JPS5833439B2 - 不活性液化ガス定量滴下法および装置 - Google Patents
不活性液化ガス定量滴下法および装置Info
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- JPS5833439B2 JPS5833439B2 JP1207280A JP1207280A JPS5833439B2 JP S5833439 B2 JPS5833439 B2 JP S5833439B2 JP 1207280 A JP1207280 A JP 1207280A JP 1207280 A JP1207280 A JP 1207280A JP S5833439 B2 JPS5833439 B2 JP S5833439B2
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Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Vacuum Packaging (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、缶詰内に不活性ガスとして液化窒素ガスLN
2又は液化炭素ガスLCO2を滴下充填する不活性液化
ガス定量滴下法およびその実施に直接使用する装置に関
する。
2又は液化炭素ガスLCO2を滴下充填する不活性液化
ガス定量滴下法およびその実施に直接使用する装置に関
する。
近年頓に叫ばれる省資源、省エネルギーの要請に応えて
缶詰内に不活性液化ガスを滴下充填密封し、不活性液化
ガスの気化膨張により缶内を陽圧にして補強効果を持た
せ缶容器の薄肉化を計り材料削減に伴うコストダウンと
同時に品質劣化、変敗等の悪影響を与える封入酸素量を
滴下充填密封時減少して品質を向上させることが試みら
れている。
缶詰内に不活性液化ガスを滴下充填密封し、不活性液化
ガスの気化膨張により缶内を陽圧にして補強効果を持た
せ缶容器の薄肉化を計り材料削減に伴うコストダウンと
同時に品質劣化、変敗等の悪影響を与える封入酸素量を
滴下充填密封時減少して品質を向上させることが試みら
れている。
しかるに、この種の従来の不活性液化ガス定量滴下装置
イは第1図に示すよう外側が真空断熱した二重構造の開
放タンクロになっており、開放タンクロ内の液面制句と
、下端に簡易断熱の電磁弁ハ付添加ノズル二を取付けた
真空二重管ホを開放タンクロから垂下し、当該真空二重
管ホの途中に介設した図示しない流量調節ニードル弁を
手動調節ハンドルへにより調節して滴下量を制御する構
造であったため、不活性液化ガス、飼えば液化窒素ガス
LN2の特性(沸点−195,8℃、1 atm、比容
861.5 ml/fl、21.1℃、1 atm )
を制御することができず、弁棒や管自体を通して外気温
の伝熱を受けて真空二重管ホ中で気化が励発し、圧力及
び流量が変動し所謂脈流現象を誘起して定量滴下を不可
能とした。
イは第1図に示すよう外側が真空断熱した二重構造の開
放タンクロになっており、開放タンクロ内の液面制句と
、下端に簡易断熱の電磁弁ハ付添加ノズル二を取付けた
真空二重管ホを開放タンクロから垂下し、当該真空二重
管ホの途中に介設した図示しない流量調節ニードル弁を
手動調節ハンドルへにより調節して滴下量を制御する構
造であったため、不活性液化ガス、飼えば液化窒素ガス
LN2の特性(沸点−195,8℃、1 atm、比容
861.5 ml/fl、21.1℃、1 atm )
を制御することができず、弁棒や管自体を通して外気温
の伝熱を受けて真空二重管ホ中で気化が励発し、圧力及
