JPS583184A - Semiconductor storage device - Google Patents
Semiconductor storage deviceInfo
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- JPS583184A JPS583184A JP56100516A JP10051681A JPS583184A JP S583184 A JPS583184 A JP S583184A JP 56100516 A JP56100516 A JP 56100516A JP 10051681 A JP10051681 A JP 10051681A JP S583184 A JPS583184 A JP S583184A
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- cell
- current
- bit line
- state
- bit
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はl2L(インテグレーテッド・インジェクタW
/・ロジック)を用いたRAM (ランダム・アクセス
・メモリ)Kおいで、アクセス時の過渡状態の間ピッ)
!電流を制御することVCj J) 、アクセスされた
セルに一定時間絖出し電流を流さないようにして、読出
し誤動作を防止した半導体記憶装置に関するものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides an integrated injector W
RAM (Random Access Memory) K uses RAM (Random Access Memory), which uses RAM (Random Access Memory) with
! The present invention relates to a semiconductor memory device that prevents reading malfunctions by preventing current from flowing through an accessed cell for a certain period of time.
I″LLセルいては絖出し、及び薔込みの制御はビット
巌VC供給する電流値IBによって行なっている。すな
わち、書込み閾値電流をIwth とすれば次のよう
になる。In the I''LL cell, the start-up and fill-in are controlled by the current value IB supplied by the bit width VC. That is, if the write threshold current is Iwth, the following equation is obtained.
・絖出し時: I、=I□〈Iwth ・・・・
・・ ■轡書込み時” ■B=’W、>Iwtn
’・・・・・ ■ところで1通常、セル内を流れる電
流IOは非選択時のIa<選択時のIO
であL したがって
非111択時の■載nく選択時の■航りとなる。続出し
速Ii倉速くするという一点からはできるだけIRは大
きいほうがよいが、■8 を大きくすると、上述した
続出し時の栄件弐〇の余裕(マージン)が悪くなる。ざ
らに非選択から選択への過渡状態においては、直流的な
電流が流れ0式のマージンが小さくなる傾向がある。・When threading: I, = I□〈Iwth...
・・ ■When writing” ■B='W,>Iwtn
'...... ■1 Normally, the current IO flowing through the cell is Ia when not selected < IO when selected. It is better to have as large an IR as possible from the point of view of increasing the speed of continuous output, but if ■8 is made large, the above-mentioned margin of successive output will deteriorate. Roughly speaking, in a transient state from non-selection to selection, a DC-like current flows and the margin of equation 0 tends to become smaller.
従来回路ではアクセス時にビット線電流はた友ちに選択
セルを通して流れるので、上述のことよリIikめま9
大きく設定で迫ない。すなわち。In the conventional circuit, the bit line current flows through the selected cell at the time of access.
It doesn't come close with a large setting. Namely.
続出し状態でセルが反転してしまう続出し誤動作の危険
が生じるという問題がめった。There has been a rare problem that there is a risk of malfunction due to continuous printing, in which the cells are reversed in the continuous printing state.
d出し誤動作を避けるためには、従来は読出し電流を減
少ぎざるを得ず、d出し′電流の減少により挽出し速度
が損われる。In order to avoid the d-output malfunction, conventionally the readout current has to be reduced, and the reduction in the d-output' current impairs the readout speed.
本発明の目的は、上述の従来回路における絖出し誤動作
および読出し速度の減少にかんがみ、逆内容のセルを絖
出す過渡状態において、 、14Ifjそうとしている
セルに流れる絖出し=tpの流れ始める時点rl!延さ
せるとく八う構+dK基づき、I”I、 を用いたR
AMにおいて、d出し速度を熾うことなくd出し誤動作
を防止すること全確実化することにある。The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned problem of the line setting malfunction in the conventional circuit and the reduction in readout speed, and in a transient state where a cell with the opposite content is lined up, the purpose of the present invention is to: , 14Ifj The time point rl when the line flow to the cell about to be set = tp begins to flow. ! Based on the extended structure + dK, R using I”I,
In AM, the objective is to completely ensure that d-output malfunctions are prevented without slowing down the d-output speed.
上述の目的を達成するために、不発明にニジ提供される
ものは、1オン」と「オフ」の2つの状態を保持するI
2Lメモリセルに耐して誓込み電流又Fi続出しN流を
供給するためのビット線に。In order to achieve the above object, what is inventively provided is an I that maintains two states: 1 "on" and "off".
