JPS583299Y2 - 半導体装置の検査装置 - Google Patents

半導体装置の検査装置

Info

Publication number
JPS583299Y2
JPS583299Y2 JP12219276U JP12219276U JPS583299Y2 JP S583299 Y2 JPS583299 Y2 JP S583299Y2 JP 12219276 U JP12219276 U JP 12219276U JP 12219276 U JP12219276 U JP 12219276U JP S583299 Y2 JPS583299 Y2 JP S583299Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellet
screen
tape
image
pellets
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP12219276U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5340767U (ja
Inventor
西村育久
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 filed Critical 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
Priority to JP12219276U priority Critical patent/JPS583299Y2/ja
Publication of JPS5340767U publication Critical patent/JPS5340767U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS583299Y2 publication Critical patent/JPS583299Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案はトランジスタやSCR等の半導体装置の検査
装置に関し、更に詳しくは半導体ペレットの外観チェッ
クに適用する装置に関するものである。
一般に、トランジスタやSCR等の半導体装置は1つの
ウェハーに数十、数百のペレットを形成し、そして各ペ
レットの電気的特性を検査してから、各ペレットを個々
に分割して取出し、製造されていく。
またウェハーから分割された各ペレットは個々にその外
観がチェックされる。
即ち、ペレット表面ではショート、傷、割れ、欠けなど
の有無が、ペレット裏面ではメッキの汚れや、エツチン
グの荒れなどの良・不良が検査されて、不良品はその場
で除去される。
ところで、ウェハーを個々のペレットに分割する際には
、まずウェハーの裏面に透明なテープを張り付けてから
、ウェハーをテープ上で各ペレットに分割して、ペレッ
トの位置規制を行っていた。
そしてペレットの外観検査はテープを少し引き伸すこと
によって、各ペレット間に間隙をもたせてから、表面側
は直接に、遅面側はテープを通して行っていた。
つまり、従来ではテープ上の各ペレットの外観を、まず
表面側から検査して、不良品があればそれをピンセット
等で除去し、そして表面側検査が終ると次にテープの下
から各ペレットの裏面を検査していた。
ところが、この裏面側の検査となると、不良品があって
も、それを除去するのはテープの上からであり、他方テ
ープの上からではその不良品が分からず、従って除去す
る段に混迷して、良品を除去する間違いが多かった。
この考案は上記従来の欠点に鑑み、これを改良・除去し
たもので、ペレットの表面と裏面の外観チェックを同時
に行い得る装置を提供する。
以下本考案の構成を図面を参照して説明する。
第1図に於て、1はペレット、2は透明なテープ、3は
テープ2の周縁を保持するホルダーで、各ペレット1は
ウェハーの状態でテープ2を張り付けられ、そして個々
に分割されて、更にテープ2の引き伸しにより少しの間
隙を個々に有する。
これらのペレット1に対し、本考案はペレット1の表面
と裏面(テープ側)を同時に写すスクリーン4を構成ポ
イントにする。
このスクリーン4へのペレット1の投影は、例えば第1
図に示す如き表面光学系5と裏面光学系6で行う。
上記表面光学系5はランプ6asハーフミラ−5b1そ
して各ミラー5c、5d、5eなどからなり、ランプ5
aからの光はハーフミラ−5bを介して、各ペレット1
の右半分表面を照射し、その反射光がハーフミラ−5b
から各ミラー5 c +5d 、5eを介してスクリー
ン4上に投射される。
つまり、スクリーン4には第2図Aで示すように各ペレ
ット1の右半分表面の投影像が写し出される。
他方、裏面光学系6も同様にランプ6asハーフミラ−
6b、 ミラー6c、6d、6eなどを夫夫に有し、
各ペレット1の右半分裏面を第2図Bで示すように投影
する。
そして、このスクリーン4上での表面像Aと裏面像■3
は境界線Cを境に十下(或は左右)を対応させる。
上記例によるベレット外観チェックはスクリーン4hで
表面像Aと裏面像Bを観て行う。
つまり、1つのスクリーン4でべし・ット1の表面と裏
面会同時に検査するわけであり、表面イく良は表面像A
からチェックでき、その不良品は表面像Aの配列から簡
単に見い出すことができる。
また表面不良は裏面像Bからチェックされ、その不良品
は対応する表面像Aで位置を確認させてから、表面不良
品と同じようにして、見い出し、除去ができる。
この表面像Aからデーゾ2−Lのベレット1の選定は配
列を読んで行う他に、例えばベレット1のfr。
r方向より順次にスポットライトや針等る走査させて行
うようにしてもよい。
ところで、上記実施例は各べし・ット1の石半分をまず
検査してから、次に践りの左半分を更にスクリーン4に
投影して検査する必要がある。
この投影の切換え手間を省く意味で、例えば第3図に示
すようにスクリーン4に各ベレット1の全表面像A′と
、全裏面像B′とを1度に写し出すようにしてもよい。
この場合も、両全像A’ 、 B’の位置を解りやすく
対応させておく。
また、例えばホルダ・−3を回転させながら、ベレット
1の表面と裏面を同時に光学走査していくようにするこ
とも可能である。
尚、表面光学系5と裏面光学系6には拡大レンズ系を絹
込んで、ベレット1の表面と裏面の拡大像をスクリーン
4に写すことは当然である。
以−E−説明したように、この考案は各べ1/ツトの表
面と裏面とを同時に写すスクリーンを有し、このスクリ
ーンの投影像にてベレットの表面と裏面の外観チェック
を同時に行うようにしたから、外観チェックの手間が1
段になり、作業能率が倍加する。
またベレットの裏面不良品があっても、その不良品はス
クリーン上の表面投影像から選定でき、従って間違って
良品を除去するようなミスがなくなり、面も除去の作業
性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る装置の実施例を示す要部側断面図
、第2図はスクリーンでの投影像説明図、第3図はスク
リーンでの他の投影像説明図である。 1・・・・・・ベレット、4・・・・・・スクリーン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 各ペレットの表面と裏面を同時に写すスクリーンを有し
    、このスクリーンの投影像にてペレットの表面と裏面の
    外観チェックを同時に行うようにしたことを特徴とする
    半導体装置の検査装置。
JP12219276U 1976-09-09 1976-09-09 半導体装置の検査装置 Expired JPS583299Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12219276U JPS583299Y2 (ja) 1976-09-09 1976-09-09 半導体装置の検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12219276U JPS583299Y2 (ja) 1976-09-09 1976-09-09 半導体装置の検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5340767U JPS5340767U (ja) 1978-04-08
JPS583299Y2 true JPS583299Y2 (ja) 1983-01-20

