JPS582865A - 磁気潜像の生成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱磁気画像形成方法、そして更に詳しく紘好ま
しくは支持ベース上にコーティングされた磁化可能な層
上に潜在磁気画像（ＩＩ気漕＠）を生成させることに関
する。

支持ベース上にコーティングされた磁化可能な層上に磁
気潜像を生成させることは尚技術分野では周知である。

最初の試みは１８３９年までさかのぼると信じられる。

これらは黒化鉄プレート上に磁化針を使用して描くこと
による磁気潜像の生成を包含している。

層の選択的曹様加熱の使用によって強磁性層上Ｋｆｌｌ
ｆｌｌを生成させる方法としての熱磁気記録法（熱！ダ
ネトグラフイー）はその後非常に広く知られるようにな
った。しかしながらほとんどの非ハロゲン化銀画像形成
系と共通してこの方法は写真速度が低いという欠点を有
している。

すなわち画倫形成された表面の所定部分の性質を選択的
に変化させて変化部分の読み取、ＤＫ使用しうるに適轟
なシグナルを生成させるためには実質的量のエネルギー
が要求される。

熱磁気記録法を使用して磁気潜像をつくる場合には、い
くつかの方法の一つによって１インチ当）約５０〜４０
００　（１９，７〜１５７４８／ｌ１ｌ）の磁束リバー
サルそして好ましくは１００〜３０００（５９，５７〜
１１８１．１／ｃＩ１１）の磁束リバーサルを使用して
表面上に交番磁気パターンが典型的に印加される。１サ
イクル／インチとは１インチ轟９２回の磁束リバーサル
を包含することを認識すべきである。

往々にして、磁気層の表面は所値の周期的／櫂ターンの
磁気マスターリコーディングの上に連゛続的にコーティ
ングされた磁気物質の表面を有する磁気部材を置くこと
によ〕熱残留的に構成されている。次−で外的エネルギ
ー源を適用して磁気部材の表面をそのキュリ一温度以上
に加熱する。この磁気部ｍ、の表面がそのキュリー温１ 度板下に冷却した際、それは磁気ｉスターリコーデイン
グからの周期的磁気シグナルによって熱残留的に磁化さ
れろ、針状二酸化クロムが磁気部材の表面の磁性物質と
して使用されている場合にはわずか２５エルステツドを
使用してキュリ一温度を通過させた場合に磁気部材表面
を構成させることができる。しかしながら室温で針状二
酸化クロムに検出可能な磁気を印加するためには２００
工ルステツド以上が必要である。

あるいはまた、磁気層の全幅にわたっている磁ｉｔ鎌ヘ
ッドを使用して移動する磁気テープ上に音声（サウンド
）記録がなされるのと大体同一の方法で交番磁気パター
ンを層上に印加することができる。

１９７１年轟時米国特許第４５５５．５５６号明細書は
すてに熱磁気記録の基本的方法を開示してお〕、そして
これは更に非磁性支持体表面上に塗布された結合剤中の
針状電磁性粒子を包含する予め磁化され友確気層を像様
消磁する方法においては、消　６− 磁は層の厚さ全体にわたって完全に実施する必要はない
こと、そして層の厚さに関して部分的な消磁を使用した
場合でさえも充分な曹形成を得ることができることを開
示して−ム熱磁気記録法の使用の重要な応用は米５１４
＋１許出願第１７ミ８７１号（１９８０年７月３０日出
願）明細書中に示されている。その明細書においては潜
在磁気儂はそれをトナー粒子で処理し、これを次いで圧
力下に加熱された基質に転写させる仁とによって読み取
られる。

熱磁気記録法の使用がより広がるにつれて、より高い像
生成速度を可能ならしめそしてより少い出力損失を生ぜ
しめる良めには勿論、これら多くの適用に使用するに必
要な磁気潜像が最もエネルギー効率のよ一方法で製造さ
れることが漸増的に望ましいものとなった。１ｍ気層が
樹脂結合剤を含有している実際の応用においては、　６
− より低いエネルギー人力は結合剤のよシ少い加熱の結果
となり、これは次いで樹脂結合剤の熱的変形および分解
のような厄介な問題の若干を解消する。

従来技術の問題の観点から、本発明は、ノセターン形成
せしめられた磁気層の露出部分および未露出部分の間の
よシ大なる磁場勾配が層をその全厚さよりも小さく消磁
させるような方法で消磁を行わせそしてそれによって層
の露出（消磁）部分および未露出（磁化）部分の間によ
り良好な磁場勾配さえも生成させるように使用エネルギ
ー源に／々ターンの周波数を同調させることによって得
られる潜偉生成方法に関する。

