JPS5828253B2 - オレフインノスイワホウホウ - Google Patents
オレフインノスイワホウホウInfo
- Publication number
- JPS5828253B2 JPS5828253B2 JP50064032A JP6403275A JPS5828253B2 JP S5828253 B2 JPS5828253 B2 JP S5828253B2 JP 50064032 A JP50064032 A JP 50064032A JP 6403275 A JP6403275 A JP 6403275A JP S5828253 B2 JPS5828253 B2 JP S5828253B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beryllium
- catalyst
- reaction
- water
- present
- Prior art date
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- Expired
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオレフィンを気相で水和してアルコールを製造
するに際して用いられる新規な触媒に関する。
するに際して用いられる新規な触媒に関する。
更に詳しくは、オレフィンの水和触媒としてベリリウム
塩を用いるオレフィンの気相水和方法である。
塩を用いるオレフィンの気相水和方法である。
従来、例えば、硫酸、りん酸、げいタングステン酸等の
酸触媒または金属酸化物触媒等が、気相および液相での
オレフィンの水和反応に有効であることが知られている
。
酸触媒または金属酸化物触媒等が、気相および液相での
オレフィンの水和反応に有効であることが知られている
。
しかしながら、これらの触媒は腐蝕の問題があるとか、
低活性、あるいは失活が速いなどの点で改良を迫られて
L・る。
低活性、あるいは失活が速いなどの点で改良を迫られて
L・る。
本発明者らはオレフィンの水和用触媒を種々探索した結
果、ベリリウム塩が気相での水和反応触媒として高活性
であり、失活が遅く、副反応が少く、かつ装置材料の腐
蝕も殆どないことを見出し、本発明の方法に到達した。
果、ベリリウム塩が気相での水和反応触媒として高活性
であり、失活が遅く、副反応が少く、かつ装置材料の腐
蝕も殆どないことを見出し、本発明の方法に到達した。
即ち、本発明の方法は、ベリリウム塩の存在下、気相で
オレフィンと水とを反応させるオレフィンの水和方法で
ある。
オレフィンと水とを反応させるオレフィンの水和方法で
ある。
本発明の方法において使用されるべIJ IJウム塩は
、例えば硫酸ベリリウム、硝酸べIJ IJウム、塩化
ベリリウム、臭化ベリリウム、炭酸ベリリウムけいタン
グステン酸ベリリウム、酸性けいタングステン酸ベリリ
ウム、硫酸ベリリウムアンモニウム、硫酸ベリリウムナ
トリウム、硫酸ベリリウムカリウム等の単塩、複塩、錯
塩等を含む。
、例えば硫酸ベリリウム、硝酸べIJ IJウム、塩化
ベリリウム、臭化ベリリウム、炭酸ベリリウムけいタン
グステン酸ベリリウム、酸性けいタングステン酸ベリリ
ウム、硫酸ベリリウムアンモニウム、硫酸ベリリウムナ
トリウム、硫酸ベリリウムカリウム等の単塩、複塩、錯
塩等を含む。
これらの塩の一種または二種以上の混合物を水和触媒と
して使用することもできる。
して使用することもできる。
前記した触媒の使用に際しては、前記の塩自身を触媒と
することもできるが、前記の塩を担体に担持せしめて使
用することもできる。
することもできるが、前記の塩を担体に担持せしめて使
用することもできる。
用いられる担体は、前記触媒と反応せず、適度の強度を
持つ有孔性固体であればいずれでもよい。
持つ有孔性固体であればいずれでもよい。
本発明の方法における反応温度は、一般に100〜40
0℃の温度範囲が採用され、通常対象とするオレフィン
の分子量が大きくなるほど低(・反応温度範囲が選ばれ
る。
0℃の温度範囲が採用され、通常対象とするオレフィン
の分子量が大きくなるほど低(・反応温度範囲が選ばれ
る。
例えば、エチレンを用いるときは200〜350℃、プ
ロピレンを用(・るときは120〜300℃、ブテン類
を用いるときは110〜250℃の温度範囲が適当であ
る。
ロピレンを用(・るときは120〜300℃、ブテン類
を用いるときは110〜250℃の温度範囲が適当であ
る。
本発明における反応圧力に関しては、一般に高圧にする
ほど転化率が大きくなるが、圧力の増大は副生物を増大
するおそれがあるので通常100”j /cr;を以下
の圧力範囲の採用が好ましい。
ほど転化率が大きくなるが、圧力の増大は副生物を増大
するおそれがあるので通常100”j /cr;を以下
の圧力範囲の採用が好ましい。
オレフィンと水とのモル比は、反応条件において水の凝
縮が起らないようにオレフィン:水−1:0.1〜3.
