JPS5825324B2 - 遮光性重合体、その製法およびそれを含有する化粧品組成物 - Google Patents
遮光性重合体、その製法およびそれを含有する化粧品組成物Info
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- JPS5825324B2 JPS5825324B2 JP8307777A JP8307777A JPS5825324B2 JP S5825324 B2 JPS5825324 B2 JP S5825324B2 JP 8307777 A JP8307777 A JP 8307777A JP 8307777 A JP8307777 A JP 8307777A JP S5825324 B2 JPS5825324 B2 JP S5825324B2
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- A61K8/8141—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- A61K8/8158—Homopolymers or copolymers of amides or imides, e.g. (meth) acrylamide; Compositions of derivatives of such polymers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な遮光性の重合体、その製法およびそれを
含有する化粧品組成物に関する。
含有する化粧品組成物に関する。
本発明によると次式（■）：
で示される基を表わす）
に相当する反復重合単位の少くとも一つを含有し、平均
分子量が２，０００乃至１，０００，０００の範囲にあ
る遮光性重合体が提供される。
分子量が２，０００乃至１，０００，０００の範囲にあ
る遮光性重合体が提供される。
この新規重合体は紫外線の゛炎症帯” （２８０から３
１５ ｎｍの間）の波長領域の光のみならず肌を褐色に
焼く波長領域の光（３５０ｎｍまで）をも吸収する特徴
を有するので、太陽光線による火傷と２８０から３５０
ｎｍの間の紫外線の作用とに対して同時に且つ全般的
に保護することができる。
１５ ｎｍの間）の波長領域の光のみならず肌を褐色に
焼く波長領域の光（３５０ｎｍまで）をも吸収する特徴
を有するので、太陽光線による火傷と２８０から３５０
ｎｍの間の紫外線の作用とに対して同時に且つ全般的
に保護することができる。
本発明の新規重合体は遮光性共重合体（二元重合体、三
元共重合体など）、すなわち前記式（ｎ）の重合単位と
エチレン型不飽和モノマーから誘導される他の重合単位
の一種あるいは数種とを同時に含有するものであるのが
望ましい。
元共重合体など）、すなわち前記式（ｎ）の重合単位と
エチレン型不飽和モノマーから誘導される他の重合単位
の一種あるいは数種とを同時に含有するものであるのが
望ましい。
本発明の共重合体をつくる時に用いられるエチレン型不
飽和モノマーあるいはコモノマーは作ろうとする化粧品
組成物の種類に応じて選ばれる。
飽和モノマーあるいはコモノマーは作ろうとする化粧品
組成物の種類に応じて選ばれる。
実際にコモノマーの種類を変えることによって遮光性共
重合体に種々の性質をもたせることができる。
重合体に種々の性質をもたせることができる。
好ましいコモノマーの例としてはとくに次のものが挙げ
られる、 Ｎ−ビニルピロリドン、 Ｎ−メタクリロイル−Ｄ−グルコサミン、ジメチルアミ
ンエチルメタクリレート、 ステアリルアクリレート、 ステアリルアクリレート、 ビニルステアレート。
られる、 Ｎ−ビニルピロリドン、 Ｎ−メタクリロイル−Ｄ−グルコサミン、ジメチルアミ
ンエチルメタクリレート、 ステアリルアクリレート、 ステアリルアクリレート、 ビニルステアレート。
前者の三種のコモノマーは水溶液中への溶解性を付与す
るものであり、後者の三種は油中への溶解性を付与する
ものである。
るものであり、後者の三種は油中への溶解性を付与する
ものである。
本発明の好ましい共重合体は次の一般式：〔式中Ｚ１は
上述と同じ意味を持ち、Ｒ′は水素原子あるいはメチル
基を表わし、Ｙは次式：（式中Ｘは四級化した又は四級
化してないジメチルアミノエチル基又はＣｌ８Ｈ３□を
表わす、および （式中Ａはグルコサミン残基である） の基の群より選ばれる基を表わす〕で表わされる反復単
位を有し、平均分子量が２，０００乃至１．０００，０
００の範囲にあるものである。