更に詳しくは本発明は、下記すなわち （１）　　＊様様式で層を熱放射に露出させそれによっ
て層の露出部分をその強磁性物質のキュＩＪ一温度以上
に加熱させそして消磁させること、そして （２）　　層を常温まで冷却させることの各段階を包含
するその上に交番磁気／ぞターンを印加し九強磁性体層
上に潜在磁気曹を生成させる方法であ〕、而してその消
磁部分および磁化部分の間の磁場勾配が（ａ）層のキュ
リ一温度を越えそして層が層の完全な厚さより少く消磁
されるように熱放射露出の強度および持続を調整する仁
と、そしてし）層の消磁され九部分の下にああ磁気層か
らの残存磁場が冷却の酸層の消磁部分に逆の極性の磁気
を誘発させるに充分なだけ高いものであるように交番磁
気パターンの周波数を調整させて、残存磁場と層の露出
部分の誘導磁場の故に生じた場との合計強度が層の未露
出部分の磁場り度の５０慢以下となるに充分な大きさの
磁場を生成させるととによシ改善されている方法に関す
る。

添付図面において、 第１図はその中の磁化を示す磁化層の未露出部分の断面
の模式的ダイヤグラムである。

第２図はその中の磁化を示す磁化層の露出部分の断面の
模式的ダイヤグラムである。

第５図は七〇キュリ一温度における磁化層の露光部分の
断面の模式的ダイヤ・グラムであ机第４図は印加され九
磁気パターンの周波数の函数としての再磁化層の：相射
的場強度の数学的関係のプロットである。

第５図は印加された磁気パターンの周波数の函数として
の前磁化および再磁化層の相対釣場強度の間の数学的関
係のプロットである。

第６図は前磁化された磁性層中に潜在的磁気倫を生成さ
せる良めの典型的装置の模式図である。

米ｒａ＊許第３，５５５，５５６号明細書は、熱磁気記
　９− 鎌法においては、消磁が前磁化基層の全厚さにわたって
生ずることは本質的ではないこと、そしてそのような限
定された消磁にもかかわらず、それは「なお止歯な磁気
勾配を与えうる」こと、すなわちそれは読み敗９を与え
うるものである仁とを開示している。更にこの米国特許
明細書はま良「消磁が露出部分において磁気基層の全深
さにわ九って完全である場合でさえも、そのような部分
をそのキラリーー変以下に冷却させた場合には非露出部
分のまわりの磁性物質の場効果の結果としてその中にあ
る量の再生磁気が明白となる」と述べてｉる。前記特許
明細書は磁気層の全厚さよシ少い熱残留消磁は付随的に
行われる仁と、そしてそのような現象はなおいくつかの
手段により読み取り可能な漕倫を生成させる結果となり
うることを開示しているけれども、予期せざることに、
露出の強度および持−１〇− 綬の制御によって消磁の深さを前磁化パターンの周波数
および磁性層の厚さの両方に関して相関させるならば、
磁化層の露出部分および未露出部分の間の改善された場
効果が得られることがここに発見された。

本明細書に使用されている「前磁化（ｐｒｅｍａｇｎｅ
　−ｔｉｇａｔｉｏｎ）　Ｊの表現はされ【いないかま
えは均一に磁化された層に対して印加された交番磁気Ａ
ターンを意味している。

前磁化周波数は磁性層からの残留磁場が、冷却し友場合
に層の消磁部分に反対の極の磁化を誘発させて、加熱部
分の下にある部分の磁気による場を実質的に相殺するに
充分な大きさの磁場を生成させるに充分なだけ高い亀の
となるように選ばれる。すなわち仁の１方；：法が機能
するためには３個の相互に関連した変数′が重要であシ
、それら変数は （１）　　前磁化の周波数、 （２）磁気層の厚さ、および （３）　　露出の間に消磁される磁気層の深さである。

消磁の深さは露出の持続、磁気層中への露出放射の浸透
、磁性物質の吸収特性およびその物質中の熱拡散速度の
函数である。熱拡散が最小に保持される場合には短い露
出が−ましい、熱拡散は一般的に望ましくないものであ
る。その理由はそれが露出部分を拡大させ、そして像の
生長を生ぜしめる傾向があ〕、これは解像性を低下させ
るからである。

