JPS5822878B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS5822878B2 JPS5822878B2 JP51039534A JP3953476A JPS5822878B2 JP S5822878 B2 JPS5822878 B2 JP S5822878B2 JP 51039534 A JP51039534 A JP 51039534A JP 3953476 A JP3953476 A JP 3953476A JP S5822878 B2 JPS5822878 B2 JP S5822878B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mounting table
- heating chamber
- rotary mounting
- heating device
- cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置、特に調理時に調理品を回転さ
せて加熱むらをなくす回転載置台、いわゆるターンテー
ブルを備えた高周波加熱装置に関するものであり、さら
に詳しくは回転載置台にモータの回転駆動力を伝達する
回転伝達機構を改良し、加熱室の内底面に着脱自在に配
設する回転載置台の取り付け、取り出しおよび加熱室の
掃除を簡単にできるようにすること、電界の分布を均一
にすることを目的とするものである。
せて加熱むらをなくす回転載置台、いわゆるターンテー
ブルを備えた高周波加熱装置に関するものであり、さら
に詳しくは回転載置台にモータの回転駆動力を伝達する
回転伝達機構を改良し、加熱室の内底面に着脱自在に配
設する回転載置台の取り付け、取り出しおよび加熱室の
掃除を簡単にできるようにすること、電界の分布を均一
にすることを目的とするものである。
従来、調理時に調理品を回転させて加熱むらをなくす回
転載置台、いわゆるターンテーブルを備えた高周波加熱
装置の回転載置台にモータの回転駆動力を伝達する回転
伝達機構は、モータの回転駆動力を減速機構および加熱
室底面を貫通させて回転自在に支承した回転軸を介して
回転載置台に伝達するような構造であり、また前記回転
軸と回転載置台との連結は、前記回転軸の係止部に前記
回転載置台の係止孔を嵌着させることにより行なわれて
いた。
転載置台、いわゆるターンテーブルを備えた高周波加熱
装置の回転載置台にモータの回転駆動力を伝達する回転
伝達機構は、モータの回転駆動力を減速機構および加熱
室底面を貫通させて回転自在に支承した回転軸を介して
回転載置台に伝達するような構造であり、また前記回転
軸と回転載置台との連結は、前記回転軸の係止部に前記
回転載置台の係止孔を嵌着させることにより行なわれて
いた。
このため、高周波加熱装置の加熱室が食品カス等により
汚れた場合、回転載置台を加熱室内より取り出さなけれ
ばいげないが、回転載置台を加熱室内より取り出す場合
、回転載置台を一度上方に持ち上げて回転軸との連結を
断ち、その状態で加熱室内より取り出すといったように
操作がめんどうで、また回転載置台が大きい場合は、非
常に取り出し難いものであった。
汚れた場合、回転載置台を加熱室内より取り出さなけれ
ばいげないが、回転載置台を加熱室内より取り出す場合
、回転載置台を一度上方に持ち上げて回転軸との連結を
断ち、その状態で加熱室内より取り出すといったように
操作がめんどうで、また回転載置台が大きい場合は、非
常に取り出し難いものであった。
しかも、加熱室内の掃除をする場合においても、加熱室
の内底面には回転軸が突出し、さらには回転載置台の周
辺を支える支持体がその周辺に配設されているため、掃
除がしに<(、また掃除しても回転軸や支持体の植設さ
れた部分に入り込んだ食品カス等は取り除くことができ
ず、清潔な調理器という高周波加熱装置の商品価値の低
下を招くことになっていた。
の内底面には回転軸が突出し、さらには回転載置台の周
辺を支える支持体がその周辺に配設されているため、掃
除がしに<(、また掃除しても回転軸や支持体の植設さ
れた部分に入り込んだ食品カス等は取り除くことができ
ず、清潔な調理器という高周波加熱装置の商品価値の低
