JPS5829560Y2 - 質量分析計 - Google Patents
質量分析計Info
- Publication number
- JPS5829560Y2 JPS5829560Y2 JP5578776U JP5578776U JPS5829560Y2 JP S5829560 Y2 JPS5829560 Y2 JP S5829560Y2 JP 5578776 U JP5578776 U JP 5578776U JP 5578776 U JP5578776 U JP 5578776U JP S5829560 Y2 JPS5829560 Y2 JP S5829560Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- sample
- ionization chamber
- ion source
- sample gas
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は質量分析計、特にケミカルイオン源形質量分析
計の試料ガス導入部に関するものである。
計の試料ガス導入部に関するものである。
従来の電子衝撃イオン源形質量分析計においては、試料
ガス導入部のガス圧力は略１ｍｍ１ｇ、電子衝撃イオン
源のガス圧力はＩＸＩ（）−３ｍｍＨｇそして分析管の
ガス圧力は略Ｉ Ｘ １０−６ｍｍＨｇ以下であり、試
料ガスの進入方向に従ってガス圧力が低くなっている。
ガス導入部のガス圧力は略１ｍｍ１ｇ、電子衝撃イオン
源のガス圧力はＩＸＩ（）−３ｍｍＨｇそして分析管の
ガス圧力は略Ｉ Ｘ １０−６ｍｍＨｇ以下であり、試
料ガスの進入方向に従ってガス圧力が低くなっている。
従って試料ガス導入部に導入された試料ガスはガス圧力
の勾配にしたがって支障なくイオン検出器まで到達させ
ることができる。
の勾配にしたがって支障なくイオン検出器まで到達させ
ることができる。
一方ケミカルイオン源形質量分析計にあっては、そのイ
オン化室のガス圧は反応ガス釦よび試料ガスのイオン化
に適した略１ｉｉＨｇ付近であるので、電子衝撃イオン
源に比べて試料ガス導入部のガス圧力を高くしなければ
試料ガスをイオン化室に導入させることはできない。
オン化室のガス圧は反応ガス釦よび試料ガスのイオン化
に適した略１ｉｉＨｇ付近であるので、電子衝撃イオン
源に比べて試料ガス導入部のガス圧力を高くしなければ
試料ガスをイオン化室に導入させることはできない。
特にひとつのイオン化室（イオン源）でケミカルイオン
源と電子衝撃イオン源とを切換使用する場合には、すみ
やかに試料ガス導入部のガス圧も切換えなければならな
い。
源と電子衝撃イオン源とを切換使用する場合には、すみ
やかに試料ガス導入部のガス圧も切換えなければならな
い。
このためには従来は試料ガス導入部に空気を導入してガ
ス圧力を高めるか、試料ガス導入部に大量に試料ガスを
導入せしめて、試料ガス導入部のガス圧力を高めていた
。
ス圧力を高めるか、試料ガス導入部に大量に試料ガスを
導入せしめて、試料ガス導入部のガス圧力を高めていた
。
しかし試料ガス導入部のガス圧力増大のために空気を導
入させることは、極微量を検出する質量分析計に３いて
は、空気中に含まれる種々の微量成分ガスが混入しバッ
クグランド増大の要因となるし、また、試料が少量しか
ない場合には、大量の試料を試料ガス導入部に導入する
ことはできないのでガス圧力を十分に増すことはできな
かった。
入させることは、極微量を検出する質量分析計に３いて
は、空気中に含まれる種々の微量成分ガスが混入しバッ
クグランド増大の要因となるし、また、試料が少量しか
ない場合には、大量の試料を試料ガス導入部に導入する
ことはできないのでガス圧力を十分に増すことはできな
かった。
本考案は上記のような問題を解決しようとするものであ
って、ケミカルイオン源に導入される反応ガスを試料ガ
ス導入部に導入せしめて、あらかじめイオン化室内と試
料ガス導入部とのガス圧力を略同じ程度に保持させてか
き、さらに注入される試料ガスにより試料ガス導入部の
ガス圧力を増大させて、試料ガスをケミカルイオン源に
容易に導入させることができる、質量分析計を提供しよ
うとするものである。
って、ケミカルイオン源に導入される反応ガスを試料ガ
ス導入部に導入せしめて、あらかじめイオン化室内と試
料ガス導入部とのガス圧力を略同じ程度に保持させてか
き、さらに注入される試料ガスにより試料ガス導入部の
ガス圧力を増大させて、試料ガスをケミカルイオン源に
容易に導入させることができる、質量分析計を提供しよ
うとするものである。
すなわち、イオン化室と、とのイオン化室に反応ガスを
導入するための反応ガス流路と、上記イオン化室に試料
ガスを導入するためにその流路中に試料ガス導入部を有
する試料ガス導入流路とを有するとともに、この試料ガ