前磁化周波数の選択Ｋｆｉっては、磁気層の上部の露出
および消磁の後、消磁された部分の下にある磁気層の部
分：・に由来する場が、消磁されｌ！□ た層がそのキュリ一温度を経て冷却する際に、要求され
る再磁化を生ぜしめるに充分な強度をもって消磁部分の
表面まで全部に完全に延びておりそして浸透するような
限界内に留まるように注意を払わなくてはならない。５
エルステツドの低い場強度が有意の再磁化を生ぜしめる
にしても、ＣｒＯ２が磁気層として使用される場合には
充分な逆再磁化を生成するためには少くとも２５エルス
テツドの場強度が消磁された層全体にわたって利用可能
であることが好ましい。

しかしながら選ばれた前磁化周波数はまた第２の様式で
消磁の深さに４依存する。それは前記の再磁化要求を満
足しなくてはならないのみならず、それはまた露出部分
および非露出部分の関に可及的最大の勾配を示すような
場を磁気層表面に生成させなくてはならない。

以下には良好な潜像品質を保持しつつ露出を最小とする
ための最適の前磁化周波数、露出による消磁の深さ、お
よび磁気層厚さを計算する１３− ために必要な数学的手段を与える。

本発明の操作性に寄与する理論的ファクターは完全には
理欝されてφない。しかしながらそれは下にある非加熱
層による加熱層の逆再磁化に起因すると信じられている
。可能性ある説明は「工ＫＩｌｌＲＴｒａｎｓ、ｏｎ　
Ｍａｇｎｅｔｉａｓ　Ｊ第１０巻第６０頁（１９７４）
に開示の理論的関係式を利用することによって得ること
ができる。本発明がそれに基いでいると信じられる理論
的関係式は数学的には次のようにして到達することがで
きる。

第１図においては厚さｄを有する前磁化層が模式的に説
明されている。第１図に示されているように、この前磁
化は磁気層の全厚さｄＫわたって延びている。以下の計
算および議論においては、ｄは常に磁気層の前磁化層さ
を意味するものとして通解されるべきである。これは通
常この層の全厚さにわたってｉるがしかし必ず１４　− しもそうである必ＩＮはない。

矢印社磁化の極性（磁気ベクトル）を表わす。

すなわち例示されてｉる層中に示されている磁気極性に
対しては、 （１）　　　Ｍｘ−Ｍ２　　ｓｉｎ　ｋｘである。ここ
でＭｘはＸ方向の磁気ベクトルであ１、ｘは基準距離で
あ夛そしてＭ２はその大きさを表わす、に／／／１ｋ−
２１／λ（式中λはインチ／サイクルの印加前磁化の波
長である）に等しい波数である。

嬉２ａｉ７に関しては、′本明細書に前記されたように
、磁気層を（ｄｌ）深さまでそのキュリ一温度以上に加
熱し九場合、層は消磁される。それがそのキュリ一温度
以上に冷却すると、層ｄ２中の磁化からの場は層と２と
は反対の極悸を有する磁化で層ｄ１を再磁化宴せゐ、　
ａｌにおける再磁化の程度は層ｄ！の磁化からの鴫の強
、８に依存する。露出され良層ｄの消磁部分および非情
磁化部分、すなわちｄｌおよび１１２を示している第５
図に関して、磁性層の上側表面２のＸ方向の場は式％式
％ において最大となる。

磁気層中にＣｒＯ２物質が使用される場合には、経験に
よりＨ２＞２５０ｅ値に対して充分な４１層の再磁化が
生ずることを示し良。

第４図においては、磁気層深さが１０μｍでありそして
消磁が２μｍ６＊ｉＥｔで生じた一定の場合に対する、
前磁化周波数の函数としてＨ２がプ　　　　゛ロットさ
れ九曲線が示されてｉる。

第１図に示されて−る系の磁場は次のように表わすこと
ができる。す々わち （４）　　（Ｈｏ　）ｘ　　２ｆＭｔθ−，−につａ−
”ｇｉｎ　ｋｘ”）　　　（Ｈａ）ｙ＝−２ｆＭ２（１
、−につｅ−”ｃｏｏ　ｋｘ式中％、　（Ｈｏ）ｚおよ
び（Ｈｏ）ｙは消磁の前の層から′く ミ４ 磁させそしてｄ１深さまで再磁化させた後の第１図の同
一の前磁化層が示されている。方法６２はその最初の磁
気を保持している層の下情部分の深さを表わしている。