Family

ID=28731632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12219276U Expired JPS583299Y2 (ja) 1976-09-09 1976-09-09 半導体装置の検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS583299Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5340767U (ja) 1978-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080204737A1 (en) Mask pattern inspection apparatus with koehler illumination system using light source of high spatial coherency
JP7274312B2 (ja) 自動光学検査のための光学系
CN115295458A (zh) 一种晶圆检测系统及方法
JP2803934B2 (ja) 投影露光装置及び露光方法
JPS62153737A (ja) 物品表面検査装置
JPS583299Y2 (ja) 半導体装置の検査装置
JP2020148735A (ja) 検査装置
JPS61201107A (ja) 透明な膜の表面検査方法
JPH0522176B2 (ja)
JP3068636B2 (ja) パターン検査方法および装置
JPS6263842A (ja) 凹凸検査装置
JP3625953B2 (ja) 外観検査用投光装置
JP3501661B2 (ja) 液晶表示パネルの検査方法および検査装置
JPS5999426A (ja) 防塵機構付焼付露光装置
JPS60108703A (ja) 物体の観測方法
JP3264048B2 (ja) 外観検査装置
JP2600148Y2 (ja) フォトマスク欠陥検査装置
JP3909592B2 (ja) 平板基板の部分歪み測定方法及び部分歪み測定装置、並びに表示用パネルの製造方法
JPS582450B2 (ja) パターンの欠陥検査装置
JPS61258426A (ja) 縮小投影露光装置
JPS62191741A (ja) 表面欠陥検出方法
CN121253538A (zh) 边缘缺陷的检测系统、方法及存储介质
CN121540638A (zh) 一种晶圆边缘检测装置及方法
CN121805137A (zh) 用于检查半导体器件的侧边缘的系统和方法
JPS62176281A (ja) 画像入力装置