2L to the bit line to withstand the memory cell and supply the commitment current or Fi continuous N current.
d出し電流供給用の電流スイッチ全接続し、この電流ス
イッチにより、ILメモリセルの内容続出し時のメモリ
セルのアドレス切侠の過渡時に低tばから高′亀泣Vこ
変るビット瞼に対しで、アドレス切戻時からM足時間経
過後1でビット酸への読出し′電位の供給を行わないよ
うにしたこと金特畝とする半導体記憶装置でるる。All the current switches for supplying the output current are connected, and this current switch is used to control the bit rate that changes from low to high during the transition of the memory cell address when the contents of the IL memory cell are continuously read out. In this semiconductor memory device, the read potential is not supplied to the bit acid 1 after M time has elapsed since the address switchback.
以F誼附の図面VC基づいて本発明の実施例を従来例と
同化しながら説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained based on the accompanying drawing VC while being assimilated with the conventional example.
第1図はILで4!14Q5tされたメモリセルの等価
回路である。第1図におりて、W+W−は各々ワード線
を示し、Bφ B、はビット線である。Q、〜Q、は谷
々トランジスタr示すが1周昶の如く。FIG. 1 is an equivalent circuit of a memory cell with 4!14Q5t IL. In FIG. 1, W+W- indicate word lines, and Bφ B indicates bit lines. Q, ~Q, indicates a valley transistor r, but it is like one cycle.
QI L=J2は慣方回PNP トランジスタで形成
し。QI L=J2 is formed by a conventional PNP transistor.
lたQs、 Q4 VC逆方向トランジスタを用いるこ
とにLD、QI、Qtのベース、及びQ3〜Q6のコレ
クターさらにはW−までが共連畝導碩域(この例でri
N型伝型頭4領域形成することが可能となシ。By using Qs, Q4 VC reverse direction transistors, the bases of LD, QI, and Qt, the collectors of Q3 to Q6, and even W- are connected to the interconnected ridge conducting area (in this example, ri
It is possible to form 4 regions of the N type traditional head.
非′l@VciIij1缶度のメモリ・セルを実現して
いる。A memory cell with a non-'l@VciIij level is realized.
このセルの基本的な動作特性は次の通9である。The basic operating characteristics of this cell are as follows9.
まず情報の保持は、W+またはW−よ!Ill沫持電流
をトランジスタQl、Q!全通して、又差結合するトラ
ンジスタQs、Q<のベースに供給することにjL Q
s、 Q4の内どちらか一力が1オン」、・曲刃が「オ
フ」と^う状rNAkつくることりこよりなされる。保
持電流はRAMの低電力化のだめt(は。First of all, information retention is W+ or W-! The current flowing through the transistors Ql, Q! jL Q
It is done by Riko to create a state in which one of Q4 is turned on, and the curved blade is turned off. Holding current is the key to low power RAM.
f′jf報保持に必安な電流値の範囲でできるだけ小さ
h櫨に設定することが望ましり。%に大容量ルA114
においては、保持lit流瀘の全電力に幻する割合が大
になるので重要である。次に、このセルに所望の情報を
曹込むためには、7M望のビット線に曹込み電流Iwを
供給し、トランジスタQfiI またはQ6を通して、
上記盛込み電流工wt−セルに供給する。このとき、旙
込み電流IWを供給したビット線−のトランジスタQs
、箇たは−4(例えに。It is desirable to set the current value to be as small as possible within the range of the current value that is necessary to maintain f'jf information. % large capacity le A114
This is important because the proportion of the total power generated by the holding lit flow becomes large. Next, in order to load desired information into this cell, a loading current Iw is supplied to the 7M bit lines and passed through the transistor QfiI or Q6.
The above-mentioned electric current is supplied to the wt-cell. At this time, the bit line transistor Qs that supplied the sinking current IW
, clause is -4 (for example.
ビット#BφにIWが供給δれた場合には6Q、)が1
オン」していたときのみ、セルの状態が反転する。これ
は、Qs、’!たは(J4t”lオン」の状態に保つた
めに、Q、またはQ、のベースに供給されてLAkt流
がIWが供給されるトランジスタQa+またはQ6のベ
ース電流によって奪い去られる(Current Ha
gging) ために、1゛オン」シてhたQs +
ま7’(はQ4はもはや1オ/」状態が保てl〈な9
1オフ」状態へ向り、その結果セルの状態が反転するか
らでるる。ところで盛込みit流■wは0周方の如くめ
る一定の閾値電流11yth以上の電流値を設定する必
要がある。次に、清報の絖出し法の一例としては次の方
法かめ^。すなわち。If IW is supplied to bit #Bφ, 6Q, ) becomes 1
The state of the cell is inverted only when it is turned on. This is Qs,'! or (to keep J4t "on", the LAkt current supplied to the base of Q, or Q, is taken away by the base current of the transistor Qa+ or Q6 supplied with IW (Current Ha
Qs +
Ma7' (Q4 is no longer 1o/'' state can be maintained l〈na9
1 off" state, resulting in the state of the cell being reversed. By the way, it is necessary to set a current value of a certain threshold current 11yth or more for the embedding IT style (W) such as 0 round. Next, as an example of how to start a news report, use the following method. Namely.