深さａｌｔで層中に誘発された磁気は残存する最初の磁
気深さくｄ２）に対して極性において反対なのであるか
ら、再磁化および下にある磁化層による磁場成分（ＨＸ
およびＨ，）は前記方程式（４）　ｋよび（５）と同様
に表わすととができる。すなわち （６）　　ＨＸ−７ｆＭ１　（１−ｅ　−にｌ）ｅ″″
ｋｙｓｉｎ　ｋｇ１７− ２ｆ１７−２ｆ”″に６２）ｅ−ｋ（ｙ−ｔ４ｔ　）　
ｓｉｎ　ｋｘ（７）　　Ｈｙ−２ｇＭ１　（１−ｅ″″
ｋ（ｌｌ）、″″東ｏｇ　ｋＸ２ｆＭ２（１ｅｋ″す＠
−ｋ（７”１）ａｏｓ　ｋｇαの項を町とＭ２との比に
対して代入した場合には、像形成部分および非像形成部
分における磁場の千友の比（Ｈ２Ａ昭）は次のように表
わす仁とができる。

（１−・−につ２ すなわち消磁深さくｄｌ）が００場合には、前記函数は
１であり、これは像形成部分および非像形成部分の磁気
が同一であることを示す。すなわち潜僚は存在しなへこ
のことからＶ馬は従ってなるべく低いものであるべきこ
とが明白である。

前記方程式を微分する仁とによって函数Ｈ怖：はｋ（ｌ
が １８− に等し一場合に最小となることが見出される。

これは函数Ｈ２／Ｈｏに及ぼす磁化層に最初に与えられ
た場の波長の効果のプロットである第５図においてグラ
フ的に示されている。すなわち前磁化周波数（ｋ）、層
の全厚さくｄ）および消磁深さくｄｌ）の間には、層の
表面上の露出部分および未露出部分の場の間に最大勾紀
を生成するような関係が存在する。この差が最大の時に
像の解儂性もまた最高となろう、それにもかかわらず、
この差が顕著により低い場合でも完全に許容できる儂を
得ることができる。すなわち’Ｆｌ／１１ｏＦｉ（Ｌ　
５の高い亀のであシうるがしかしこれは好ましくは約α
２５以下またはそれよセ低いものである。

方１式（８）の関係を使用して、磁気層の露出部分およ
び非露出部分の間の場の強度の最大の差を一定波長にお
いて決定することができる。これは次の表１に示されて
いる。

表　　１ １　　　　　［Ｌ５ ２．５　　　　１．１ ５．０　　　　１．Ｂ １１１０２．５ ５α０２．８ １０ａ０　　　　２．８ （前記データは鴫−０，１／λ−１０００サイクル／イ
ンチおよび１Ｍ−ＩＫ基〈） 同様にして、磁気層に対して適当な物理的デ“−ｐにつ
いて前記に参照されている方１式（７）を使用して、次
の館２表に示されているように磁化層中の像浸透深さｄ
ｌの程度に対して初めの磁化の波長を最適化させること
ができる。

表　　２ ＊＊さの函数としての最適磁場波長 １　　　　　　　　　　２７８９ ２　　　　　　　　　　１！５３４ ３　　　　　　　　　　７２８ ４　　　　　　　　　　３１５ （ｄ−１０μ） 前記関係式の誘導においては多数の仮定がなされており
、そしてこの誘導は最適な理論的考察を開示する４ので
あることが理解されるべきである。その操作は前記関係
式によシ示される最適点には必ずしもないにしても、実
際には充２１− 分なエネルギー節約を得ることができる０例えば露光部
分を計算されたｄｌより亀一層大なる深さまで消磁させ
ることが可能である。また、部分ｄ１が冷却しそして再
磁化される場合にそれをｄｌより小さい距離まで再磁化
させること、そして上側表面ま良はその近くでさえも再
磁化をゼロとすることが可能である。しかも、表面上に
得られる場が未露出部分の場の５０−以下である場合に
は、着干のエネルギー人力の無駄があるにしても良好な
潜像形成が得られる。