上述と同じ意味を持ち、Ｒ′は水素原子あるいはメチル
基を表わし、Ｙは次式：（式中Ｘは四級化した又は四級
化してないジメチルアミノエチル基又はＣｌ８Ｈ３□を
表わす、および （式中Ａはグルコサミン残基である） の基の群より選ばれる基を表わす〕で表わされる反復単
位を有し、平均分子量が２，０００乃至１．０００，０
００の範囲にあるものである。
本発明によると遮光性重合体は式（ＩＩ）の基即ち重合
単位を重合体全重量に対して一般的には１５乃至１００
％、なるべくは２０乃至８０％の範囲で含有する。
単位を重合体全重量に対して一般的には１５乃至１００
％、なるべくは２０乃至８０％の範囲で含有する。
本発明は前記式（ＩＩ）および（ｌｌ［）の新規遮光性
重合体の製造法に関する。
重合体の製造法に関する。
すなわち、本発明においては、第一段階で次式：％式％
（） （式中Ｚ１は後記と同じ意味を持つ） で示される所謂゛炉光性モノマー″であるモノマーヲ調
製し、ついでこのモノマーをホモ重合するかまたは一種
あるいは数種の他のコモノマーと共重合することを特徴
とする、 次式■： （式中Ｚ１は次式： 又は で示される基を表わす） の重合単位の少くとも一つを含有する遮光性重合体ある
いは次式■： 〔式中Ｚ１ば上述と同じ意味を持ち、Ｒ′は水素原子あ
るいはメチル基を表わし、Ｙは次式：（但しＸは四級化
した又は四級化されていないジメチルアミノエチル基又
はＣｌ８Ｈ３７を表かす）及び （但しＡはグルコサミン残基である）の基の群より選ば
れる基を表わす〕で表わされる反復単位を有する遮光性
共重合体の製造法をも要旨とするものである。
（） （式中Ｚ１は後記と同じ意味を持つ） で示される所謂゛炉光性モノマー″であるモノマーヲ調
製し、ついでこのモノマーをホモ重合するかまたは一種
あるいは数種の他のコモノマーと共重合することを特徴
とする、 次式■： （式中Ｚ１は次式： 又は で示される基を表わす） の重合単位の少くとも一つを含有する遮光性重合体ある
いは次式■： 〔式中Ｚ１ば上述と同じ意味を持ち、Ｒ′は水素原子あ
るいはメチル基を表わし、Ｙは次式：（但しＸは四級化
した又は四級化されていないジメチルアミノエチル基又
はＣｌ８Ｈ３７を表かす）及び （但しＡはグルコサミン残基である）の基の群より選ば
れる基を表わす〕で表わされる反復単位を有する遮光性
共重合体の製造法をも要旨とするものである。
ｐ光性モノマーは硫酸の存在下でのＮ−メチロールアク
リルアミドと芳香族化合物Ｚ１Ｈとの冷時反応によって
調製される。
リルアミドと芳香族化合物Ｚ１Ｈとの冷時反応によって
調製される。
前記の重合反応は通常の重合方法、すなわち塊状重合、
溶液重合、懸濁重合あるいは乳化重合によって、従来の
重合開始剤を用いて実施される。
溶液重合、懸濁重合あるいは乳化重合によって、従来の
重合開始剤を用いて実施される。
本発明の遮光性重合体の分子量はブチルアルデヒドの如
きアルデヒド類あるいはクロロホルム、ブロモホルム、
四塩化炭素などの如き塩化物のような鎖長調節剤の少量
（０，０５〜０．１５重量％）を重合中に添加すること
によって加減しうる。
きアルデヒド類あるいはクロロホルム、ブロモホルム、
四塩化炭素などの如き塩化物のような鎖長調節剤の少量
（０，０５〜０．１５重量％）を重合中に添加すること
によって加減しうる。
重合の終った時、もし望むならば、得られた重合体をた
とえばイオン交換樹脂で処理することによって精製でき
る。
とえばイオン交換樹脂で処理することによって精製でき
る。
本発明はまた紫外線へのｐ光活性のある物質として前述
のような式■の反復単位の重合体又は式■の反復単位の
共重合体の少くとも一種を含有する日焼は止め用化粧品
組成物をも要旨とするものである。
のような式■の反復単位の重合体又は式■の反復単位の
共重合体の少くとも一種を含有する日焼は止め用化粧品
組成物をも要旨とするものである。
本発明の化粧品組成物は意図する用途に応じて色々の形
につくることができる。
につくることができる。
本組成物は水性乳液、ローション、クリーム、乳液、ゲ
ルあるいはエアゾールの形で用いられるのが望ましい。
ルあるいはエアゾールの形で用いられるのが望ましい。
本組成物はまた水溶液、水性アルコール溶液（エタノー
ルあるいはイソプ０／々ノール）または油性溶液の形で
も用いられる。
ルあるいはイソプ０／々ノール）または油性溶液の形で
も用いられる。
本発明の組成物がエアゾールの形で用いられる時には、
噴霧用ガスと共に附子容器中に封じ込められ、噴霧用ガ