下を招くことになっていた。
そこで、最近回転載置台にモータの回転駆動力を伝達す
る回転伝達機構に、磁気的結合手段を用いた高周波加熱
装置が開発されたが、この回転伝達機構に磁気的結合手
段を用いたものというのは、加熱室の底面と本体外筐の
底面との間に、本体外筐の底面に配設した支持軸を中心
に回転自在で、同心円状に磁石を配設した歯車を設置し
、また加熱室の内底面には、凹部を形成するとともに、
その凹部に磁気シールドを施し、かつ前記磁石と吸引力
により磁気結合される磁石を配設した回転自在な回転載
置台を設置し、前記歯車をモータで回転させることによ
り回転載置台をそれに追従させて回転させるものである
。
る回転伝達機構に、磁気的結合手段を用いた高周波加熱
装置が開発されたが、この回転伝達機構に磁気的結合手
段を用いたものというのは、加熱室の底面と本体外筐の
底面との間に、本体外筐の底面に配設した支持軸を中心
に回転自在で、同心円状に磁石を配設した歯車を設置し
、また加熱室の内底面には、凹部を形成するとともに、
その凹部に磁気シールドを施し、かつ前記磁石と吸引力
により磁気結合される磁石を配設した回転自在な回転載
置台を設置し、前記歯車をモータで回転させることによ
り回転載置台をそれに追従させて回転させるものである
。
すなわち、回転伝達機構にこのような磁気的績モータの
回転駆動力を回転載置台に伝達する減速機構の回転軸が
突出していな(、また最近開発された前述の回転伝達機
構を備えた高周波加熱装置は、回転載置台の周辺を支え
るのに、回転載置台の周辺に設置した車輪を有する支持
体により行なっているというように、加熱室の内底面に
は植設されているものがないため、回転載置台を加熱室
内より取り出せば、簡単に掃除をすることができ、。
回転駆動力を回転載置台に伝達する減速機構の回転軸が
突出していな(、また最近開発された前述の回転伝達機
構を備えた高周波加熱装置は、回転載置台の周辺を支え
るのに、回転載置台の周辺に設置した車輪を有する支持
体により行なっているというように、加熱室の内底面に
は植設されているものがないため、回転載置台を加熱室
内より取り出せば、簡単に掃除をすることができ、。
しかも回転載置台を加熱室内より取り出す時も、回転載
置台をそのまま引き出せばよく、簡単に取り出すことが
できる。
置台をそのまま引き出せばよく、簡単に取り出すことが
できる。
しかしながら、この場合マイクロ波発生装置から発生す
るマイクロ波により、回転載置台を支え。
るマイクロ波により、回転載置台を支え。
ている支持体や、回転載置台に配設した磁石が誘導加熱
され、支持体の強度が低下するという欠点が生じ、また
回転載置台の外周縁と加熱室の凹部周壁面との間に電界
が集中し、加熱むらが生じるという欠点が発生し、調理
物の加熱むらななくす。
され、支持体の強度が低下するという欠点が生じ、また
回転載置台の外周縁と加熱室の凹部周壁面との間に電界
が集中し、加熱むらが生じるという欠点が発生し、調理
物の加熱むらななくす。
ために調理物を回転させる回転載置台を用いた意味がな
くなるという結果になっていた。
くなるという結果になっていた。
本発明はそのような問題を解消するものであり、以下本
発明の一実施例を示す第1図および第2図の図面を参照
しながら説明する。
発明の一実施例を示す第1図および第2図の図面を参照
しながら説明する。
図において、1は高周波加熱装置本体で、この高周波加
熱装置全体1には、被加熱物を収納する加熱室2および
この加熱室2内にマイクロ波を供給するマイクロ波発生
装置3が内蔵されている。
熱装置全体1には、被加熱物を収納する加熱室2および
この加熱室2内にマイクロ波を供給するマイクロ波発生
装置3が内蔵されている。
4は前記加熱室2の前面開口部に開閉自在に取り・付け
られたドアで、このドア4には加熱室2内の被加熱物の
加熱状態を見るためのスクリーン5および取手6が取り
付けられている。
られたドアで、このドア4には加熱室2内の被加熱物の
加熱状態を見るためのスクリーン5および取手6が取り
付けられている。
7は前記高周波加熱装置本体1前面に配設された操作パ
ネルで、この操作パネル7には前記マイクロ波発生装置
3の制御を行なう制御部のつまみ類が配設されている。
