３８μｍ〜２．６９５μｍ
の範囲において、波長両面反射防止膜付の場合の全反射
率は約０．８％ となり実用上杵される限界を示す。
学的厚みをそれぞれ１．０２９μｍ 、 １．１２０μ
−ｍとした時の、第１のＡ３２Ｓ３膜の光学的厚みによ
る反射率の変化のようすを示したもので、第１のＡ３２
Ｓ３膜の光学的厚みは２．５３８μｍ〜２．６９５μｍ
の範囲において、波長両面反射防止膜付の場合の全反射
率は約０．８％ となり実用上杵される限界を示す。
この図からも明らかな様に本実施例によるＫＣＩ用反射
防止膜の光学的厚みとしては、第１のＡＳ２Ｓ３膜が２
．５３８４’ｍ〜２．６９５＃ｍ、、 ＰｂＦ２膜が０
．９９８／Ｊｍ 〜１．０６０／’ｒ１１．第２のＡ３
２Ｓ３膜が１．０８６／Ｊｍ 〜１．１５４μｍの範囲
にあることが好適である。 Ｉ試
料作製用のＫＣＩ基板は米国ジャノス社製の直径１イン
チ、厚み５ｆｉの研磨済みのものを使用し。ＡＳ２Ｓ３
用蒸着ルツボはモリブデン（ＭＯ）製のとっぶつ防止用
の穴開のふたを使用し基板温度７０℃、作業圧力１．５
Ｘ １０’ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１２Ａ０／ＳｅＣ
で蒸着した。ＰｂＦｚは白金ボート（Ｐｔ）を使用し基
板温度１１８℃、作業圧力３ＸＩＱ’Ｉ’ｏｒｒ蒸着速
度１２Ａ０／ｓｅｅで蒸着した。蒸着中基板は自公転運
動し、膜厚の均一化を計、た。蒸着速度は水晶振動子を
使って制御し、蒸着膜厚は波長２．１７μｍの赤外光を
使用した透過型光学膜厚制御装置にて制御した。
防止膜の光学的厚みとしては、第１のＡＳ２Ｓ３膜が２
．５３８４’ｍ〜２．６９５＃ｍ、、 ＰｂＦ２膜が０
．９９８／Ｊｍ 〜１．０６０／’ｒ１１．第２のＡ３
２Ｓ３膜が１．０８６／Ｊｍ 〜１．１５４μｍの範囲
にあることが好適である。 Ｉ試
料作製用のＫＣＩ基板は米国ジャノス社製の直径１イン
チ、厚み５ｆｉの研磨済みのものを使用し。ＡＳ２Ｓ３
用蒸着ルツボはモリブデン（ＭＯ）製のとっぶつ防止用
の穴開のふたを使用し基板温度７０℃、作業圧力１．５
Ｘ １０’ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１２Ａ０／ＳｅＣ
で蒸着した。ＰｂＦｚは白金ボート（Ｐｔ）を使用し基
板温度１１８℃、作業圧力３ＸＩＱ’Ｉ’ｏｒｒ蒸着速
度１２Ａ０／ｓｅｅで蒸着した。蒸着中基板は自公転運
動し、膜厚の均一化を計、た。蒸着速度は水晶振動子を
使って制御し、蒸着膜厚は波長２．１７μｍの赤外光を
使用した透過型光学膜厚制御装置にて制御した。
得られた試料の透過率スペクトルを第６図に示した。波
長８μｍから１３μｍの波長領域での実測値０．１２％
、０．２３％、０．１８係であり平均値として、０．１
７％が得られた。使用したＫＣＩ基板の平均吸収率が、
０．１４％のオーダーであるので両者の差をとると両面
の反射防止膜の吸収率は０．０３％程度となり非常に吸
収率の少ない反射防止膜が得られた。すなわち２０ Ｋ
Ｗの大パワーレーザー光照射下でも発生熱のパワーは６
Ｗであるので十分２０ ＫＷ 用の反射防止膜として使
用出来る。
長８μｍから１３μｍの波長領域での実測値０．１２％
、０．２３％、０．１８係であり平均値として、０．１
７％が得られた。使用したＫＣＩ基板の平均吸収率が、
０．１４％のオーダーであるので両者の差をとると両面
の反射防止膜の吸収率は０．０３％程度となり非常に吸
収率の少ない反射防止膜が得られた。すなわち２０ Ｋ
Ｗの大パワーレーザー光照射下でも発生熱のパワーは６
Ｗであるので十分２０ ＫＷ 用の反射防止膜として使
用出来る。
次にレーザー光の照射損傷閾値の実験を行、だ。
レーザー光照射損傷闇値はレーザー光の照射条件、すな
わちレーザービーム径と試料の大きさとの相対的大小関
係、試料の冷却の方法、空気中か真空中か、又照射時間
等にも依存するために一義的に決めることは出来ない。
わちレーザービーム径と試料の大きさとの相対的大小関
係、試料の冷却の方法、空気中か真空中か、又照射時間
等にも依存するために一義的に決めることは出来ない。
そこで次下の様な実験条件を設定した。
■ 照射実験は空気中で行った。
■ 試料の冷却は自然空冷とした。
■ 試料の直径は１インチで、レーザービーム径は約１
＋Ｍｎである。
＋Ｍｎである。
