JPS583039B2 - フクゴウメツキホウ - Google Patents
フクゴウメツキホウInfo
- Publication number
- JPS583039B2 JPS583039B2 JP50081101A JP8110175A JPS583039B2 JP S583039 B2 JPS583039 B2 JP S583039B2 JP 50081101 A JP50081101 A JP 50081101A JP 8110175 A JP8110175 A JP 8110175A JP S583039 B2 JPS583039 B2 JP S583039B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- composite
- bath
- limited
- baths
- Prior art date
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- Expired
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電気接点を形成するための複合メッキ法に関す
るものである。
るものである。
従来、電着過程においてメッキ浴中に,各種の金属また
は非金属粒子を分散させ、メッキ層中にそれらの粒子を
共析させ,メッキ物の特性を種々改良する方法は,たと
えば特公昭36−3806号公報によって公知である。
は非金属粒子を分散させ、メッキ層中にそれらの粒子を
共析させ,メッキ物の特性を種々改良する方法は,たと
えば特公昭36−3806号公報によって公知である。
しかし、たとえばリレー等に用いられる電気接点に好都
合な特性を有する複合メッキ法は未だ提案されていない
。
合な特性を有する複合メッキ法は未だ提案されていない
。
これは電気接点に要求せられる特性要因が複雑多岐に亘
り、必ずしも表面硬度,潤滑性等の単純な特性に層別で
きないことにもよるものと思われる。
り、必ずしも表面硬度,潤滑性等の単純な特性に層別で
きないことにもよるものと思われる。
このことは、電気接点用の複合メッキの改良を図るには
実際に接点を作り、これを実用テストに供して数10万
回のオン−オフ試験を行う必要を生ぜしめ、この方面の
改良研究を困難にしていたのである。
実際に接点を作り、これを実用テストに供して数10万
回のオン−オフ試験を行う必要を生ぜしめ、この方面の
改良研究を困難にしていたのである。
本発明は以上のような事情に基づきなされたもので,貴
金属または貴金属を含む合金をマトリックスとし、複合
剤として特定の金属粒子を用いて複合メッキを完成する
点に特徴を有する。
金属または貴金属を含む合金をマトリックスとし、複合
剤として特定の金属粒子を用いて複合メッキを完成する
点に特徴を有する。
以下本発明を詳しく説明する。
本発明においてマトリックスとして用いられるものは、
金、銀,パラジウムなどの貴金属または貴金属の合金、
または,たとえばバラジウム−ニッケルなどの貴金属と
他の金属の合金である。
金、銀,パラジウムなどの貴金属または貴金属の合金、
または,たとえばバラジウム−ニッケルなどの貴金属と
他の金属の合金である。
電気接点として用いられるためには、空気中で高温に曝
されても酸化されないことが必要条件となるのでマトリ
ックスとしては貴金属が用いられるのである。
されても酸化されないことが必要条件となるのでマトリ
ックスとしては貴金属が用いられるのである。
また本発明の複合剤はレニウムの金属粒子が用いられる
。
。
これら金属粒子の粒径については限定する趣旨ではない
が,10μ以下のものが好ましい。
が,10μ以下のものが好ましい。
本発明において複合メッキを実施するには、さきの貴金
属のイオンを含むメッキ浴中に、複合剤としての金属粒
子を分散させ、実用上使用される条件下で複合メッキを
行う。
属のイオンを含むメッキ浴中に、複合剤としての金属粒
子を分散させ、実用上使用される条件下で複合メッキを
行う。
貴金属メッキ浴としては,限定するものではないが、た
とえばシアン化金カリウム−リン酸塩浴,塩化金−塩酸
浴、シアン化銀浴、硝酸銀浴、塩化パラジウム浴、ジア
ミノジニトロパラジウム浴などが用いられる。
とえばシアン化金カリウム−リン酸塩浴,塩化金−塩酸
浴、シアン化銀浴、硝酸銀浴、塩化パラジウム浴、ジア
ミノジニトロパラジウム浴などが用いられる。
またメッキ浴としては酸性浴、アルカリ性浴、中性浴等
がマトリックス,複合剤の選択と併せて選択採用される
。
がマトリックス,複合剤の選択と併せて選択採用される
。
以上のメッキ浴に複合剤を分散させてメッキを行う場合
,複合剤の分散を均一にするために浴の攪拌を行ったり
、活面活性剤を用いることも許される。
,複合剤の分散を均一にするために浴の攪拌を行ったり
、活面活性剤を用いることも許される。
浴の攪拌は機械的攪拌、空気攪拌、液循環方式、超音波
攪拌等の方法が適宜採用される。
攪拌等の方法が適宜採用される。
活面活性剤としては限定するものではないが、アルキル
リン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル等のエステル型、またはポリプロピレングリコ
ール、ポリエチレングリコールエステル、ポリオキシエ
チレン高級アルコールエーテル等のエーテル型、あるい
はカチオン系のものが用いられる。
リン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル等のエステル型、またはポリプロピレングリコ
ール、ポリエチレングリコールエステル、ポリオキシエ
チレン高級アルコールエーテル等のエーテル型、あるい
はカチオン系のものが用いられる。
なお,複合剤の添加量は限定する趣旨ではないが、メッ
キ浴に対して5〜100g/lが好ましく活面活性剤の
量についても限定するものではないが0.1〜0.5重
量%が好ましい。
キ浴に対して5〜100g/lが好ましく活面活性剤の
量についても限定するものではないが0.1〜0.5重
量%が好ましい。
以上の複合メッキ浴を用いてメッキを行う場合の条件に