実験結果は前記関係式を支持する０例えば適当な交叉結
合剤、可塑剤および安定剤を加えたポリビニリデンクロ
リドおよびポリウレタンを包含する結合剤中の針状Ｃｒ
Ｏ２粒子の分散物を１００３インチ厚さのポリエチレン
テレフタレート支持体上にコーティングしそして硬化さ
せて、支持体上に１０μｍ厚さの強磁性層を生成させた
。こ２２− の強磁性層上にコーティング方向にその幅にわたって正
弦波磁気／（ターンを印加した。選ばれた前磁化パター
ン周波数１１１０００サイクル／インチであった。次い
でビームが前磁化層上を走査する際に像含有ハロジン化
銀写真フィルムを使用することによって調整したネオジ
２ウムＹＡＧレーザーの出力にこの前磁化された層を儂
様露出せしめた。露出時間社約２００ナノ秒でありそし
て露出水準は約１００ｍジュール／ｉであつ九、このエ
ネルギー水準は１０μｍの層を完全に消磁させるには不
充分であシ、そしてその消磁深さは約２ｐｍと推定され
た。しかも熱可塑性樹脂中に均一に分散させ九非常に小
さい強磁性酸化鉄粒子を含有する１〜５μｍ範囲の直径
を有するトナー粒子の懸濁液よりなる湿潤トナーをこの
磁気層上に適用した場合には良好な画像が可視的となり
九。

７５０サイクル／インチの周波数を有するパターンで前
磁化され次磁気層を使用して前記の方法をくりかえした
場合、その調色画曹は良好であったが、前記の吃のより
もコントラストは少し悪かった。前磁化周波数を更に５
００サイクル／インチまで低下させ次場合には、その像
品質は境界線上にあると判定された。そしてその前磁化
周波数を３７５サイクル／インチまで低下させた場合に
は、その儂はやっと見分けられるものであった。

これらの結果は前記開示の計算法において到達した予想
結果に良好に相当する。

本発明において儂形成される磁気層は好ましくけ単一ド
メイン硬磁性物質の微細分割針状粒子よりなるものであ
りうる。この層は自己支持性であ）うるしまたはそれは
熱残留儂形成の条　　　　パ件に耐えるに追歯な性質を
有する他の物質上に支持せしめることができる。好まし
い態様においては、この層は１．０〜２０μｍの厚さを
有している。１．５〜１０μｍの厚さは更によル好まし
い。

本発明に関するデータは単一磁気層上に得られたもので
あるけれども、本発明は、同一または異ったキュリ一温
度の磁性粒子の２個またはそれ以上の層よりなる複合磁
気層に対しても同様に使用できることが認識されるべき
である。

本発明の特定の好ましい適用は低キユリ一温度の上側層
およびはるかにより高いキュリ一温度の下側層を含有す
る複合磁気層の使用である。

そのような構造の磁気層の使用の場合に鉱、その下にあ
る高いキュリ一点の層中に全く浸透するととなく上側層
を容易に第−義的にその全深さまで儂形成させることが
できる。方程式（８）の概念内で低いキュリ一点の層の
厚さはｄｌでありそして低キユリ一点層と高キエリ一点
層の合計２６− 厚さはｄである。

本発明は実際的に近づきうるキュリ一温度を有する熱磁
気材料について記載されている１れども、本発明はキュ
リ一温度と同様の様式で、その抗磁性がある高温で最小
値を示す物質に対してもまた適用可能であることは当業
者により認識されるであろう０例えばｒ　ｌ１ｌｉｌ！
：Ｉｌｉ　Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓｏｎ　ｍａｇｎａ
ｔｉｃｓ　Ｊ第Ｍｌ！ＬＩＩＥ　−１１巻第９９９頁（
１９７５年７月）のＡ、ＩＣ，Ｂｅｒｋｏｗｉｔｇおよ
び）１．Ｍｅｉｋｌｅｊｏｈｎ両氏の論文に述べられて
いるタイプｌｊ熱磁性物質を参照されたい。

望ましくは、硬磁性状態に磁化できる物質は１μまたは
それ以下の粒子サイズのものである。

しかしながら１０μの大なる最大寸法を有する粒子例え
ば米国特許第２，９５６，９５５号明細書記載め二酸化
クロム粒子を使用することができる。

そのような粒子は集塊化する傾向があり、そし２６− て従って往にしていずれか一つの磁化可能部分の個々の
単位寸法は多分１０ｔルまでの範囲の集塊を有している
。記鋒およびコピー技術においては、解像力は関与する
作業成分の粒子サイズの函数である。磁気的に帯磁させ
うる最小単位は磁区（ドメイン）であり、そして小粒子
においては磁区のサイズは粒子サイズにより限定される
。従って、磁化されるべき物質の粒子がより小さく且つ
より均一である程好ましい、好ましくはこれら粒子は１
０１〜５μそして最も特別にＦｉ（Ｌｌ〜２．０μ範囲
の゛最大寸法を有しているべきである。磁気物質の粒状
性はまた特に比較的熱伝導性の低い結合剤によって粒子
が相互にそして支持体に結合されている場合の熱拡散に
よる熱画侭のひろがｐを限定、１するようにも働く。