ス導入流路は上記反応ガス源に接続されている構成を備
えた質量分析計である。
導入するための反応ガス流路と、上記イオン化室に試料
ガスを導入するためにその流路中に試料ガス導入部を有
する試料ガス導入流路とを有するとともに、この試料ガ
ス導入流路は上記反応ガス源に接続されている構成を備
えた質量分析計である。
以下、本考案の一実施例を第１図に釦いて説明する。
第１図においては、１は反応ガス源、２，１４は反応ガ
スのガス圧力調整器、３はケミカルイオン源、３′はケ
ミカルイオン源３のイオン化室、４はケミカルイオン源
３に反応ガスを導入するためのガス流路、５は加熱試料
導入装置（試料ガス導入部）、６は加熱試料導入装置５
の試料注入口、７は流路４から分岐された加熱試料導入
装置５に反応ガスを導入するためのガス流路、８はオリ
フィス、１０，１１は真空バルン、９はオリフィス８ち
・よび真空バルブ１０を介して試料ガスをケミカルイオ
ン源３のイオン化室３′に導入させるためのガス流路で
、この流路７，９は、一応試料ガス導入流路と呼び得る
ものである。
スのガス圧力調整器、３はケミカルイオン源、３′はケ
ミカルイオン源３のイオン化室、４はケミカルイオン源
３に反応ガスを導入するためのガス流路、５は加熱試料
導入装置（試料ガス導入部）、６は加熱試料導入装置５
の試料注入口、７は流路４から分岐された加熱試料導入
装置５に反応ガスを導入するためのガス流路、８はオリ
フィス、１０，１１は真空バルン、９はオリフィス８ち
・よび真空バルブ１０を介して試料ガスをケミカルイオ
ン源３のイオン化室３′に導入させるためのガス流路で
、この流路７，９は、一応試料ガス導入流路と呼び得る
ものである。
１２はイオン源からのイオンを分析するセクタ型分析管
、１３はセクタ型分析管で分離されたイオンの検出装置
、１５は加熱試料導入装置に注入される液体試料を気化
するためのヒータである。
、１３はセクタ型分析管で分離されたイオンの検出装置
、１５は加熱試料導入装置に注入される液体試料を気化
するためのヒータである。
ガス圧力調整器２により適当な圧力に調整された反応ガ
ス源１からの反応ガスは流路４を介してケミカルイオン
源３に導入される。
ス源１からの反応ガスは流路４を介してケミカルイオン
源３に導入される。
ケミカルイオン源３のイオン化室３′内は、反応ガスの
イオン化に適したガス圧力（通常０．５ ｍｍＨｇ〜２
ｍｉＨｇ）に保持されており、導入された反応ガスの一
部はイオン化される。
イオン化に適したガス圧力（通常０．５ ｍｍＨｇ〜２
ｍｉＨｇ）に保持されており、導入された反応ガスの一
部はイオン化される。
一方、加熱試料導入装置５内に、真空パルプ１１を介し
ていったん低真空に排気された後に、反応ガス源１から
の反応ガスを流路７を介して導入される。
ていったん低真空に排気された後に、反応ガス源１から
の反応ガスを流路７を介して導入される。
加熱試料導入装置５内はガス圧力調整器１４の調整によ
ってケミカルイオン源３内のガス圧力と略同程度のガス
圧力に保持されている。
ってケミカルイオン源３内のガス圧力と略同程度のガス
圧力に保持されている。
試料注入口６から注入された液体試料は加熱用のヒータ
１５によって気化される。
１５によって気化される。
この液体試料の気化によって加熱試料導入装置５内のガ
ス圧力は試料ガスによりさらに高められる。
ス圧力は試料ガスによりさらに高められる。
従って加熱試料導入装置５内のガス圧力は、イオン化室
３′内のガス圧力より高められるので、この試料ガスと
反応ガスの混合ガスはオリフィス８釦よび流路９を通し
てイオン源３に導入される。
３′内のガス圧力より高められるので、この試料ガスと
反応ガスの混合ガスはオリフィス８釦よび流路９を通し
てイオン源３に導入される。
（見方を変えれば反応ガスというキャリヤーガスにより
試料ガスはケミカルイオン源３に導入すれる。
試料ガスはケミカルイオン源３に導入すれる。
）オリフィス８が加熱試料導入装置５とイオン源３との
間に介在するため、上記混合ガスは長時間に亘り少量ず
つイオン化室３′に導入される。
間に介在するため、上記混合ガスは長時間に亘り少量ず
つイオン化室３′に導入される。
真空パルプ１０はケミカルイオン源３と試料加熱導入装
置５間をしゃ断する役割をする。
置５間をしゃ断する役割をする。
ケミカルイオン源３のイオン化室３′に導入された混合
ガスのうち試料ガス成分はイオン化された反応ガスとイ
オン−分子反応により、イオン化される。
ガスのうち試料ガス成分はイオン化された反応ガスとイ
オン−分子反応により、イオン化される。
このイオン化された試料ガス（イオン化された反応ガス
も）は分析管１２に導入され、その質量に関係して分離
され検出装置１３により検出される。
も）は分析管１２に導入され、その質量に関係して分離
され検出装置１３により検出される。