ネルで、この操作パネル7には前記マイクロ波発生装置
3の制御を行なう制御部のつまみ類が配設されている。
8は前記加熱室2の内底面に設けられた凹部9に着脱自
在に、また回転自在に配設された回転載置台で、この回
転載置台8の裏面周縁部には、この回転載置台8を回転
自在に支持する環状の支持体10が配設される凹溝11
が形成され、また裏面にはアルミ板等のシールド板12
により磁気シールドされるとともに、収納容器13に収
納保持された磁石14が配設されている。
在に、また回転自在に配設された回転載置台で、この回
転載置台8の裏面周縁部には、この回転載置台8を回転
自在に支持する環状の支持体10が配設される凹溝11
が形成され、また裏面にはアルミ板等のシールド板12
により磁気シールドされるとともに、収納容器13に収
納保持された磁石14が配設されている。
15は前記収納容器13の側面より前記凹溝11に向っ
て突出した抜は止で、この抜は止15により前記支持体
10が凹溝11に保持されている。
て突出した抜は止で、この抜は止15により前記支持体
10が凹溝11に保持されている。
前記支持体10は、環状10aとこの環体10aの要所
に回転自在に軸支した車輪10bとにより構成され、ま
た回転載置台8およびこの回転載置台8上に載置される
被加熱体の荷重は、前記車輪10bのコロガリ摩擦を利
用する構成としているので車輪10bだげに作用する。
に回転自在に軸支した車輪10bとにより構成され、ま
た回転載置台8およびこの回転載置台8上に載置される
被加熱体の荷重は、前記車輪10bのコロガリ摩擦を利
用する構成としているので車輪10bだげに作用する。
16は前記加熱室2の凹部9の外底壁はほぼ中央部に溶
接により固着した支持軸17に遊嵌状態で回転自在に軸
支された回転体で、この回転体16には、前記回転載置
台8に取り付けた磁石14との吸引力により磁気的に結
合される磁石18およびこの回転体16の周辺を支持す
る車輪19が配設されている。
接により固着した支持軸17に遊嵌状態で回転自在に軸
支された回転体で、この回転体16には、前記回転載置
台8に取り付けた磁石14との吸引力により磁気的に結
合される磁石18およびこの回転体16の周辺を支持す
る車輪19が配設されている。
また、前記回転載置台8の外周部には前記加熱室2の凹
部9の周壁面と対向するキャビティ20が形成され、こ
のキャビティ20により前記回転載置台8と加熱室2と
は、回転載置台8の外周部と加熱室2の四部90周壁面
とにおいていわゆるチョーク結合されている。
部9の周壁面と対向するキャビティ20が形成され、こ
のキャビティ20により前記回転載置台8と加熱室2と
は、回転載置台8の外周部と加熱室2の四部90周壁面
とにおいていわゆるチョーク結合されている。
また、前記キャビティ20は前記回転載置台8の上板周
縁部を前記凹部9の周縁部に平行となるように折曲する
ことにより構成された折曲縁8aと、前記磁石14を収
容する容器13が一体に形成された環状の板体の外周縁
を回φ載置台8の上板に対して直角に折曲することによ
り構成された立壁板8bとにより構成されている。
縁部を前記凹部9の周縁部に平行となるように折曲する
ことにより構成された折曲縁8aと、前記磁石14を収
容する容器13が一体に形成された環状の板体の外周縁
を回φ載置台8の上板に対して直角に折曲することによ
り構成された立壁板8bとにより構成されている。
なお、ここで加熱室2の凹部9の上端と回転載置台8の
外周端との間の間隙、すなわち第2図のa部から折曲縁
8aの先端と立壁板8bの先端との間の間隙、すなわち
第2図のb部までは高周波発生装置3から発生するマイ
クロ波の波長の174の長さであり、前記す部から回転
載置台8の上板、すなわち第2図の0部までは前記波長
の174の長さである。
外周端との間の間隙、すなわち第2図のa部から折曲縁
8aの先端と立壁板8bの先端との間の間隙、すなわち
第2図のb部までは高周波発生装置3から発生するマイ
クロ波の波長の174の長さであり、前記す部から回転
載置台8の上板、すなわち第2図の0部までは前記波長
の174の長さである。
したがって前記a部のインピーダンスは見かげ上零、前