記録部材の製造にあたって形状非等方性または磁気結晶
非等方性を使用して、コーティングの平面中かまたはテ
ープがコピー用プレートまたはフィルムのより大なる消
磁浸透を与えるために所望される場合にテープの表面に
垂直かのいずれかの磁気粒子の好ましい配向を得ること
ができる。

同様に平行な配向すなわちコーティング方向の配向のた
めには、溶媒によるかまたは熱可塑物技術によるかには
関係なぐ、硬化（セット）の前にテープ移動の流れの線
に合せてその場の軸を配向させた磁石の極、片を横切っ
てキャスト（流延）コーティングが直接に延伸せしめら
れる・ 「ハード」として知られているタイプの磁化可能な物質
は磁化され良場合１０８〜ａＯガウスエルステッド×１
０４のエネルギー積（ＢＨ）ｍａｗ、ｓｏｏ〜２１，５
００ガウユ。残留磁気３．４ｏ〜６０００　　　“エル
スデットの抗磁性Ｈ０、および１２００℃以下、好壇し
く＃ｉ２５＠〜５００℃のキュリ一点温度を示しうるも
のでなくてはならな埴。望ましくはこの磁化可能な物質
はまた前記の望ましい性質範囲に合致するなるべく高い
飽和磁気を有しているべ・きである。

本発明に使用するための記帰部材の製造に使用できる種
類の磁気成分のうちの特に顕著なものは二酸化クロム（
Ｃｒ０２）である、この物質は実質的に純粋な形態でか
または１１１またはそれ以上の反応性元素で変性させて
使用することができる０本明細書に使用されている場合
の「二酸化クロム」なる表現は特定的には純粋の形態お
よび変性された形態を包含して−る。製造法および必ｌ
ｉ＆性質を有する組成物の両方に関する適当な情報は米
国特許第２，９５４９５５号、同第４１１７．０９３号
、同第３，０７４，７７８号、同第４０７８，１４７号
、同第４２７ａ２６５号、同第２．９２１６８５号、同
ｓｅ− 第２，９２３，６８４号、同第へ０３４，９８８号、同
第４０６８．ｊ７６号および同第２．９２’５，６８５
号各明細書中に見出される。

磁化可能な層を形成する磁性材料は一般には結合剤中の
粒状硬磁性物質である。適嶋な硬磁性物質としては永久
磁性材料例えば「アルニコス（Ａｌｎｉｏｏｓ月、「ロ
デクセス（Ｉ、ｏｄｅｘａｓ　）Ｊ　（鉛またはプラス
チック中に封入された針状鉄−コバルト合金、ゼネラル
・エレクトリック・コ°ンパニー製品）、「インドクス
（Ｉｎｄｏｘ月バリウムフェライト組成物、およびテー
プレコーディング、磁気ディスクおよ、、び磁気プリン
トインク中に使用される物質があげられる。これら費者
の物質としては酸化鉄Ｃｙｓ２０ｓ）、マグネタイト（
黒色ν・５０４）、ｘ−鉄カーバイドおよび二酸化クロ
ムがあげられる。そ、の磁性の故に針状二酸化クロムが
一般に好ましい、磁気部材は好ましぐはド３０− ラムであるが、その場合倫形成性表面はドラムの一体的
部分でありうるしまたはそれは磁性材料でコーティング
されそしてドラム上忙載置された可撓性フィルムであり
うる。

二酸化クロムは比較的低いキュリ一温度を有しており、
そして所望される粒状形態の場合には比較的高い抗磁性
および比較的高い残留磁気を有している。黴細な粒状二
酸化クロムは更に可視スはクトル領斌にわたって光を吸
収し、すなわちそれは露光光線に対しては墨色である。