続出し電流IR=i上記閾埴′岨流IWtn以Fに設定
し2両側ピット疎Bφ、B1に供給し、トランジスタQ
s 、Qa k通してセルに流せば、セルの内部電IM
(= Qs 、 Q4のベース電位)が+Qa、Qa
を圃してビットSに現われる。このと@「オン」側のビ
ット−が制電α(ハイ)、「オフ」側のそれが低IiL
に(O−)となシ、この電位差を適当な回路千成にエリ
検出すれば、セルの1肯報が絖出せる。The successive current IR=i is set to F below the threshold current IWtn, and is supplied to the two side pit sparse Bφ, B1, and the transistor Q
If it flows through the cell through s and Qa k, the cell's internal voltage IM
(= Qs, base potential of Q4) is +Qa, Qa
appears in bit S. In this case, the bit on the "on" side is antistatic α (high), and that on the "off" side is low IiL.
If this potential difference is detected by an appropriate circuit, one positive signal of the cell can be obtained.
第2図に、I”L形メモリ・セルr用を八て。Figure 2 shows the diagram for I''L type memory cell r.
ルAyiを実現したときの従来回路の要部を示すもので
ある。第2図VCおい′C,セルの部分は第1図と同様
な記号を用いて藝る。Qa、 Qb Id 7 h’
?Ia駆動用トランジスター、Qg、 Qfはビット線
電泣差を検出するトランジスターである。Qfi、 Q
h、 Q7は選択コラムに書込み電流工w、絖出しi流
IR。This figure shows the main parts of a conventional circuit when realizing the system. The cells in FIG. 2 are designated using the same symbols as in FIG. Qa, Qb Id 7 h'
? The Ia driving transistors, Qg, and Qf are transistors that detect the bit line voltage difference. Qfi, Q
h, Q7 is written in the selection column, current work w, threading i flow IR.
及びQ、QjK慣出電流Isを洪貼するトランジスタで
ある。Qj、Qkは入力・清報り、 L) に訓伽さ
れるトランジスタであ!りIwt−供給するビット線を
選択する。SAは検出したピット練電位差を増巾する増
巾回路を表わす。lHは、上述した保持電流である。ダ
イオード店、D2はワード線の廊下り時にワード線を放
電するための電流ID?を供給するためのものである。and Q, QjK, which are transistors that apply a run-in current Is. Qj and Qk are input/repair transistors, which are taught by L)! Select the bit line to be supplied with Iwt. SA represents an amplification circuit that amplifies the detected pit potential difference. lH is the holding current mentioned above. Diode store, is D2 the current ID for discharging the word line when the word line passes? It is intended to supply
このワード磁放tIIi瀧を供給する手段として、l々
の方法が知られている。Several methods are known as means for supplying this word magnetic discharge tIIi waterfall.
IL形メモリセルを用いたRAiA VC′&いては
。RAiA VC'&T using IL type memory cells.
ワード艇W−がバルクで形成されているためその寄生容
量が大きく、伺らかの放電+寂が必須でめる。VBOL
ri?ランジスタQc Qct によって ビット
−のローレベルをある一定電位にクランプするビット線
クランプ電位である。したがって、読出し時tCは、セ
ルの状態の「オン」誠のビット線を流れるIRはセルを
通して流れノ・イ状態となるが、「゛オフ」1則のビッ
ト線を流れるIRはQ。またFiQdを通して流れVB
OLによpクランプされるレベルとなり、他方のビット
電位よシ低いローレベル状態となる。Since the ward boat W- is formed in bulk, its parasitic capacitance is large, and a sudden discharge + silence is essential. VBOL
ri? This is a bit line clamp potential that clamps the low level of bit- to a certain constant potential by transistor Qc Qct. Therefore, at the time of reading tC, the IR flowing through the bit line when the cell is in the "on" state flows through the cell, but the IR flowing through the bit line in the "off" state is Q. Also, the flow VB through FiQd
The level is p-clamped by OL, and becomes a low level state lower than the other bit potential.
以上の従来回路VCおいては次のような欠点が存在した
。The conventional circuit VC described above has the following drawbacks.
第3図のa、bは第2図の従来回路の欠点を説明する図
でめる。すなわち第3図aはあるコラム内のセルの切り
替4)?r説明するための回路図であp、第3図bLr
it(0で第3図alcQけるセルCB又はセルC8が
選択されてめだ状態から1=0 でセルC3に選択状態
が変ったときの電圧、 電流波形の峨略會示す波形図で
るる。3a and 3b are diagrams illustrating the drawbacks of the conventional circuit shown in FIG. 2. In other words, Fig. 3a shows the switching of cells in a certain column 4)? r A circuit diagram for explanation, p, Figure 3 bLr
It is a waveform diagram showing the evolution of the voltage and current waveforms when cell CB or cell C8 in FIG.