ケミカルイオン源３に導入されるガスは試料ガスと反応
ガスだけであり、かつ少量ずつであるからイオン化室３
′のイオン化に適したガス圧力に影響を与えることはな
いし、また分析結果のバックグランドとなるような成分
の流入も全くない○なお本実施例は試料ガス導入部に加
熱試料導入装置５を用いた構成であるが、これ以外に固
体試料導入装置ち・よび気体試料導入装置を用いた場合
の構成でもよいことはいうまでもない。
ガスだけであり、かつ少量ずつであるからイオン化室３
′のイオン化に適したガス圧力に影響を与えることはな
いし、また分析結果のバックグランドとなるような成分
の流入も全くない○なお本実施例は試料ガス導入部に加
熱試料導入装置５を用いた構成であるが、これ以外に固
体試料導入装置ち・よび気体試料導入装置を用いた場合
の構成でもよいことはいうまでもない。
さらに分析管も単にセクタ型だけでなくカドラボール型
の分析管に置き換えた構成でもよい。
の分析管に置き換えた構成でもよい。
以上詳述したように、本考案は、試料導入装置内部に反
応ガスを導入し、試料ガス導入部内のガス圧力をケミカ
ルイオン源のイオン化室と略同程度に保持することによ
り、試料ガスのケミカルイオン源への導入を極めて容易
にならしめるとともに、わずかな試料によりバックグラ
ンドの少い分析データを得ることができる○従って、実
用に供してその効果は十分大きいといえよう。
応ガスを導入し、試料ガス導入部内のガス圧力をケミカ
ルイオン源のイオン化室と略同程度に保持することによ
り、試料ガスのケミカルイオン源への導入を極めて容易
にならしめるとともに、わずかな試料によりバックグラ
ンドの少い分析データを得ることができる○従って、実
用に供してその効果は十分大きいといえよう。
第１図は本考案の一実施例の説明図である。
１・・・・・・反応ガス源、２，１４・・・・・・ガス
圧力調整器、３・・・・・・ケミカルイオン源、３′・
・間イオン化室、４，７，９・・・・・・ガス流路、５
・・・・・・加熱試料導入装置、６・・・・・・試料注
入口、８・・・・・・オリフィス、１０．１１・・・・
・・真空バルブ、１２・・曲セクタ型分析管、１３・・
・・・・検出装置、１５・・・・・・ヒータ。
圧力調整器、３・・・・・・ケミカルイオン源、３′・
・間イオン化室、４，７，９・・・・・・ガス流路、５
・・・・・・加熱試料導入装置、６・・・・・・試料注
入口、８・・・・・・オリフィス、１０．１１・・・・
・・真空バルブ、１２・・曲セクタ型分析管、１３・・
・・・・検出装置、１５・・・・・・ヒータ。
Claims (1)
- イオン化学反応によって試料をイオン化して電磁的に試
料イオンを分離分析するものに３いて、イオン化室と、
このイオン化室に反応ガスを導入するための反応ガス流
路と、上記イオン化室に試料ガスを導入するための試料
ガス導入部とを有するとともに、この試料ガス導入部は
反応ガス源とイオン化室とを結ぶ試料ガス導入流路中に
挿入されて釦り、試料ガスは反応ガスをキャリヤガスと
してイオン化室に導入せしめられるようにしたことを特
徴とする質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5578776U JPS5829560Y2 (ja) | 1976-04-30 | 1976-04-30 | 質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5578776U JPS5829560Y2 (ja) | 1976-04-30 | 1976-04-30 | 質量分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52147086U JPS52147086U (ja) | 1977-11-08 |
| JPS5829560Y2 true JPS5829560Y2 (ja) | 1983-06-29 |
Family
ID=28514768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5578776U Expired JPS5829560Y2 (ja) | 1976-04-30 | 1976-04-30 | 質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5829560Y2 (ja) |
-
1976
- 1976-04-30 JP JP5578776U patent/JPS5829560Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52147086U (ja) | 1977-11-08 |
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