磁化可能な基層をコーティングさせる支持体の性質は広
範囲に変動させうムガラス、金属および可撓性重合体の
ような種々の物質を使用することができる可撓性重合体
状支持体が好ましい・ 適用に当っては、曹形成光線が支持体の表面上またはそ
の中の磁性物質の基層上に入射するかし硬磁性物質の不
透明な実質的に連続の基層が記録部材の後からの光の二
次フラッシュにより偏向せしめられる場合にはこの支持
体は光に対して透明であるべきである。

磁気像は当業者には明白な種々の方法によって読み取ら
れうる。磁気再生ヘラ下（例えば磁気テープレコーダー
に使用されているもの）、磁気トナーおよびインクおよ
び磁気光学的方法が包含される。

磁気インクは微細な磁気粒子例えば適当な流体媒体中に
益散せしめた黒色酸化鉄よシなる。

このインク粒子Ｆｉ儂の磁化部分の磁場により吸引され
そして次いで紙に転写させることができる。

同様に、磁気トナーは一般には融着可能な結　　　　゛
合剤に封入された磁気顔料を含有している。この磁気ト
ナーは液体中に分散させる仁とができる。記録部材上の
磁気像を次いで分散物で処理する。過剰の分散物を除去
すると、磁化部分に接着したトナーの故にこの磁気像は
可視的となる。この方法は往々にして磁気像のデコレー
ション（装飾）として記載される。磁気記録部材に接着
しているトナー画像を次いで圧力の助けを借りて、紙１
＋はその他の基材物質に転写させることができる０紙の
上に転写されたトナー画像を次いで封入結合剤の融着に
よって一層永久的のものとすることができる。

読み敗りはまた例えば米国特許第３，２２９，２９３号
明細書に記載のようにして磁気光学的に実施することが
できる。

再び図面に関して述べるに、第６図は強磁性粒子の層上
に潜在画像を印加する友めの典型的な系の模式的代表図
である。より特定的には、３３− ネオリ２ウムドープされたイツトリウムアルミニウムガ
ーネット（Ｎ（１−ＹＡＧ）レーザー１を使用して光の
強いビーム３を生成−させる。これはビーム強度制御器
５を通過するがこの中でビームは偉様変調される。この
制御器５からの倫様形態のレーザービームはフォーカス
系７を通り、そして走査オラー９に送られる。そこから
このレーザービー文は交番磁場によって前磁化されてい
る強磁性層の表面１１上に反射される。

【図面の簡単な説明】

第１図はその中の磁化を示す磁化層の未露光部分の断面
の模式的ダイヤグラムであり、第２図はその中の磁化を
示す磁化層の露出部分の断面の模式的ダイヤグラムであ
り、第５図はそのキュリ一温度における磁化層の露光部
分の断面の模式的ダイヤグラムであり、第４図は印加さ
れた磁気パターンの周波数の函数としての再磁３４− 化層の相対釣場強度の数学的関係のプロットであり、第
５図は印加された磁気ＩＲターンの周波数の函数として
の前磁化および再磁化層の相対釣場強度の間の数学的関
係のプロットであり、そして第６図は前磁化された磁性
層中に潜在的磁気儂を生成させる九めの装置的装置の模
式図である。 特許出願人　　イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コンパニー ３５− ｉｆｆｌにミニｘ　　　。 ＦＩＧ、４ ＦＩＧ、６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）下記すなわち （１）　　層を熱放射に像様露出させそれによって層の
   露出部分をそのキュリ一温度以上に加熱させそして消磁
   させること、そして （２）　　層を常温まで冷却させあととからなるその上
   に交番磁気パターンを印加した強磁性体層上に潜在磁気
   像を生成させる方法において（、）層のキュリ一温度を
   越えそして層が層の完全な厚さより少く消磁されるよう
   に熱放射露出の強度および持続を調整すること、そして
   （ｂ）層の消磁され九部分の下にある磁気層からの残存
   磁場が冷却の際層の消磁部分に逆の極性の磁気を誘発さ
   せるに充分なだけ高いものと謙るように交番磁気パター
   ンの周波数を調整させて、残存磁場と層の露出部分の誘
   導磁場の故に生じた場との合計強度が層の未露出部分の
   磁場強度の５０−以下となるに充分な大きさの磁場を生
   成させること を特徴とする改善された潜在磁気侭を生成する方法。 ２）強磁性粒子が針状ＣｒＯ２である前記特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 Ｓ）熱放射源がレーザーである、前記特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 ４）磁気層の厚さが１．０〜２０μである、前記特許請
   求の範囲第１項記載の方法。