記す部のインピーダンスは見かげ上最大、前記0部のイ
ンピーダンスは見かけ上零である。
記す部のインピーダンスは見かげ上最大、前記0部のイ
ンピーダンスは見かけ上零である。
また、前記す部の間隙は、前記立壁板8bと凹部9底面
との間の間隙、すなわち第2図のd部の間隙に比べて太
き(、そして前記d部の間隙はスパークが発生しない程
度の間隙である。
との間の間隙、すなわち第2図のd部の間隙に比べて太
き(、そして前記d部の間隙はスパークが発生しない程
度の間隙である。
21はモータで、このモータ21はマイクロ波発生装置
3のマクオドロンを冷却するとともに、前記マイクロ波
発生装置3から発生するマイクロ波を攪拌するスタラー
ファン22を回転させるためのファン(図示せず)を回
転駆動させるのであり、またこのモータ21の回転駆動
力はベルト23、減速機構24、連結軸25、およびベ
ルト26を介して回転体16に伝達される。
3のマクオドロンを冷却するとともに、前記マイクロ波
発生装置3から発生するマイクロ波を攪拌するスタラー
ファン22を回転させるためのファン(図示せず)を回
転駆動させるのであり、またこのモータ21の回転駆動
力はベルト23、減速機構24、連結軸25、およびベ
ルト26を介して回転体16に伝達される。
27は前記スタラーファン22を外部から見えな(する
ための仕切板である。
ための仕切板である。
上記構成において、モータ21を回転駆動させることに
より、その回転駆動力はベルト23、減速機構24、連
結軸25およびベルト26を介して回転体16に伝達さ
れ、回転体16は支持軸17を中心に回転する。
より、その回転駆動力はベルト23、減速機構24、連
結軸25およびベルト26を介して回転体16に伝達さ
れ、回転体16は支持軸17を中心に回転する。
回転体16が回転することにより、回転体16に配設し
た磁石18も回転し、それによってこの磁石18と吸引
力により磁気的に結合している磁石14、すなわち回転
載置台8を回転させるのである。
た磁石18も回転し、それによってこの磁石18と吸引
力により磁気的に結合している磁石14、すなわち回転
載置台8を回転させるのである。
ここで、本発明の高周波加熱装置は、回転載置台8の外
周部と加熱室2の凹部9の周壁面とにおいて回転載置台
8と加熱室2とをチョーク結合しているというように、
回転載置台8の外周部と加熱室2の凹部9の周壁面との
間を等制約にショート状態にしているため、従来のよう
に回転載置台8を支持している支持体10が誘導加熱さ
れ、強度が低下したり、また回転載置台8の外周部と加
熱室2の凹部9の周壁面との間の間隙に電界が集中し、
加熱むらの原因となるといったことがなくなるのである
。
周部と加熱室2の凹部9の周壁面とにおいて回転載置台
8と加熱室2とをチョーク結合しているというように、
回転載置台8の外周部と加熱室2の凹部9の周壁面との
間を等制約にショート状態にしているため、従来のよう
に回転載置台8を支持している支持体10が誘導加熱さ
れ、強度が低下したり、また回転載置台8の外周部と加
熱室2の凹部9の周壁面との間の間隙に電界が集中し、
加熱むらの原因となるといったことがなくなるのである
。
なお、本実施例では、回転載置台8の外周部にキャビテ
ィ20を形成しているが、加熱室2の四部90周壁面に
キャビティを形成した場合でも同様の効果を得ることが
できる。
ィ20を形成しているが、加熱室2の四部90周壁面に
キャビティを形成した場合でも同様の効果を得ることが
できる。
第3図は本発明の高周波加熱装置の要部構造を示す図で
あり、以下その説明を行なう。
あり、以下その説明を行なう。
第3図に示すのは、回転載置台8のキャビティ20を形
成した外周部を樹脂等の誘電体28でモールドしたもの
であり、これによって回転載置台8の折曲縁8aと凹部
9の周壁面との間および立壁板8bと凹部9の底面との
間の間隙を小さくしてもスパークが発生することがなく
、チョーク結合の効果をさらに高めることかできる。
成した外周部を樹脂等の誘電体28でモールドしたもの
であり、これによって回転載置台8の折曲縁8aと凹部
9の周壁面との間および立壁板8bと凹部9の底面との
間の間隙を小さくしてもスパークが発生することがなく