び流量が変動し所謂脈流現象を誘起して定量滴下を不可
能とした。
その結果缶詰毎に不活性ガスの充填量を異にし内圧や品
質にバラツキを持たらし不安定とならざるを得ない。
質にバラツキを持たらし不安定とならざるを得ない。
本発明は前記従来装置の欠陥に鑑み、脈流等の経時変動
現象を持たらさず常時定量滴下可能とする不活性液化ガ
ス定量滴下法および装置を提供せんとするものである。
現象を持たらさず常時定量滴下可能とする不活性液化ガ
ス定量滴下法および装置を提供せんとするものである。
液化窒素ガスLN2を滴下処理する本発明装置の実施例
を第2図について説明する。
を第2図について説明する。
本発明の不活性液化ガス定量滴下装置Aは、添加用液化
窒素ガスLN2を中央に貯蔵する中心槽1と、その外側
外周を断熱用液化窒素ガスLN2と断熱用真空雰囲気V
aをそれぞれ密封内容する中間槽2と外槽3で順次囲繞
した同心円三重構造に内部をかつ絞り形態に形成した下
端部に中間槽2の突出下端で外周を囲繞したガス室4を
それぞれ画成し、上端を天板5でかつ下端を履板6に取
付けた底板Tで閉塞せる外観ホッパー又は漏斗型密封タ
ンクBと、下端中央に添加ノズル8を着脱自在に螺着垂
下し中心槽1の底端に取り付けた添加用液化ガス路開閉
弁機構Cと、当該添加用液化ガス路開閉弁機構Cのシー
ト弁体9の開閉を制御しかつ密閉タンクBの天板5中夫
に貫着屹立した自動操作シリンダ機構りと、当該自動操
作シリンダ機構りの操作圧および中心槽1の内圧を調節
制御する圧力制御系Eと、中心槽1内の添加用液化窒素
ガスLN2および中間槽2内の断熱用液化窒素ガスLN
2の液面制御系Fと、外槽3内の真空圧制御系Gと、中
間槽2内の気化窒素ガスGN2をガス室4内に流量調節
を行って送り込む気化窒素ガス流量制御系Hとを有機的
にシステム構成してなる。
窒素ガスLN2を中央に貯蔵する中心槽1と、その外側
外周を断熱用液化窒素ガスLN2と断熱用真空雰囲気V
aをそれぞれ密封内容する中間槽2と外槽3で順次囲繞
した同心円三重構造に内部をかつ絞り形態に形成した下
端部に中間槽2の突出下端で外周を囲繞したガス室4を
それぞれ画成し、上端を天板5でかつ下端を履板6に取
付けた底板Tで閉塞せる外観ホッパー又は漏斗型密封タ
ンクBと、下端中央に添加ノズル8を着脱自在に螺着垂
下し中心槽1の底端に取り付けた添加用液化ガス路開閉
弁機構Cと、当該添加用液化ガス路開閉弁機構Cのシー
ト弁体9の開閉を制御しかつ密閉タンクBの天板5中夫
に貫着屹立した自動操作シリンダ機構りと、当該自動操
作シリンダ機構りの操作圧および中心槽1の内圧を調節
制御する圧力制御系Eと、中心槽1内の添加用液化窒素
ガスLN2および中間槽2内の断熱用液化窒素ガスLN
2の液面制御系Fと、外槽3内の真空圧制御系Gと、中
間槽2内の気化窒素ガスGN2をガス室4内に流量調節
を行って送り込む気化窒素ガス流量制御系Hとを有機的
にシステム構成してなる。
前記添加用液化ガス路開閉弁機構Cは、弁座口10を中
心に同心円上に囲繞屹立し平端部外周に通孔11を貫設
した弁ガイド筒12に上下摺動自在に内挿しかつ弁座口
10に対向する下端面にシートディスク13を埋嵌した
シート弁体9の弁棒14を中心槽1の軸心にそって縦貫
し、自動操作シリンダ機構りの下端開口円筒部15に上
下動自在に内通して弁棒14の上昇動と一体的にシート
弁体9を上昇し弁座口10からシートディスク13を引
離した時間弁となり弁棒14の下降動と一体的にシート
弁体9を下降し弁座口10にシートディスク13を圧接
した時閉弁となるよう形成してなる。
心に同心円上に囲繞屹立し平端部外周に通孔11を貫設