■ レーザー光源としては５００ＷＣＷ炭酸ガスレーザ
ーを使用し、直径１インチ、焦点距離２５インチのＺｎ
５ｅメニスカスレンズにて直径約７閣のシングルモード
のレーザービームを集光し、エネルギー密度７０ＫＷ／
ｃ４のレーザー光下に試料を２分間さらした後の試料表
面を観察し評価する。
ーを使用し、直径１インチ、焦点距離２５インチのＺｎ
５ｅメニスカスレンズにて直径約７閣のシングルモード
のレーザービームを集光し、エネルギー密度７０ＫＷ／
ｃ４のレーザー光下に試料を２分間さらした後の試料表
面を観察し評価する。
以上の条件下で本発明の試料の実験結果はいずれも照射
前後でその表面の変化が観察されなかった。
前後でその表面の変化が観察されなかった。
最後に耐湿試験結果について述べる。、研磨されたＫＣ
Ｉは相対湿度が８０チ以上に増加するにつれて急激に水
分を吸着し目方が増加する。そこで反射防止膜のＫＣｌ
に対す一′る耐湿能力を加速試験するその結果、本発明
Ω試料は６５０時間経過しても反射防止膜の損傷が見ら
れなかった。但し、反射防止膜に水滴をたらした場合に
は１分後ですでにピンホールを中心に水がしみ込み、膜
の剥離がかすかに観察される。以上の結果よシ通常の環
境下では特に表面に水を露結させない様に注意すれば、
挙する。
Ｉは相対湿度が８０チ以上に増加するにつれて急激に水
分を吸着し目方が増加する。そこで反射防止膜のＫＣｌ
に対す一′る耐湿能力を加速試験するその結果、本発明
Ω試料は６５０時間経過しても反射防止膜の損傷が見ら
れなかった。但し、反射防止膜に水滴をたらした場合に
は１分後ですでにピンホールを中心に水がしみ込み、膜
の剥離がかすかに観察される。以上の結果よシ通常の環
境下では特に表面に水を露結させない様に注意すれば、
挙する。
（１） 反射防止膜の波長１０．６μｍ炭酸ガスレー
ザず実用的な反射防止膜である。
ザず実用的な反射防止膜である。
（３）三層それぞれの光学的膜厚をそれぞれ同時に３％
増減しても反射率は０．４チ以下におさえられる。
増減しても反射率は０．４チ以下におさえられる。
（４） エネルギー密度７０ＫＷ／ｉのレーザー光を
２分間照射しても反射防止膜は伺んら損傷を受けない。
２分間照射しても反射防止膜は伺んら損傷を受けない。
（５）波長０．６３２８μｍのＨｅ＝Ｎｅ レーザー光
に対して透明であるのでビームアライメントが容易であ
る。
に対して透明であるのでビームアライメントが容易であ
る。
以上要するに本発明は塩化カリウム（ＫＣＩ）基
”板の少なくとも一表面上に、第１の三硫化砒素（Ａ８
２Ｓ３）膜、弗化鉛（ｐｂＦ２）膜、第２の三硫化砒素
（Ａ８２Ｓ３）膜をこの順に形成した塩化カリウム用反
射防止膜を提供するもので、２０ ＫＷ という大パ
ワー炭酸ガスレーザーにも使用でき、光学特性
”板の少なくとも一表面上に、第１の三硫化砒素（Ａ８
２Ｓ３）膜、弗化鉛（ｐｂＦ２）膜、第２の三硫化砒素
（Ａ８２Ｓ３）膜をこの順に形成した塩化カリウム用反
射防止膜を提供するもので、２０ ＫＷ という大パ
ワー炭酸ガスレーザーにも使用でき、光学特性
のＡ！！２８３の光学的膜厚を設定値より３チ増減した
場合の反射率の波長依存性を示す図、第３図は第２層の
Ｐ ｂ Ｆ２の光学的膜厚を設定値より３％増減した場
合の反射率の波長依存性を示す図、第４図す図、第６図
は本発明の反射防止膜をＫＣＩ基板に両面蒸着して出来
たＫＣｌ窓の透過率スペクトルについてで実測値と計算
値の比較を行、た図である。 １、・・・第１のＡ３２Ｓ３膜 ２．・・・ＰｂＦ２
蒸着膜３、・・・第２のＡ３２Ｓ３膜 ４、・・・Ｋ
ＣＩ基板特許出願人 工業技術院長 石板誠− 第 １ 図 第２図 之皮長入（ｐｍ ） 第３図 ５皮蓑へ（、ｕｍ） 第４図 ｉ皮畏λ （Ｐｍ） 第５図 ブ４パｉ（ζ１ 人 （〕１ｍｌ 第６図 ｉ／！畏入（Ｐｒｒｌ）
場合の反射率の波長依存性を示す図、第３図は第２層の
Ｐ ｂ Ｆ２の光学的膜厚を設定値より３％増減した場
合の反射率の波長依存性を示す図、第４図す図、第６図
は本発明の反射防止膜をＫＣＩ基板に両面蒸着して出来
たＫＣｌ窓の透過率スペクトルについてで実測値と計算
値の比較を行、た図である。 １、・・・第１のＡ３２Ｓ３膜 ２．・・・ＰｂＦ２
蒸着膜３、・・・第２のＡ３２Ｓ３膜 ４、・・・Ｋ