スとしてはハロゲン化炭化水素、またはトリクロロフル
オロメタンとジクロロジフルオロメタンの混合物のよう
なハロゲン化炭化水素の混合物を用いることが望ましい
。
噴霧用ガスと共に附子容器中に封じ込められ、噴霧用ガ
スとしてはハロゲン化炭化水素、またはトリクロロフル
オロメタンとジクロロジフルオロメタンの混合物のよう
なハロゲン化炭化水素の混合物を用いることが望ましい
。
本発明の化粧品組成物中での上述のような遮光性重合体
の濃度は、どの程度の保護をなすべきかという度合によ
って変る。
の濃度は、どの程度の保護をなすべきかという度合によ
って変る。
しかし遮光性重合体濃度は一般に組成物全重量に対して
０，２〜２０％の範囲にあることが望ましい。
０，２〜２０％の範囲にあることが望ましい。
本組成物はさらに油脂（油、グリース、ろう等）、乳化
剤、表面活性剤、香料、シリコン油、顔料、染料および
保存剤のような一般成分をも含有することができる。
剤、表面活性剤、香料、シリコン油、顔料、染料および
保存剤のような一般成分をも含有することができる。
本組成物に着色用顔料を添加すると表皮を着色し、それ
によって皮膚の欠点を蔽いかくすことができる。
によって皮膚の欠点を蔽いかくすことができる。
本発明の化粧品組成物を皮膚に用いると表皮に対して良
好な親和性のある被膜を形成し、太陽光線に対し優れた
皮膚の保護作用を呈する。
好な親和性のある被膜を形成し、太陽光線に対し優れた
皮膚の保護作用を呈する。
以下の実施例において、製造された調光性物質の紫外線
吸収能はＫｓｐで定義され、これは試料中に含有される
炉光性物質の分量、測定される吸光度および装置に特有
の定数に関する数値である。
吸収能はＫｓｐで定義され、これは試料中に含有される
炉光性物質の分量、測定される吸光度および装置に特有
の定数に関する数値である。
Ｋｓｐの定義はＧｉｌｌａｍおよび５ｔｅｒｎ著” Ｉ
ｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｔｏ ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ
ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｉ
ｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（Ａｒｎｏ
ｌｄ社版、ロンドン、１９５４年、１０頁）に記載され
である。
ｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｔｏ ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ
ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｉ
ｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（Ａｒｎｏ
ｌｄ社版、ロンドン、１９５４年、１０頁）に記載され
である。
ｄ＝測測定れる吸光度
ｌ−装置の試料容器の厚さ、α
以下本発明を実施例を以って説明する。
参考例
以下の式の炉光性モノマー、２−（（２’−ヒドロキシ
−５′−メチルアクリルアミドメチル）フェニルシー２
Ｈ−ベンゾトリアゾールの調製：純粋な硫酸１９２ｇお
よび２−（（２’−ヒドロキシ−５′−メチル）フェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール７２ｇを窒素下でフラ
スコに入れる。
−５′−メチルアクリルアミドメチル）フェニルシー２
Ｈ−ベンゾトリアゾールの調製：純粋な硫酸１９２ｇお
よび２−（（２’−ヒドロキシ−５′−メチル）フェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール７２ｇを窒素下でフラ
スコに入れる。
この混合物を０℃に冷却し、ついでＮ−ヒドロキシメチ
ルアクリルアミド３１．５ｇを加える。
ルアクリルアミド３１．５ｇを加える。
室温に戻るまで放置し次に１８時間撹拌をつづける。
混合物を水中に注ぎ入れ、ついて炉別する。
クロロホルム中で再結晶すると純粋な生成物５５ｇが得
られる。
られる。
収率：５６％
融点−２０４°Ｃ
λｍａｘｌ（ＴＨＦ）−３０２ｎｍ、 Ｋｓｐ＝５５
，０００λｍａｘ２（ＴＨＦ）−３３９ｎｍ Ｋｓ
ｐ＝５７，０００同様の方法で、２−フェニルベンズイ
ミダゾールのアクリルアミドメチル誘導体を製造できる
。