1″Lセルに2いては上述したように、 続出し曹込み
は閾値電流値i wtaを基準とし、 続出し電aid
及び優込み電流IWをI W;> Iwth ) IH
になるよう設定した電流値によって制御される。As mentioned above, for the 1"L cell, the successive addition is based on the threshold current value i wta, and the successive addition aid
and the sink current IW; > Iwth ) IH
It is controlled by the current value set so that
したかってIwthとIRのボ裕(マージン)が少ない
場合、d出し時にもかかわらずセルが反転してし箇う(
これを続出しIA!iIJ作と呼ぶことにする。)危威
性を生じる。このd出し誤動作の危険性はセルが非選択
状態から選択状1へ移る過渡状態において最も大となる
。なぜなら該過渡状態においてはセルは低電流レベルの
動作(*持を流IHで動作してhた)から高電流レベル
の動作(第2図で示したワード巌放電1!訛ID及び続
出し′[流IR等がIHにブンスされる。プヘ謬る44
であり。However, if the margin of Iwth and IR is small, the cell will be reversed even when d is released (
IA keep doing this! I will call it a work by iIJ. ) creates a danger. The risk of this d output malfunction is greatest in the transient state in which the cell changes from the non-selected state to the selected state 1. This is because in the transient state, the cell changes from low current level operation (*1) to high current level operation (as shown in Figure 2). [The current IR etc. will be posted to IH. Puhe False 44
Yes.
周知の通りIWtnはセル11直に比例するから。As is well known, IWtn is directly proportional to the cell 11.
IRトIwtaのマージンはこの過渡状態の初期の時点
はど狭くなる。δらに、該過咳状−においては異なるセ
ル6谷を読み出すときビット線の″電位変化が生じるた
め、ピントHの畜生容量(第3図aKおけるcB>
t−充放電する過g 電vLがd出し電流IRにブブス
されるためI wthに灼するマージンが狭くなる。The margin of IR to Iwta becomes narrower at the beginning of this transient state. In addition, in the case of hypercough, when reading different cell 6 valleys, a change in the potential of the bit line occurs, so the capacitance of the pin point H (cB in Figure 3 aK>
The margin for burning I wth becomes narrow because the excessive g voltage VL that charges and discharges at t is absorbed by the d output current IR.
上述のことがらt第3図a、bを用いてさらrC旺細に
説明する。The above-mentioned matters will be explained in more detail using FIGS. 3a and 3b.
’dC3V a 、 b ニオr テ、 VX □、
VX 2. VX3 u谷々第3図a I/C
νける9−ドIVl!駆動用トランジスタQa、 Qb
、 Qc のベース入力Ilt位の波形である。'dC3V a, b niorte, VX □,
VX2. VX3 u Valley Figure 3 a I/C
νKeru 9-do IVl! Drive transistors Qa, Qb
, Qc's base input Ilt waveform.
v、、v、は谷々セルC,,C,の「オン」餓のトラン
ジスタのベース電位(第1図において+ Qsが「オン
」状態にあるとすると、 Qsのベース電位を示す。)
の応4波形であり、 Vk3OLはビット總クランプ1
ittcである。lたl IC1は1=0 で選択
状態になるセルC1に流れる1を流を示し、これは当然
のことながら定常状態に寂いては続出し電流IHKJ4
L(なる。名らにvBφはビット腺Bφ側のX泣の応答
波形でめる。谷々のセルC1゜Ct &びC8の斜縁全
施した部分がオフ側、そうでない部分が1オン」側であ
る。v, ,v, is the base potential of the "on" transistor of valley cell C,,C, (assuming that +Qs is in the "on" state in Figure 1, indicates the base potential of Qs).
4 waveforms, Vk3OL is bit clamp 1
It is ittc. IC1 indicates a current of 1 flowing through cell C1 which is in the selected state when 1 = 0, and as a matter of course, this continues when the steady state is reached and the current IHKJ4
L (Naru. In other words, vBφ is determined by the response waveform of the X response on the bit gland Bφ side. The part where the beveled edges of the valley cells C1°Ct & C8 are all applied is the off side, and the part that is not is the one on side. ” side.
第3図aに3いてセルC6ρ)らセルC1に遣択状蛾が
移る場合、すなわち同一データを保持していたてルt続
出す楊脅、セルC1にビット緘電流が流れ出す点はセル
C1とC2の1[流スイッチ特注で次軍さnるから第3
図すに示すようにVCよとV。、の交点、すなわちt=
t、tlit近で始まる。In Fig. 3A, when the selection state moves from cell C6ρ to cell C1, that is, if the cells holding the same data continue to flow, the point at which the bit current starts to flow to cell C1 is cell C1. And C2's 1 [flow switch custom made from next army's 3rd]
As shown in the figure, VC and V. , i.e., t=
It starts near t, tlit.