、チョーク結合の効果をさらに高めることかできる。
また、回転載置台8の外周部を誘電体28でモールドす
ることにより、回転載置台8の外周部に形成される盛り
立つ部で調理物をのせた受皿の位置規制を行なうこと示
できるため、回転載置台8に余計な加工を施さなくても
よく、さらにはキャビティ20内へ食品カス等が侵入す
ることがないため、掃除が非常に楽である。
ることにより、回転載置台8の外周部に形成される盛り
立つ部で調理物をのせた受皿の位置規制を行なうこと示
できるため、回転載置台8に余計な加工を施さなくても
よく、さらにはキャビティ20内へ食品カス等が侵入す
ることがないため、掃除が非常に楽である。
第4図は本発明の他の実施例を示す。
第4図において、回転載置台8のキャビティ20を形成
した外周部に誘電体よりなる環状のキャンプ29を被せ
たものであり、この場合も上記実施列と同様の効果を得
ることができる。
した外周部に誘電体よりなる環状のキャンプ29を被せ
たものであり、この場合も上記実施列と同様の効果を得
ることができる。
なお、前記キャップ29を形成する誘電体にシリコンゴ
ムを用いた場合は、シリコンゴムの耐熱性により、高周
波発生装置3から発生するマイクロ波により誘導加熱さ
れても、軟化したりすることがなく、シかもシリコンゴ
ムの弾性により、回転載置台8を加熱室2の凹部9に設
置する時に加熱室2の四部9の周壁面に回転載置台8の
外周部が当っても凹部9あるいは回転載置台8が傷つく
ことがなく、いつまでも外観を美しく保つことができる
。
ムを用いた場合は、シリコンゴムの耐熱性により、高周
波発生装置3から発生するマイクロ波により誘導加熱さ
れても、軟化したりすることがなく、シかもシリコンゴ
ムの弾性により、回転載置台8を加熱室2の凹部9に設
置する時に加熱室2の四部9の周壁面に回転載置台8の
外周部が当っても凹部9あるいは回転載置台8が傷つく
ことがなく、いつまでも外観を美しく保つことができる
。
以上のように本発明の高周波加熱装置は、加熱室の内底
面に形成した凹部に着脱自在で、かつ回転自在に収納さ
れる導電性の回転載置台と、この回転載置台と磁気的結
合手段を介して連結し、かつ前記加熱室の外底部に回転
自在に設けた回転体と、この回転体を回転駆動させる駆
動源とで構成するとともに、前記回転載置台の外周部と
前記加熱室の凹部の周壁面とにおいて前記加熱室と回転
載置台とをチョーク結合したものであるから、加熱室内
の掃除および回転載置台の取り付け、取り外しを簡単に
行なうことができるとともに、回転載置台の外周部と加
熱室の凹部周壁面との間の間隙に電界が集中し、加熱む
らが生じたり、または回転載置台を支持している支持体
が誘電加熱され、強度が低下したりすることがなくなる
というきわめて大きな効果が期待できる。
面に形成した凹部に着脱自在で、かつ回転自在に収納さ
れる導電性の回転載置台と、この回転載置台と磁気的結
合手段を介して連結し、かつ前記加熱室の外底部に回転
自在に設けた回転体と、この回転体を回転駆動させる駆
動源とで構成するとともに、前記回転載置台の外周部と
前記加熱室の凹部の周壁面とにおいて前記加熱室と回転
載置台とをチョーク結合したものであるから、加熱室内
の掃除および回転載置台の取り付け、取り外しを簡単に
行なうことができるとともに、回転載置台の外周部と加
熱室の凹部周壁面との間の間隙に電界が集中し、加熱む
らが生じたり、または回転載置台を支持している支持体
が誘電加熱され、強度が低下したりすることがなくなる
というきわめて大きな効果が期待できる。
また樹脂等の誘電体をモールドしたことにより、スパー
クの発生を防止することができ、チョーク結合の効果を
さらに高めることができるばかりでなく、キャビティ内
へ食品カス等が侵入することがなく、さらに回転載置台
が傷つくことも少なくなるなどの効果を有する。
クの発生を防止することができ、チョーク結合の効果を
さらに高めることができるばかりでなく、キャビティ内
へ食品カス等が侵入することがなく、さらに回転載置台
が傷つくことも少なくなるなどの効果を有する。
第1図は本発明の一実施例による高周波加熱装置の内部
構造を示す断面図、第2図は同装置の要部構造を示す断