，０００λｍａｘ２（ＴＨＦ）−３３９ｎｍ Ｋｓ
ｐ＝５７，０００同様の方法で、２−フェニルベンズイ
ミダゾールのアクリルアミドメチル誘導体を製造できる
。
実施例 １
２−〔（アクリルアミドメチル−２７−ヒドロキシ−５
′−メチル）フェニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾールと
硫酸ジメチルで四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミ
ノエチルメタクリレートとの共重合体の製造 前記参考例で調製した炉光性七ツマ−２ｇ、硫酸ジメチ
ルで四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメ
タクリレート８ｇ、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２
０ｇおよびアゾビス−イソブチロニトリル１ｇを窒素下
でフラスコに入れる。
′−メチル）フェニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾールと
硫酸ジメチルで四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミ
ノエチルメタクリレートとの共重合体の製造 前記参考例で調製した炉光性七ツマ−２ｇ、硫酸ジメチ
ルで四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメ
タクリレート８ｇ、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２
０ｇおよびアゾビス−イソブチロニトリル１ｇを窒素下
でフラスコに入れる。
混合物を２４時間８０°Ｃに加熱し、ついで冷却後２０
ＴＬｌのメタノールで希釈し、５００ｍ１のアセトン中
に一滴づつ注ぎ入れる。
ＴＬｌのメタノールで希釈し、５００ｍ１のアセトン中
に一滴づつ注ぎ入れる。
重合体をｐ別し成上下で乾燥する。
水溶性の共重合体８ｇが得られる。収率：８０％
λｍａｘ１（ＤＭＦ）−２９８ｎｍ、 Ｋｓｐ＝６
，２００λｍａｘ２（ＤＭＦ）−３３５ｎｍ、 Ｋ
ｓｐ＝５，２００同様の方法で２−フェニルベンズイミ
ダゾールのアクリルアミドメチル誘導体と硫酸ジメチル
で四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタ
クリレートとの共重合体を製造できる。
，２００λｍａｘ２（ＤＭＦ）−３３５ｎｍ、 Ｋ
ｓｐ＝５，２００同様の方法で２−フェニルベンズイミ
ダゾールのアクリルアミドメチル誘導体と硫酸ジメチル
で四級化したＮ、Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタ
クリレートとの共重合体を製造できる。
実施例 ２
２−〔（アクリルアミドメチル−２′−ヒドロキシ−５
７−メチル）フェニル：］−］２Ｈ−ペンツトリアゾー
とステアリルアクリレートとの共重合体の製造 前記参考例で調製した炉光性モノマー５０．９、ステア
リルアクリレート３３．４ｇ、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）１５０ｇおよびアゾビス−イソブチロニトリル５
ｇをフラスコに入れる。
７−メチル）フェニル：］−］２Ｈ−ペンツトリアゾー
とステアリルアクリレートとの共重合体の製造 前記参考例で調製した炉光性モノマー５０．９、ステア
リルアクリレート３３．４ｇ、テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）１５０ｇおよびアゾビス−イソブチロニトリル５
ｇをフラスコに入れる。
混合物を９時間８０°Ｃに加熱し、ついで７１のメタノ
ール中に注ぎ入れる。
ール中に注ぎ入れる。
炉別し、減田下で乾燥した後、油溶性の共重合体７０ｇ
が得られる。
が得られる。
収率：８５％
λｍａｘ１（ＴＨＦ）−３０３ｎｍ、 Ｋｓｐ＝２８
，３００λｍａｘ２（ＴＨＦ）−３３９ｎｍ、 Ｋｓ
ｐ＝２８，０００同様の方法で２−フェニルベンズイミ
ダゾールのアクリルアミドメチル誘導体とステアリルア
クリレートとの共重合体を製造できる。
，３００λｍａｘ２（ＴＨＦ）−３３９ｎｍ、 Ｋｓ
ｐ＝２８，０００同様の方法で２−フェニルベンズイミ
ダゾールのアクリルアミドメチル誘導体とステアリルア
クリレートとの共重合体を製造できる。
実施例 ３