またこのとさビット線Bφの電位V8φ はハイ状態か
らハイ状態への変化でめ9第3図に冥巌で示すようにf
社とんど変化しない。Also, the potential V8φ of this bit line Bφ changes from a high state to a high state.
The company hardly ever changes.
ところが一方、第3図aKvいてセルC,からセルC1
に選択状態が移る場合、すなわち逆データを保持してい
たセルを絖出す場合、セルC3にビット線’邂aが流れ
出す点はセルC1とビット巌りツンブレベル用のトラン
ジスタQd との電流スイッチ特注で決定されるから第
3図bVc示すようにVI?lとvHOLとの交点、す
なわちt=td2で始まる。このと@ VBOLの電位
が第3図すに示すような位置IC設定されていた場合r
Ldg〈1d□の関係にな9.しかもビット練Bφの電
位もロー状態からハイ状態に変化するため、第3図a形
で、第3図すの点線で示す■。、のように応答セルCI
の絖出し時にもかかわらす、セルCIに反転情報のd込
みが行なわれてし1う。However, on the other hand, in Figure 3 aKv, from cell C to cell C1
When the selection state changes to , that is, when a cell holding the opposite data is found, the point at which the bit line ``a'' flows to cell C3 is due to the custom-made current switch between cell C1 and the transistor Qd for bit switching level. Since it is determined, as shown in FIG. 3 bVc, VI? It begins at the intersection of l and vHOL, ie, t=td2. In this case, if the potential of @VBOL is set to the position IC as shown in Figure 3, r
In the relationship of Ldg〈1d□9. Moreover, since the potential of the bit drill Bφ also changes from a low state to a high state, it is shown by the dotted line (■) in the figure 3 (a) and the figure 3 (a). , the response cell CI
Even during the start-up process, inversion information is stored in the cell CI.
以上の説明から解るようにd出し状−において最も誤動
作の危漠が従じるのは、−t層選択状−に入る過渡状−
1tCwいて、該過渡状・法の比較的早い時点でd出し
電υ1eIRがセルに共相され、 かつピッtsttw
生容量CBの充電電流が工、にカロわる形で流nる状態
が生じる場合、すなわち以前ののセル内容とは逆の山谷
のセルを耽出す場合である。続出し誤動作r避げるため
には、従来は胱出し電流を減少せさるを慢ず、絖出し電
流の減少によりd出し連数が損われた。As can be seen from the above explanation, the one with the greatest risk of malfunction in the d-out state is the transient state that enters the t-layer selective state.
1tCw, the d output voltage υ1eIR is co-phased with the cell at a relatively early point in the transient state/method, and the pitch tsttw
This is a case where a state occurs in which the charging current of the raw capacitor CB flows in a different manner, that is, when a cell with peaks and valleys opposite to the previous cell contents is discharged. In order to avoid repeated ejecting malfunctions, the conventional method was to reduce the ejecting current, and the reduction in the ejecting current resulted in a loss in the number of ejecting sequences.
本発明リエ上連の従来回路の待つ欠点を除去するもので
必9.逆内谷のtル葡読出す過護状愈におい−L、読出
そうとしているセル(IC流れる読出し電流IRの流れ
始める時点倉遅砥させることにより過、&を流とd出し
t流I□ とが1櫃しないようにし、絖出し速diを須
うことpx < d出し誤動作全防止することを意図し
てなされた。The present invention eliminates the disadvantages of conventional circuits and is essential for 9. When the readout current IR starts to flow from the cell you are trying to read (IC), by slowing down the flow, the & current and d output t current I□ This was done with the intention of preventing any malfunctions, such as px < d, by requiring a setting speed of di.
以下1本発明の実施例を詳細に説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.
第4図aは本発明による第1の礪施例を示す要部回路図
である。第4図a ItCひいで1点線で囲った部分が
本発明による回路部分である。ここでは本発明回路を適
用した代表的なコクムを示すが。FIG. 4a is a main circuit diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 4a The part surrounded by one dotted line in ItC is the circuit part according to the present invention. Here, a typical Kokum to which the circuit of the present invention is applied is shown.
実際ri谷ココラム同様に適用される。また周辺回路V
Cついては本発明を説明するのにム要な部分だけ?il
−ボし朋は省略して藝る。In fact, it applies in the same way as the ri tani cocoram. Also, the peripheral circuit V
As for C, is it only the necessary parts to explain the present invention? il
- I will omit the word ``my friend''.