した弁ガイド筒12に上下摺動自在に内挿しかつ弁座口
10に対向する下端面にシートディスク13を埋嵌した
シート弁体9の弁棒14を中心槽1の軸心にそって縦貫
し、自動操作シリンダ機構りの下端開口円筒部15に上
下動自在に内通して弁棒14の上昇動と一体的にシート
弁体9を上昇し弁座口10からシートディスク13を引
離した時間弁となり弁棒14の下降動と一体的にシート
弁体9を下降し弁座口10にシートディスク13を圧接
した時閉弁となるよう形成してなる。
前記自動操作シリンダ機構りは、円筒部15上に発条室
部16を介してシリンダ17を搭装し、当該シリンダ1
7に上下出没動自在に内挿したピストンロッド18を発
条室部16に挿入して発条室部16内で弁棒14上端と
突合せ、フランジ19と一体結合するとともに発条室部
16の封蓋20と前記7ランフ19間に圧縮コイルスプ
リング21を介装してピストンロッド18と弁棒14を
一体に常時下降習性を付勢するように形成してなる。
部16を介してシリンダ17を搭装し、当該シリンダ1
7に上下出没動自在に内挿したピストンロッド18を発
条室部16に挿入して発条室部16内で弁棒14上端と
突合せ、フランジ19と一体結合するとともに発条室部
16の封蓋20と前記7ランフ19間に圧縮コイルスプ
リング21を介装してピストンロッド18と弁棒14を
一体に常時下降習性を付勢するように形成してなる。
前記圧力制御系Eは、窒素ガスGN、源と操作配管22
を通り途中順次二次側保圧用減圧弁23および電磁弁2
4を介してシリンダー17内と連通ずる一方、窒素ガス
GNJと加圧配管25を通り途中順次二次側保圧用減圧
弁26、ボール弁27、二次側保圧用減圧弁28を介し
て中心槽1上端内と連通ずるとともに減圧弁28の後位
置の加圧配管25から分岐した排気管29を通り途中凍
結防止ヒータ−30付二次側保圧用減圧弁31と逆止弁
32を介して大気に開放し、他方減圧弁26とボール弁
27間の加圧配管25から分岐し先端が天板5を貫通し
て中間槽2内下部に延びた分岐加圧配管33を通り途中
ボール弁34、二次側ガス量調節精密減圧弁35を介し
て中間槽2下部内と連通してなる。
を通り途中順次二次側保圧用減圧弁23および電磁弁2
4を介してシリンダー17内と連通ずる一方、窒素ガス
GNJと加圧配管25を通り途中順次二次側保圧用減圧
弁26、ボール弁27、二次側保圧用減圧弁28を介し
て中心槽1上端内と連通ずるとともに減圧弁28の後位
置の加圧配管25から分岐した排気管29を通り途中凍
結防止ヒータ−30付二次側保圧用減圧弁31と逆止弁
32を介して大気に開放し、他方減圧弁26とボール弁
27間の加圧配管25から分岐し先端が天板5を貫通し
て中間槽2内下部に延びた分岐加圧配管33を通り途中
ボール弁34、二次側ガス量調節精密減圧弁35を介し
て中間槽2下部内と連通してなる。
図中36,37,3Bは圧力計、39゜40’、41は
それぞれ加圧配管25に取付は中心槽1上端内と連通ず
る安全弁、圧力計、緊急時大気解放弁、42,43,4
4は中間槽2の天板5に貫着取付げ中間槽2上端内と連
通ずる排気管45にそれぞれ取付けた安全弁、圧力計、
緊急時1大気解放弁である。
それぞれ加圧配管25に取付は中心槽1上端内と連通ず
る安全弁、圧力計、緊急時大気解放弁、42,43,4
4は中間槽2の天板5に貫着取付げ中間槽2上端内と連
通ずる排気管45にそれぞれ取付けた安全弁、圧力計、
緊急時1大気解放弁である。
前記液面制御系Fは、周囲を断熱した液化窒素ガスLN
Jと第1供給配管46を通し途中電磁弁41を介し中心
槽1上端内と連通ずるとともに液化窒素ガスLNJ寄り