0の範囲で実施することが好ましく・。
縮が起らないようにオレフィン:水−1:0.1〜3.
0の範囲で実施することが好ましく・。
本発明の方法において対象とするオレフィンは、通常炭
素数4までのものであり、エチレン、プロピレン ブテ
ン−1ブテン−2、イソブチレンなどが一般的である。
素数4までのものであり、エチレン、プロピレン ブテ
ン−1ブテン−2、イソブチレンなどが一般的である。
本発明に用いる反応装置に関しては、特に制限はなく、
一般に気相用の連続式反応装置が用いられる。
一般に気相用の連続式反応装置が用いられる。
その具体的方法は、例えば、本発明による触媒を含む反
応管の中で、オレフィンと水蒸気とを並流または向流で
接触せしめ、反応管から排出する気体を冷却凝縮し、ア
ルコールを含む水溶液から蒸留法によりアルコールを分
離する方法が通常採用される。
応管の中で、オレフィンと水蒸気とを並流または向流で
接触せしめ、反応管から排出する気体を冷却凝縮し、ア
ルコールを含む水溶液から蒸留法によりアルコールを分
離する方法が通常採用される。
未反応のオレフィンと水は循環して使用することができ
る。
る。
本発明により用いられる触媒は従来の触媒に比較して次
のようにすぐれている。
のようにすぐれている。
即ち、従来法である硫酸触媒の場合は、反応はエステル
化工程と加水分解工程の2段階で行われるが、本発明に
よる方法では1段階でアルコールが生成する。
化工程と加水分解工程の2段階で行われるが、本発明に
よる方法では1段階でアルコールが生成する。
また。従来法である固体りん酸触媒の場合は活性が低い
と言う欠点があり、一方げいタングステン酸触媒の場合
においても活性低下が速く、副生物が多く且つ触媒自体
がきわめて水に溶は易いと言う欠点があったのに対して
、本発明による触媒の場合は比較的水に溶は難く、活性
低下は遅くかつ副生物も少い。
と言う欠点があり、一方げいタングステン酸触媒の場合
においても活性低下が速く、副生物が多く且つ触媒自体
がきわめて水に溶は易いと言う欠点があったのに対して
、本発明による触媒の場合は比較的水に溶は難く、活性
低下は遅くかつ副生物も少い。
さらに特公昭46−3455により知られてL・る酸性
硫酸アンモニウムは融点が低く、反応条件下では液状で
あり、水和活性は比較的低く且つ活性低下も速いのに対
して、本発明による触媒は融点は高く、反応条件下では
固体であり、水相活性は高く、活性低下も遅い点ですぐ
れている。
硫酸アンモニウムは融点が低く、反応条件下では液状で
あり、水和活性は比較的低く且つ活性低下も速いのに対
して、本発明による触媒は融点は高く、反応条件下では
固体であり、水相活性は高く、活性低下も遅い点ですぐ
れている。
次に実施例により本発明をさらに説明する。
実施例 l
直径5mm、長さ5關のシリカゲルに5M酸ベリリウム
の25重量%濃度の水溶液を含浸させた後、水を蒸発乾
固して触媒とした。
の25重量%濃度の水溶液を含浸させた後、水を蒸発乾
固して触媒とした。
この触媒50Tllを反応管に充填し、180℃で1時
間乾燥した後、反応管中にプロピレン4000m1/h
、水5.8?/h、プロピレン:水−2:1、反応温度
180℃として常圧で反応させ、反応生成物を常温まで
冷却した。
間乾燥した後、反応管中にプロピレン4000m1/h
、水5.8?/h、プロピレン:水−2:1、反応温度
180℃として常圧で反応させ、反応生成物を常温まで
冷却した。
得られた水溶液をガスクロマトグラフで分析した結果、
インプロパツール濃度は21.4重量%であり副生物と
して痕跡量のイソプロピルエーテルおよびアセトンが得
られた。
インプロパツール濃度は21.4重量%であり副生物と
して痕跡量のイソプロピルエーテルおよびアセトンが得
られた。
実施例 2
実施例1において実施した方法において、硫酸ベリリウ
ムの代りに硝酸ベリリウムを用いて実施例1と同様に実
施した結果、得られた水溶液のインフロパノール濃度は
15.2重量%であり痕跡量のイソプロピルエーテルお
よびアセトンが得られた。
ムの代りに硝酸ベリリウムを用いて実施例1と同様に実
施した結果、得られた水溶液のインフロパノール濃度は
15.2重量%であり痕跡量のイソプロピルエーテルお
よびアセトンが得られた。
実施例 3
実施例1において用いた25重量%濃度の硫酸ベリリウ
ム水溶液を含浸せしめたシリカゲル触媒を用いて、プロ
ピレンの代りにエチレンを用いた例を示す。
ム水溶液を含浸せしめたシリカゲル触媒を用いて、プロ
ピレンの代りにエチレンを用いた例を示す。
すなわち反応温度280℃、反応圧カフ 0 kg/c
rA、SV 2000 ml/ h、エチレン:水−1
:0.6で反応させ、以下実施例1と同様に実施した。
rA、SV 2000 ml/ h、エチレン:水−1