第4図aの本実施例に係る点線で示された部分の構成1
l−j仄の通りである。トランジスタQ7およびQAの
コレクタはそれぞれ、抵抗g+とダイオードDIからな
るJj荷回路および抵抗R2とダイオードD!からなる
負荷回路を弁して、基準電源憩vREFVc接続されて
いる。抵抗R3とダイオードD、からなる負荷回路はト
ランジスタQAのベースに、抵抗R3とダイオードD、
からなる負荷回路はトランジスタQ!l のベースにも
それぞれ接続されている。ビット線Bφ とトランジス
タQ、のエミッタ間にダイオードD、がそのアノードを
ビット線側にして接続されている。ビット線B、とトラ
ンジスタQ、のエミッタ間にもダイオードD4が同様に
して接続されている。 トランジスタQ!i およびQ
h のエミッタは七れぞれトランジスタQ、 s・よ
びQL (11−介して続出し*流源に接続されている
。この構成により、トランジスタQy (!: QA
がフリップフロップ會構成し、またトランジスタQ、
とダイオードD3およびトランジスタQh と夕゛イ
オードD4はそれぞれ、電流スイッチを構成している。Configuration 1 of the part indicated by the dotted line according to this embodiment in FIG. 4a
It is as follows. The collectors of transistors Q7 and QA are connected to a load circuit consisting of a resistor g+ and a diode DI, and a resistor R2 and a diode D!, respectively. A load circuit consisting of a valve is connected to a reference power source vREFVc. A load circuit consisting of a resistor R3 and a diode D connects a resistor R3 and a diode D to the base of the transistor QA.
The load circuit consisting of transistor Q! They are also connected to the bases of l. A diode D is connected between the bit line Bφ and the emitter of the transistor Q with its anode facing the bit line. A diode D4 is similarly connected between the bit line B and the emitter of the transistor Q. Transistor Q! i and Q
The emitters of h are connected to the serial * current source through the seven transistors Q, s and QL (11-), respectively. This configuration allows the transistor Qy (!: QA
constitutes a flip-flop, and transistor Q,
, diode D3, transistor Qh, and diode D4 each constitute a current switch.
第4図すは、第4図a&Cおいて1=0で選択状態がセ
ルC6からセルC1に変った場合の電圧型1jIt応答
の概略波形図である。第4図すにおいて”REFは本実
ky11回路部分に供給さnる基準電位であり、ΔVは
g4図のダイオードl)I又はD2に電流が流れたとき
の顕方同醒→反114丁を示し通常0.7〜0.8vの
値を示すものである。池の符号は第3図すにおいて用い
た符号と同一である。FIG. 4 is a schematic waveform diagram of the voltage type 1jIt response when the selection state changes from cell C6 to cell C1 when 1=0 in FIG. 4a and C. In Figure 4, "REF" is the reference potential supplied to the circuit part of the main circuit, and ΔV indicates the apparent direction from the same direction to the opposite direction when current flows through the diode l) I or D2 in the g4 diagram. It shows a value of 0.7 to 0.8v.The symbols for the ponds are the same as those used in FIG.
1=0で逆同谷のデータを保持し之セルC7からセルC
1へ選択状態にした場合の動作は次のようになる。VR
EFの値は第4図すに示されるように、ビット線のハイ
レベルより烏い1直で、且つ。When 1=0, the data of the reverse same valley is held, and from cell C7 to cell C
The operation when the selection state is set to 1 is as follows. VR
As shown in FIG. 4, the value of EF is one point higher than the high level of the bit line.
VREFからダイオードD1またはり、の電圧降下分Δ
Vを引いた1直(VR14F−ΔV)かビット線のロー
レベルニジ^藝1直に設定しである。Voltage drop Δ from VREF to diode D1 or
It is set to 1st shift (VR14F-ΔV) minus V (VR14F-ΔV) or the low level of the bit line to 1st shift.
1ず 1<0に2いて、セルC2が選択状態にありビッ
ト@iB、の電位vB1かHでピント線Bφの゛嵯位v
BφがLになる。従って本発明の回路部において、トラ
ンジスタQ、 とダイオード1)3及びトランジスタ
QA とダイオードD4とがそれぞれ電流スイッチを
構成して藝るために、Q、は1オン」、D、は「オフ」
さらにQAは]オフ」。1) 1<0, cell C2 is in the selected state, and the potential of the bit @iB is vB1 or H, and the level of the focus line Bφ is increased v.
Bφ becomes L. Therefore, in the circuit section of the present invention, since the transistor Q, and the diode 1)3 and the transistor QA and the diode D4 constitute a current switch, respectively, Q is "on" and D is "off".
Furthermore, QA is] off.”