面図、第3図は同高周波加熱装置の要部断面図、第4図
は本発明の他の実施列による高周波加熱装置の要部断面
図である。 1・・・・・・高周波加熱装置本体、2・・・・・・加
熱室、3・・・・・・高周波発生装置、8・・・・・・
回転載置台、9・・・・・・凹部、14,18・・・・
・・磁石、16・・・・・・回転体、20・・・・・・
キャビティ、21・・・・・・モータ、28・・・・・
・誘電体、29・・・・・・キャップ。
構造を示す断面図、第2図は同装置の要部構造を示す断
面図、第3図は同高周波加熱装置の要部断面図、第4図
は本発明の他の実施列による高周波加熱装置の要部断面
図である。 1・・・・・・高周波加熱装置本体、2・・・・・・加
熱室、3・・・・・・高周波発生装置、8・・・・・・
回転載置台、9・・・・・・凹部、14,18・・・・
・・磁石、16・・・・・・回転体、20・・・・・・
キャビティ、21・・・・・・モータ、28・・・・・
・誘電体、29・・・・・・キャップ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 加熱室の内底面に形成した凹部に着脱自在でかつ回
転自在に収納される導電性の回転載置台とこの回転載置
台と磁気的結合手段を介して連結しかつ前記加熱室の外
底部に回転自在に設けた回転体と、この回転体を回転駆
動させる駆動源とよりなり、前記回転載置台の外周部と
前記加熱室の凹部の周壁面とにより前記加熱室と回転載
置台とをチョーク結合し、かつ前記回転載置台の外周部
に前記加熱室の凹部の周壁面と対向するキャビティを形
成するとともに、そのキャピテイを形成した外周部を誘
電体でモールドする構成とした高周波加熱装置。 2 上記回転載置台の外周部に加熱室の凹部の周壁面と
対向するキャビティを形成するとともに、そのキャビテ
ィを形成した外周部に誘電体よりなる環状のキャップを
被せる構成とした特許請求の範囲第1項に記載の高周波
加熱装置。 3 上記誘電体にシリコンゴムを用いる構成とした特許
請求の範囲第2項に記載の高周波加熱装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51039534A JPS5822878B2 (ja) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51039534A JPS5822878B2 (ja) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52122946A JPS52122946A (en) | 1977-10-15 |
| JPS5822878B2 true JPS5822878B2 (ja) | 1983-05-11 |
Family
ID=12555702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51039534A Expired JPS5822878B2 (ja) | 1976-04-07 | 1976-04-07 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822878B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS485347U (ja) * | 1971-06-04 | 1973-01-22 | ||
| JPS484447U (ja) * | 1971-06-14 | 1973-01-19 | ||
| JPS4820047U (ja) * | 1971-07-16 | 1973-03-07 | ||
| JPS5085946A (ja) * | 1973-12-04 | 1975-07-10 |
-
1976
- 1976-04-07 JP JP51039534A patent/JPS5822878B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52122946A (en) | 1977-10-15 |
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