:0.6で反応させ、以下実施例1と同様に実施した。
生成物として得られた水溶液中のエタノール濃度は15
.8重量%であり痕跡量のエチルエーテル及びアセトア
ルデヒドかえられた。
.8重量%であり痕跡量のエチルエーテル及びアセトア
ルデヒドかえられた。
実施例 4
実施例1において用いた25重量%濃度の硫酸ベリリウ
ム水溶液を含浸させたシリカゲル触媒を用いて、プロピ
レンの代りにブテン−1を用いた例を示す。
ム水溶液を含浸させたシリカゲル触媒を用いて、プロピ
レンの代りにブテン−1を用いた例を示す。
すなわち反応温度150℃、Sv4000ml/h、水
5.1’/h、ブテン−1:水−2: 1、常圧で反応
させ、以下実施例1と同様に実施した。
5.1’/h、ブテン−1:水−2: 1、常圧で反応
させ、以下実施例1と同様に実施した。
生成物として得られた水溶液中のSeeブタノールの濃
度は18.7重量%であり他に微量の不明物質かえられ
た。
度は18.7重量%であり他に微量の不明物質かえられ
た。
比較例 1
実施例1において用いた触媒の代りに40重量%濃度の
酸性硫酸アンモニウムを含浸させたシリカゲル触媒を用
いて、反応温度200℃とし、以下実施例1と同様に実
施した結果、得られた水溶液中ノイソプロパノール濃度
は10.1重量%であり痕跡量のイソプロピルエーテル
及びアセトンかえられた。
酸性硫酸アンモニウムを含浸させたシリカゲル触媒を用
いて、反応温度200℃とし、以下実施例1と同様に実
施した結果、得られた水溶液中ノイソプロパノール濃度
は10.1重量%であり痕跡量のイソプロピルエーテル
及びアセトンかえられた。
比較例 2
実施例1において用いた触媒の代りに50重量%濃度の
げいタングステン酸水溶液を含浸せしめたシリカゲル触
媒を用いて、プロピレン12000rIll/h、水5
.1’/h、反応温度180°C1常圧で反応させ、以
下実施例1と同様に実施した結果、生成物として得られ
た水溶液中のイソプロパツールの濃度は9.6重量%、
アセトンの濃度は5.3重量%であり他に微量のイソプ
ロピルエーテルかえられた。
げいタングステン酸水溶液を含浸せしめたシリカゲル触
媒を用いて、プロピレン12000rIll/h、水5
.1’/h、反応温度180°C1常圧で反応させ、以
下実施例1と同様に実施した結果、生成物として得られ
た水溶液中のイソプロパツールの濃度は9.6重量%、
アセトンの濃度は5.3重量%であり他に微量のイソプ
ロピルエーテルかえられた。
Claims (1)
- 1 オレフィンを気相で水和してアルコールを製造する
に際し、ベリリウム塩の存在下、気相でオレフィンと水
とを反応させることを特徴とするオレフィンの水相方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50064032A JPS5828253B2 (ja) | 1975-05-30 | 1975-05-30 | オレフインノスイワホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50064032A JPS5828253B2 (ja) | 1975-05-30 | 1975-05-30 | オレフインノスイワホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51141802A JPS51141802A (en) | 1976-12-07 |
| JPS5828253B2 true JPS5828253B2 (ja) | 1983-06-15 |
Family
ID=13246368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50064032A Expired JPS5828253B2 (ja) | 1975-05-30 | 1975-05-30 | オレフインノスイワホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5828253B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49135612A (ja) * | 1973-04-26 | 1974-12-27 | ||
| JPS5010954A (ja) * | 1974-04-16 | 1975-02-04 |
-
1975
- 1975-05-30 JP JP50064032A patent/JPS5828253B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51141802A (en) | 1976-12-07 |
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