の第1供給配管46にドラア イヤー48を分岐取付け
る一方、電磁弁47とドライヤー48分岐間の第1供給
配管46から分岐した第2供給配管49を通り途中電磁
弁50を介し中間槽2上端内と連通し、差圧発信器51
を一辺とするブリッジ回路52の一方の検出端53を中
心槽1上端内に臨ま七つ他方の検出端54を天板5を貫
通して延び中心槽1内子部に臨ませるとともに、差圧発
信器55を一辺とするブリッジ回路56の一方の検出端
57を中間槽2上端内に臨ませかつ他方の検出端58を
天板5を貫通して延び中間槽2内下部に臨ませてなり、
前記差圧発信器si 、ssで中心槽1および中間槽2
内のそれぞれ液化窒素ガスLN2の液位を検出しそれぞ
れに接続されている液面指示調節計60,61からの開
閉指令信号により前記電磁弁47,50が開閉制御され
液化窒素ガスLNJから中心槽1および中間槽2内に液
化窒素ガスLN2が供給される。
Jと第1供給配管46を通し途中電磁弁41を介し中心
槽1上端内と連通ずるとともに液化窒素ガスLNJ寄り
の第1供給配管46にドラア イヤー48を分岐取付け
る一方、電磁弁47とドライヤー48分岐間の第1供給
配管46から分岐した第2供給配管49を通り途中電磁
弁50を介し中間槽2上端内と連通し、差圧発信器51
を一辺とするブリッジ回路52の一方の検出端53を中
心槽1上端内に臨ま七つ他方の検出端54を天板5を貫
通して延び中心槽1内子部に臨ませるとともに、差圧発
信器55を一辺とするブリッジ回路56の一方の検出端
57を中間槽2上端内に臨ませかつ他方の検出端58を
天板5を貫通して延び中間槽2内下部に臨ませてなり、
前記差圧発信器si 、ssで中心槽1および中間槽2
内のそれぞれ液化窒素ガスLN2の液位を検出しそれぞ
れに接続されている液面指示調節計60,61からの開
閉指令信号により前記電磁弁47,50が開閉制御され
液化窒素ガスLNJから中心槽1および中間槽2内に液
化窒素ガスLN2が供給される。
前記液面指示調節計60,61は液面の下限値及び上限
値を設定可能で、差圧発信器51,55からの信号が設
定下限値に達すると電磁弁47,50”開”′の信号を
出力し、設定上限値に達すると電磁弁47.50”閉″
の信号を出力して液の供給を停止するので、設定上限値
及び下限値の幅を小さく設定し電磁弁の開閉頻度を多く
すると槽内液レベルの変動幅を小さく保持出来るように
してなる。
値を設定可能で、差圧発信器51,55からの信号が設
定下限値に達すると電磁弁47,50”開”′の信号を
出力し、設定上限値に達すると電磁弁47.50”閉″
の信号を出力して液の供給を停止するので、設定上限値
及び下限値の幅を小さく設定し電磁弁の開閉頻度を多く
すると槽内液レベルの変動幅を小さく保持出来るように
してなる。
図中59は安全器で、液面指示調節計60゜61と共に
制御盤62上に実装される。
制御盤62上に実装される。
前記真空圧制御系Gは、モーター63に直結した真空ポ
ンプ64と真空管65を通り途中逆止弁66およびポー
ル弁67を介して外槽3上端内と連通してなる。
ンプ64と真空管65を通り途中逆止弁66およびポー
ル弁67を介して外槽3上端内と連通してなる。
図中68はモータースイッチ、69はモーター63の自
己保持回路であって制御盤62上に実装される。
己保持回路であって制御盤62上に実装される。
前記気化窒素ガス流量制御系Hは、下端吹出ロア0を中
間槽2底端を貫通してガス室4内に開口し中間槽2を縦
貫して天板5を貫通した冷却吹出管71の上端に気化ガ
ス流量調節アングル弁72を介接して中間槽2上端内と
連通してな、る。