２−（（２’−ヒドロキシ−５′−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと
ビニルステアレートとの共重合体の製造 ビニルステアレート６．６ｇ、 ２− （（２’−ヒ
ドロキシ−５′−メチル−アクリルアミドメチル）フェ
ニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾール１３．３ｇ及びアゾ
ビスイソブチロニトリル２ｇをジメチルホルムアミド−
テトラフランの５０ ： ５０混合物２００ｍ１に溶解
させ、次いで窒素の雰囲気下に２４時間還流温度に加熱
する。
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと
ビニルステアレートとの共重合体の製造 ビニルステアレート６．６ｇ、 ２− （（２’−ヒ
ドロキシ−５′−メチル−アクリルアミドメチル）フェ
ニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾール１３．３ｇ及びアゾ
ビスイソブチロニトリル２ｇをジメチルホルムアミド−
テトラフランの５０ ： ５０混合物２００ｍ１に溶解
させ、次いで窒素の雰囲気下に２４時間還流温度に加熱
する。
次いで反応混合物を２１のメタノールにそ５ぎ、沈澱し
た共重合体を乾燥させる（収率５０％）。
た共重合体を乾燥させる（収率５０％）。
紫外吸収スペクトル：
λｍａｘ１（ＣＨＣＡ３）−３０４ｎｍ
λｍａｘ２（ＣＨＣ１３）−３３８ｎｍ
実施例 ４
２−（（２’−ヒドロキシ−５７−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと
Ｎ−ビニルピロリドンとの共重合体の製造 ２−（（２’−ヒドロキシ−５′−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール１
２．９をＮ−メチルピロリドン８０．９に溶解させ、次
いでＮ−ビニルピロリドン２８ｇを加える。
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと
Ｎ−ビニルピロリドンとの共重合体の製造 ２−（（２’−ヒドロキシ−５′−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール１
２．９をＮ−メチルピロリドン８０．９に溶解させ、次
いでＮ−ビニルピロリドン２８ｇを加える。
この混合物を窒素の雰囲気下に８０℃に加熱する。
得られた粗製溶液を３１のトルエンにそメぎ、沈澱した
共重合体を収集し乾燥させる（収率７７％）。
共重合体を収集し乾燥させる（収率７７％）。
紫外吸収スペクトル：
λｒｎ ａＸ １ （エタノール）−３０３ｎｍλｍ
ａＸ ２ （エタノール）＝３３８ｎｍ実施例 ５ ２−（（２’−ヒドロキシ−５７−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾールと
Ｎ−メタクリロイルグルコサミンとの共重合体の製造 ２−（（２’−ヒドロキシ−５７−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール８
ｇ及びＮ−メタクリロイルグルコサミン３２ｇをＮ−メ
チルピロリドン２０．９に溶解させ、アゾビスイソブチ
ロニトリル２ｇを加える。
ａＸ ２ （エタノール）＝３３８ｎｍ実施例 ５ ２−（（２’−ヒドロキシ−５７−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾールと
Ｎ−メタクリロイルグルコサミンとの共重合体の製造 ２−（（２’−ヒドロキシ−５７−メチル−アクリルア
ミドメチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール８
ｇ及びＮ−メタクリロイルグルコサミン３２ｇをＮ−メ
チルピロリドン２０．９に溶解させ、アゾビスイソブチ
ロニトリル２ｇを加える。
窒素の雰囲気下に２４時間８０℃に加熱した後に、粗製
溶液をトルエンにそ５ぎ、沈澱した共重合体を収集し、
Ｎ−メチルピロリドン１５０ｍ１に溶解させる。
溶液をトルエンにそ５ぎ、沈澱した共重合体を収集し、
Ｎ−メチルピロリドン１５０ｍ１に溶解させる。
得られる溶液を２４時間水に対して透析する。
この水溶液を濃縮することにより２３ｇの純粋な共重合
体を得る（収率６０％）。
体を得る（収率６０％）。
紫外吸収スペクトル：
λｒｎａＸ１（エタノール）＝３０３ｎｍλｒｎ ａＸ
２ （エタノール）＝３３８ｎｍ以下本発明の化粧品組