D4は「オン」になる。すなわちQ、、 QA より
なるフリップフロップはQ、がオンの状態にあるため、
Q!10ベースiIl泣VB!Iu ホホV REF
ルヘルに、またQA のベースilI位VBA (Q、
のコレクタ電位)はダイオードD、がオンしてhるため
VREF−ΔVのレベルになっている。そしてビット巌
B、側の読出し゛駐流工RはダイオードD4 +ビット
線B、を通して流れるが、ビット@Bφ側の工RはQy
、D+を流れピッt1111Bφには流れなり。すなわ
ち定常状態ではオン側ビット線にのみ■□が供給される
。D4 becomes "on". In other words, in a flip-flop consisting of Q,, QA, since Q is in the on state,
Q! 10 base iIl crying VB! Iu hoho V REF
To Luher, also QA's base il I rank VBA (Q,
Since the diode D is turned on, the collector potential (collector potential of ) is at the level of VREF - ΔV. Then, the read current R on the bit side B and side flows through diode D4 + bit line B, but the read current R on the bit @Bφ side is Qy
, D+ flows to pit t1111Bφ. That is, in a steady state, ■□ is supplied only to the on-side bit line.
そこで1=0 でセルC2からC1に選択状態が移ると
矢の様になる。Therefore, when 1=0 and the selection state moves from cell C2 to C1, it becomes like an arrow.
まずビット線Bφには洸出しt流IRが供給されなhま
ま’lit位V3φが立上る。そしてVBφが十分Hに
なっても、Q のペース電位VB!IであるVあFがビ
ット線のHよシ^い電位値に設定されているため、ダイ
オードD、のオフ、Q!1のオンは変らず、ピッ)?1
M8φに電流■Rは依然として流れない。First, the bit line Bφ is not supplied with the starting current IR, and the voltage V3φ at 'lit' rises. Even if VBφ becomes sufficiently high, Q's pace potential VB! Since VaF, which is I, is set to a higher potential value than H of the bit line, diode D is turned off and Q! 1 remains on, beep)? 1
Current ■R still does not flow through M8φ.
一方ビッ)MB、は続出し電流■4によってビット線B
、の妊生容量全放電しながら立ち下り。On the other hand, bit) MB is bit line B due to continuous current ■4.
, falling while the gestational capacity is fully discharged.
その電位vBユがQA のベース電位vB)、inゎち
vREF・−ΔVまでFがったところでQhがオン。When the potential vB increases to the base potential of QA (vB), inゎchi vREF・-ΔV, Qh is turned on.
D、がオフし、フリップ70ツブの他のトランジスタ赳
のペース電位VB!1t−トげる。七゛の結果Q、がオ
フ、D、がオンし、ここで初めてビット線Bφに続出し
暖流■□が供給される。D is turned off, and the pace potential VB of the other transistor of the flip 70 tube is turned off. 1t-Togeru. As a result of step 7, Q is turned off and D is turned on, and the warm current ■□ continues to be supplied to the bit line Bφ for the first time.
以上のように本実施例では1反転情報tl−有するセル
C2からC3への過杖状態の時に、 LからHに光′酸
されるビット線Bφには絖出し′亀流工Rを流さなりよ
うVCしているため前述した・10〈、充電電流と工、
とかfdすることが防止されC3へり誤書込みt防止す
ることができる。As described above, in this embodiment, when the cell C2 having 1 inversion information tl- is in an overstretch state, the bit line Bφ that is photo-oxidized from L to H is not connected to the bit line R. Because of the VC, as mentioned above, 10〈, charging current and
It is possible to prevent erroneous writing to the edge of C3.
またその手段として、ビット線Bφ B、のレベルを利
用した電流スイッチDs 、Qy 及び04゜QA t
−設けさらにQ、、QA でフリップフロップを構成
するようにしている。そして、絖出し電流工Rは尾常状
態ではオン側のビット線(Hレベル)にのみ供給するよ
うにし、過渡状態では、そのオン側のピットlll1i
IをIRにより放電させLレベルにし、そのレベルνC
よりフリップフロップヲ反転せしめて他方のピッ)[に
初めてIRk供給するようVCしてhる。In addition, current switches Ds, Qy and 04°QA t using the level of the bit line BφB are used as means for this purpose.
- Furthermore, a flip-flop is configured with Q, , QA. Then, in a normal state, the lead-out current R is supplied only to the on-side bit line (H level), and in a transient state, the on-side pit llll1i
I is discharged by IR to L level, and the level νC
Then, invert the flip-flop and apply VC to supply IRk to the other pin.
本来続出し1[流工□は、d出し時の情報反転に伴うピ
ッ)&lの1(→Lへの放電のために利用されるもので
ある。従って本実施例の様に、過渡状態におけるL−H
に光電されるビット線、及び定常状態に2けるオフ−の
ビット線に読出し電流IRが供給されなくとも例ら支障
はないわけである。Originally, the series 1 [Ryuko □ is used for discharging to 1 (→L) of 1 (Pick due to information reversal at the time of d output) &l.Therefore, as in this embodiment, in a transient state L-H
There is no problem even if the read current IR is not supplied to the bit line that is photoelectrically activated and the bit line that is off in the steady state.