ＣＩ基板特許出願人 工業技術院長 石板誠− 第 １ 図 第２図 之皮長入（ｐｍ ） 第３図 ５皮蓑へ（、ｕｍ） 第４図 ｉ皮畏λ （Ｐｍ） 第５図 ブ４パｉ（ζ１ 人 （〕１ｍｌ 第６図 ｉ／！畏入（Ｐｒｒｌ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 塩化カリウム（ＫＣＩ） 基板の少なくと
も一表面上に、第１０三硫化砒素（Ａ８２Ｓ３）膜、弗
化鉛（ｐｂＦｚ）膜、第２の三硫化砒素（Ａｓ２Ｓ３）
膜をこの順に形成したことを特徴とする塩化カリウム用
反射防止膜。 （２）第１の三硫化砒素素（Ａ８２Ｓ３）膜、弗化鉛（
ＰｂＦ２）、第２の三硫化砒素（Ａｓ２Ｓ３）膜の光学
的膜厚の値を、それぞれ２．５３８μｍ〜２．６９５μ
ｍ。 ０．９９８μｍ〜１．０６０μｍ 、 １．０８６μｍ
〜１．１５４μｍに選定した特許請求の範囲第１項記載
の塩化カリウム用反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57104693A JPS58221803A (ja) | 1982-06-19 | 1982-06-19 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57104693A JPS58221803A (ja) | 1982-06-19 | 1982-06-19 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58221803A true JPS58221803A (ja) | 1983-12-23 |
| JPS6235641B2 JPS6235641B2 (ja) | 1987-08-03 |
Family
ID=14387550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57104693A Granted JPS58221803A (ja) | 1982-06-19 | 1982-06-19 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58221803A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263901A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
| JPS6125103A (ja) * | 1984-07-14 | 1986-02-04 | Horiba Ltd | Ｃｏ２レ−ザ−用光学部品 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4075885A (en) * | 1977-02-23 | 1978-02-28 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Rock borehole shear tester |
-
1982
- 1982-06-19 JP JP57104693A patent/JPS58221803A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4075885A (en) * | 1977-02-23 | 1978-02-28 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Rock borehole shear tester |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60263901A (ja) * | 1984-06-13 | 1985-12-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 塩化カリウム用反射防止膜 |
| JPS6125103A (ja) * | 1984-07-14 | 1986-02-04 | Horiba Ltd | Ｃｏ２レ−ザ−用光学部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6235641B2 (ja) | 1987-08-03 |
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