成物を実施例をもって説明する。
２ （エタノール）＝３３８ｎｍ以下本発明の化粧品組
成物を実施例をもって説明する。
実施例 Ｉ
以下の成分を混合して遮光性（日焼は止め用）クリーム
を製造する。
を製造する。
実施例１により製造される重合体・・・・・・・・・１
５．９セチルステアリルアルコール ・・・・・
・・・・ ２ｇグリセロールのモノステアレート・・・
・・・・・・ ４ｇセチルアルコール ・
・・・・・・・・ ４ｇワセリン油
・・・・・・・・・ ５ｇブチルステアレート
・・・・・・・・・ ５ｇプロピレングリコ
ール ・・・・・・・・・ ７９シリコーン油
・・・・・・・・・０．１２５ｇＵ
ＮＩＯＮＣＡＲＢＩＤＥ社からＰＯＬＹＯＸの商品名で
市販されている高分子量の非イオン性重合体の ５％水溶液 ・・・・・・・・・
３．５ｇｐ−ヒドロキシ安息香酸のメチルエステル・・
・・・・・・・０．３ｇ香料
・・・・・・・・・０．５ｇ水 ・
・・・・・・・・全体が１００ｇになる量実施例 ■ 以下の成分を混合して遮光性（日焼は止め用）油を製造
する。
５．９セチルステアリルアルコール ・・・・・
・・・・ ２ｇグリセロールのモノステアレート・・・
・・・・・・ ４ｇセチルアルコール ・
・・・・・・・・ ４ｇワセリン油
・・・・・・・・・ ５ｇブチルステアレート
・・・・・・・・・ ５ｇプロピレングリコ
ール ・・・・・・・・・ ７９シリコーン油
・・・・・・・・・０．１２５ｇＵ
ＮＩＯＮＣＡＲＢＩＤＥ社からＰＯＬＹＯＸの商品名で
市販されている高分子量の非イオン性重合体の ５％水溶液 ・・・・・・・・・
３．５ｇｐ−ヒドロキシ安息香酸のメチルエステル・・
・・・・・・・０．３ｇ香料
・・・・・・・・・０．５ｇ水 ・
・・・・・・・・全体が１００ｇになる量実施例 ■ 以下の成分を混合して遮光性（日焼は止め用）油を製造
する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次式■： で示される基を表わす） の反復重合単位の少くとも一つを含有し、平均分子量が
２，０００乃至１，０００，０００の範囲にあることを
特徴とする遮光性重合体。 ２ 次式■： 〔式中Ｚ、は次式： で示される基を表わし、Ｒ′は水素原子あるいはメチル
基を表わし、Ｙは次式： （但しＸは四級化した又は四級化されていないジメチル
アミノエチル基又はＣｌ８Ｈ３□を表わす）および （但しＡはグルコサミン残基である）の基の群より選ば
れる基を表わす〕で表わされる反復単位を有し、平均分
子量が２，０００乃至１，０σｏ、ｏｏ。 の範囲にあることを特徴とする遮光性共重合体。 ３ 遮光性を有する反復重合単位を共重合体全重量に対
して１５乃至１００％、なるべくは２０乃至８０重量％
の範囲で含有する特許請求の範囲第２項に記載の共重合
体。 ４ 共重合体が２−〔（アクリルアミドメチル−２１−
ヒドロキシ−５／−メチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールと硫酸ジメチルで四級化したＮ、Ｎ−ジメ
チル−２−アミンエチルメタクリレートとの共重合体お
よび２−〔（アクリルアミドメチル−２７−ヒドロキシ
−５７−メチル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルとステアリルアクリレートとの共重合体からなる群よ
り選ばれる特許請求の範囲第２項記載の共重合体。 ５ 第一段階で次式： （式中Ｚ１は次式： 又は で示される基を表わす） の不飽和誘導体を先ず調製し、次いで、第二段階でこの
誘導体をホモ重合することを特徴とする、次式■： で示される基を表わす） の重合単位の少くとも一つを含有する遮光性重合体の製
造方法。 ６ 第一段階で次式： （式中Ｚ′は後記の意義を有する）の不飽和誘導体を先
ず調製し、次いで、第二段階で所期の遮光性共重合体に
相当する比率でこの誘導体を少くとも１つのコモノマー
と共重合させることを特徴とする、次式（■）： 〔式中Ｚ１は次式： で示される基を表わし、Ｒ′は水素原子あるいはメチル
基を表わし、Ｙは次式： （但しＸは四級化した又は四級化されていないジメチル
アミノエチル基又はＣｌ８Ｈ３□を表わす）（但しＡは
グルコサミン残基である）の基の群より選ばれる基を表
わす〕で表わされる反復単位を有する遮光性共重合体の
製造方法。 ７ 次式■： （式中Ｚ、は次式： 又は で示される基を表わす） の重合単位の少くとも一つを含有し、平均分子量が２，