間槽2底端を貫通してガス室4内に開口し中間槽2を縦
貫して天板5を貫通した冷却吹出管71の上端に気化ガ
ス流量調節アングル弁72を介接して中間槽2上端内と
連通してな、る。
図中73は、添加ノズル8を囲繞し底板7中夫に貫着し
た気化ガスノズルである。
た気化ガスノズルである。
また74゜75は回収弁76と排水弁77とをそれぞれ
外端に接続した抜口、78.79は凍結防止ヒーター3
0のスイッチ、80はサーモスタット、81は真空計で
ある。
外端に接続した抜口、78.79は凍結防止ヒーター3
0のスイッチ、80はサーモスタット、81は真空計で
ある。
本発明は前記のように構成するから中心槽1と中間槽2
に内容される添加用液化窒素ガスLN2と断熱用液化窒
素ガスLN2はそれぞれ一対の検出端53と54.51
と58により液面制御系Fを作動して常時定位の液面制
御を行っており、外槽3内の真空雰囲気は真空圧制御系
Gを作動して常時所要の真空圧に保持されている。
に内容される添加用液化窒素ガスLN2と断熱用液化窒
素ガスLN2はそれぞれ一対の検出端53と54.51
と58により液面制御系Fを作動して常時定位の液面制
御を行っており、外槽3内の真空雰囲気は真空圧制御系
Gを作動して常時所要の真空圧に保持されている。
また中心槽1内圧は圧力制御系Eを作動して一定圧に保
圧して添加用液化ガス路開閉弁機構Cの開弁作動時常時
一定量の液化窒素ガスLN2を添加ノズル8から滴出す
るようにしである。
圧して添加用液化ガス路開閉弁機構Cの開弁作動時常時
一定量の液化窒素ガスLN2を添加ノズル8から滴出す
るようにしである。
中間槽2内で気化した窒素ガスGN2は、気化窒素ガス
流量制御系Hを作動して気化ガス流量調節アングル弁7
2の調整度合により冷却ガス吹出管71の下端吹出ロア
0からの冷却気化窒素ガスGN2をガス室4へ導き添加
ノズル8を外気との接触から遮断して外周部の凍結を防
止するとともに添加ノズル8内の液化ガスの気化を防止
する。
流量制御系Hを作動して気化ガス流量調節アングル弁7
2の調整度合により冷却ガス吹出管71の下端吹出ロア
0からの冷却気化窒素ガスGN2をガス室4へ導き添加
ノズル8を外気との接触から遮断して外周部の凍結を防
止するとともに添加ノズル8内の液化ガスの気化を防止
する。
冷却気化窒素ガスGN2は更にガス室4下部の気化ガス
ノズル73へ導びかれこの時の冷却気化ガスGN2の吹
出速度を添加ノズル8から落滴する落下速度に前述の通
り気化ガス流量調節アングル弁72の開口量調整により
同調せしめ、落下方向に絞って添加用液化窒素ガスLN
2の落滴を包囲しつつ大気から遮断して瞬間気化を防止
可能としあわせて落滴が風等の大気の変動で乱されるこ
とも防止され落下定量性を向上する。
ノズル73へ導びかれこの時の冷却気化ガスGN2の吹
出速度を添加ノズル8から落滴する落下速度に前述の通
り気化ガス流量調節アングル弁72の開口量調整により
同調せしめ、落下方向に絞って添加用液化窒素ガスLN
2の落滴を包囲しつつ大気から遮断して瞬間気化を防止
可能としあわせて落滴が風等の大気の変動で乱されるこ
とも防止され落下定量性を向上する。
そして気化ガスノズル73直下を缶詰群が通過する直前
に検知信号を受けて電磁弁24を開弁すると圧力制御系
Eの操作配管22を通し、自動操作シリンダ機構りのシ
リンダ17内に窒素ガスGN2の操作圧を送り込むとピ
ストンロッド18は圧縮コイルスプリング210弾性力
に抗して操作圧力に応じて上動し、これと一体に弁棒1
4およびシート弁体9も弁ガイド筒12内を上昇摺動し
て弁座口10からンートディスク13を引離し開弁する