第5図及びfig6図は不発明による他の実施例を示す
回路図である。ここでは第4図aに点脳で示した部分に
附応する2本質的な部分のみを示す。5 and 6 are circuit diagrams showing other embodiments according to the invention. Here, only the two essential parts corresponding to the parts indicated by dots in FIG. 4a are shown.
第5図は第4図aで示したQ、、QAの負荷のダイオー
ドに代えてシiソトキーダイオードを用いた場合であシ
1本発明回路部の応答速度を更に改善できる。FIG. 5 shows that the response speed of the circuit section of the present invention can be further improved by using Sotky diodes in place of the diodes of the loads Q, QA shown in FIG. 4a.
第6図は、Q、、QAの負荷としてPf’JP トラン
ジスタを用いたものでるる。IL−セルも負荷としてP
N)’ k用いt5す、セルと同一コフム上VC付設す
る本発明回路にとって、裂zN上、及びパターンレイア
ウト上利点がある。In FIG. 6, Pf'JP transistors are used as loads for Q, QA. IL-cell also has P as a load.
N)' The circuit of the present invention in which the VC is attached on the same column as the cell has advantages in terms of separation ZN and pattern layout.
以上の説明から明らかなように、不発明によればILを
用いたRAMKおいで、 読出し速度を損うことなく読
出し誤動作か4央に防止される。As is clear from the above description, according to the invention, read malfunctions can be completely prevented in a RAMK using IL without impairing read speed.
なお1本発明は前述の実施例に限足されるものではなく
、様々の変形が4えられる。Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.
第1図は111して構成さnた周知のメモリセルの等1
曲回路図、第2図はfL形メモリセルを用いてRAMk
実現したときの従来回路の要部回路図、第3図aU第2
図の従来回路の欠点t”説明するための装部回路図、第
3図すは第3図aの回路の要部の電圧・電流彼形図、第
4図aは本発明による第10遁施列を示す・d部回路図
、第4図すは第4図aの回路の要部の′電圧・電流波形
図、第5図は本発明による第2の実施例ヶ示すIIi部
回路図、そして第6図は不発明VCよる第3の実施例を
示す要部回路図である。
特許出願人
冨士通株式会社
%粁出願代理人
弁坤士宵木 朗
弁理士 西 甜 和 之
弁理士 内 1)辛 男
弁理士 山 口 陥 之
特開昭58−3184(力FIG. 1 shows a well-known memory cell configured as 111.
A curved circuit diagram, Figure 2 shows RAMk using fL type memory cells.
Main part circuit diagram of the conventional circuit when realized, Figure 3 aU No. 2
FIG. 3 is a voltage/current diagram of the main part of the circuit in FIG. 3a, and FIG. Fig. 4 is a voltage/current waveform diagram of the main part of the circuit in Fig. 4a, and Fig. 5 is a circuit diagram of part IIi showing the second embodiment of the present invention. , and FIG. 6 is a circuit diagram of the main part showing the third embodiment by Uninvented VC. Patent applicant Fujitsu Co., Ltd. Patent agent Akira Yoki Patent attorney Kazuyuki Nishi Patent attorney 1) Patent attorney Shino Yamaguchi's special patent application 1984-3184 (Riki)
Claims (1)
メモリセルに対して書込みt流又は続出し電流を供給す
るためのビット線に該続出し電流供給用の電流スイッチ
を接続し、該電流スイッチにより、該ILメモリセルの
内容続出し時の該メモリセルのアドレス切換の過渡時に
低電位から高電位に変るビット線rC対しては、該アド
レス切換時から所定時間経過後まで該ピッifへの該続
出し電流の供給を行なわないようVごしたことを物像と
する半導体記憶装置。1. I”L that maintains two states: “on” and “off”
A current switch for supplying a write current or a continuous current is connected to a bit line for supplying a write current or a continuous current to the memory cell. The bit line rC, which changes from a low potential to a high potential during the transition of cell address switching, is set to V so that the continuous current is not supplied to the pin if until a predetermined time has elapsed after the address switching. A semiconductor memory device whose physical image is
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100516A JPS583184A (en) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56100516A JPS583184A (en) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583184A true JPS583184A (en) | 1983-01-08 |
Family
ID=14276109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56100516A Pending JPS583184A (en) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583184A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5083292A (en) * | 1989-03-13 | 1992-01-21 | Fujitsu Limited | Bipolar random access memory |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP56100516A patent/JPS583184A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5083292A (en) * | 1989-03-13 | 1992-01-21 | Fujitsu Limited | Bipolar random access memory |
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