ついても限定するものではないが、浴温は15〜30℃
、電流密度は0.1〜2.0A/dm2が好ましい。
ついても限定するものではないが、浴温は15〜30℃
、電流密度は0.1〜2.0A/dm2が好ましい。
マトリックス中に共折せしめる複合剤の量についても限
定するものではないが、0.2〜10重量%が好ましい
。
定するものではないが、0.2〜10重量%が好ましい
。
また電気接点形成用としてのメッキ厚さについても限定
はしないが、1〜15μが好ましい。
はしないが、1〜15μが好ましい。
以上のようにして形成された複合メッキ面を有する電気
接点は従来の貴金属メッキ接点に比べて長寿命を有する
ものである。
接点は従来の貴金属メッキ接点に比べて長寿命を有する
ものである。
実施例 1
マトリックスとして金、複合剤としてレニウム粉末(粒
径5μ以下)を用いて複合メッキ接点を得た。
径5μ以下)を用いて複合メッキ接点を得た。
メッキ液はオートロネツクスN(商標,日本エレクトロ
プレーテイングエンジニヤース社、)酸性タイプ)を用
い、レニウム粉末を20g/l用いた。
プレーテイングエンジニヤース社、)酸性タイプ)を用
い、レニウム粉末を20g/l用いた。
浴温は25℃、電流密度は0. 5A/dm2攪拌は空
気攪拌、メッキ厚みは10μ、レニウム共析量は4重量
%であった。
気攪拌、メッキ厚みは10μ、レニウム共析量は4重量
%であった。
以上のメッキにより得られた接点を用いて組立てたリレ
ーを、20V、1Aの条注でオン−オフテストしたとこ
ろ100万回の開閉寿命のリレーが得られた。
ーを、20V、1Aの条注でオン−オフテストしたとこ
ろ100万回の開閉寿命のリレーが得られた。
比較例 1
実施例1において、レニウムを共析させない同厚みメッ
キの接点を得て、リレーのオン−オフテストを行ったと
ころ12万回の開閉寿命であった。
キの接点を得て、リレーのオン−オフテストを行ったと
ころ12万回の開閉寿命であった。
Claims (1)
- 1 貴金属または貴金属合金メッキ浴中に,レニウムの
金属粒子を分散させて複合メッキすることを特徴とする
電気接点用複合メッキ法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50081101A JPS583039B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | フクゴウメツキホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50081101A JPS583039B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | フクゴウメツキホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS524433A JPS524433A (en) | 1977-01-13 |
| JPS583039B2 true JPS583039B2 (ja) | 1983-01-19 |
Family
ID=13736984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50081101A Expired JPS583039B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | フクゴウメツキホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583039B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55111144A (en) * | 1979-02-20 | 1980-08-27 | Nec Corp | Manufacturing method of semiconductor device |
| JPS56158445A (en) * | 1980-05-13 | 1981-12-07 | Nec Corp | Semiconductor device |
| JPS57188700A (en) * | 1981-05-14 | 1982-11-19 | Omron Tateisi Electronics Co | Production of electrical contact |
| JPS5743439A (en) * | 1981-07-06 | 1982-03-11 | Hitachi Ltd | Selective oxidation isolation type semiconductor device |
| CN106086502B (zh) * | 2010-03-12 | 2018-12-04 | 克斯塔里克公司 | 具有涂层的物件及涂布方法 |
| CN102443829B (zh) * | 2011-12-08 | 2014-07-16 | 天津大学 | 一种Ag-Ni电触头的表面镀层及其制备工艺 |
| JPWO2015190365A1 (ja) * | 2014-06-13 | 2017-04-20 | 日本バルカー工業株式会社 | 編組体およびグランドパッキン |
| CN104264197A (zh) * | 2014-10-22 | 2015-01-07 | 华文蔚 | 一种钕-镍-钨合金电镀液及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49127828A (ja) * | 1973-04-12 | 1974-12-06 | ||
| JPS536935B2 (ja) * | 1973-04-13 | 1978-03-13 |
-
1975
- 1975-06-30 JP JP50081101A patent/JPS583039B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS524433A (en) | 1977-01-13 |
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