０００乃至１，０００，０００の範囲にある遮光性重合
体の少くとも一つを適当な化粧品媒体中に配合して成る
ことを特徴とする、日焼は止め用化粧品組成物。 ８ 遮光性重合体を組成物全重量に対して０．２乃至２
０％の範囲の比率で含有する特許請求の範囲第７項に記
載の化粧品組成物。 ９ 水溶液、水性アルコール溶液、油性溶液、ゲル、ク
リーム、乳液あるいはエアゾールの形で用いられる特許
請求の範囲第７項または第８項に記載の化粧品組成物。 １０ 次式■： 〔式中Ｚ１は次式： で示される基を表わし、Ｒ′は水素原子又はメチル基を
表わし、Ｙは次式： （但しＸは四級化した又は四級化されていないジメチル
アミノエチル基又はＣｌ８Ｈ３□を表わす）及び （但しＡはグルコサミン残基である）の基の群より選ば
れる基を表わす〕で表わされる反復単位を有し、平均分
子量が２，０００乃至ｉ、ｏ ｏ ｏ、ｏ ｏ 。 の範囲にある遮光性共重合体の少くとも一つを適当な化
粧品媒体中に配合して成ることを特徴とする、日焼は止
め化粧品組成物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7623174A FR2359857A2 (fr) | 1976-07-29 | 1976-07-29 | Polymeres anti-solaires et compositions cosmetiques les contenant |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5316093A JPS5316093A (en) | 1978-02-14 |
| JPS5825324B2 true JPS5825324B2 (ja) | 1983-05-26 |
Family
ID=9176322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8307777A Expired JPS5825324B2 (ja) | 1976-07-29 | 1977-07-13 | 遮光性重合体、その製法およびそれを含有する化粧品組成物 |
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| JP (1) | JPS5825324B2 (ja) |
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| CA (1) | CA1043495A (ja) |
| CH (1) | CH610338A5 (ja) |
| DE (1) | DE2734149A1 (ja) |
| FR (1) | FR2359857A2 (ja) |
| GB (1) | GB1579647A (ja) |
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| GB1407670A (en) * | 1973-06-29 | 1975-09-24 | Oreal | Anti-sunburn polymers |
-
1973
- 1973-06-29 CA CA175,249A patent/CA1043495A/fr not_active Expired
-
1976
- 1976-07-29 FR FR7623174A patent/FR2359857A2/fr active Granted
-
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- 1977-05-13 SE SE7705635A patent/SE432428B/xx not_active IP Right Cessation
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- 1977-05-19 GB GB2122877A patent/GB1579647A/en not_active Expired
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- 1977-07-13 JP JP8307777A patent/JPS5825324B2/ja not_active Expired
- 1977-07-28 DE DE19772734149 patent/DE2734149A1/de active Granted
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