と添加用液化窒素ガスLN2は通孔11を通って弁座口
10を経て添加ノズル8に至り、添加ノズル8から落滴
した添加用液化窒素ガスLN7!ガス室に充満した気化
窒素ガスGN2が気化ガスノズル73に集中噴出する中
を落下して気化ガスノズル73直下を通過中の缶詰内に
滴下充填され、缶詰は次工程の蓋巻締工程へと移行する
。
に検知信号を受けて電磁弁24を開弁すると圧力制御系
Eの操作配管22を通し、自動操作シリンダ機構りのシ
リンダ17内に窒素ガスGN2の操作圧を送り込むとピ
ストンロッド18は圧縮コイルスプリング210弾性力
に抗して操作圧力に応じて上動し、これと一体に弁棒1
4およびシート弁体9も弁ガイド筒12内を上昇摺動し
て弁座口10からンートディスク13を引離し開弁する
と添加用液化窒素ガスLN2は通孔11を通って弁座口
10を経て添加ノズル8に至り、添加ノズル8から落滴
した添加用液化窒素ガスLN7!ガス室に充満した気化
窒素ガスGN2が気化ガスノズル73に集中噴出する中
を落下して気化ガスノズル73直下を通過中の缶詰内に
滴下充填され、缶詰は次工程の蓋巻締工程へと移行する
。
かくして本発明は、中心槽1から添加ノズル8間での気
化による圧力変動を防止する為三重構造のタンクとし、
即ち中心槽1を液化窒素ガスLN2充填槽、中間槽2を
断熱気化用液化ガスLN2槽、外槽3を真空断熱槽とし
た。
化による圧力変動を防止する為三重構造のタンクとし、
即ち中心槽1を液化窒素ガスLN2充填槽、中間槽2を
断熱気化用液化ガスLN2槽、外槽3を真空断熱槽とし
た。
又あわせて中心槽1と添加ノズル8間を大気温との熱影
響を最小にする為、可及的に短縮する構造ともした。
響を最小にする為、可及的に短縮する構造ともした。
さらに流量制御の為、中心槽1を密閉型とすることによ
り気化窒素ガスGN2による加圧が可能とし、中心槽1
内と連通した内圧制御用精密減圧弁31を取付け、しか
も中間槽2からの気化窒素ガスGN2は添加ノズル8の
凍結防止の為に添加ノズル8周辺に導かれ加えて気化ガ
スノズル73から噴出させて気化窒素ガス流層を形成さ
せ、液化窒素ガスLN2が添加ノズル8から吐出される
際の瞬間気化を防止し、缶詰内への定量滴下を行い品質
が安定した缶詰を得る等優れた効果を発揮する。
り気化窒素ガスGN2による加圧が可能とし、中心槽1
内と連通した内圧制御用精密減圧弁31を取付け、しか
も中間槽2からの気化窒素ガスGN2は添加ノズル8の
凍結防止の為に添加ノズル8周辺に導かれ加えて気化ガ
スノズル73から噴出させて気化窒素ガス流層を形成さ
せ、液化窒素ガスLN2が添加ノズル8から吐出される
際の瞬間気化を防止し、缶詰内への定量滴下を行い品質
が安定した缶詰を得る等優れた効果を発揮する。
なお本発明の実施例では専ら不活性液化ガスとして液化
窒素ガスの滴下充填を主に説明して来たが、液化炭酸ガ
スの滴下充填にもそのまま適用出来ることは言うまでも
ない。
窒素ガスの滴下充填を主に説明して来たが、液化炭酸ガ
スの滴下充填にもそのまま適用出来ることは言うまでも
ない。
第1図は開放タンクを装備する従来型装置の側面図、第
2図は本発明装置の系統的に図化したフローチャートで
ある。 A・・・・・・不活性液化ガス定量滴下装置、B・・・
・・・密閉タンク、C・・・・・・添加用液化ガス路開
閉弁機構、D・・・・・・自動操作シリンダ機構、LN
2・・・・・・液化窒素ガス、GN2・・・・・・気化
窒素ガス、Vaパ曲真空雰囲気、1・・・・・・中心槽
、2・・・・・・中間槽、3・・・・・・外槽、4・・
・・・・ガス室、5・・・・・・天板、8・・・・・・
添加ノズル、9・・・・・・シート弁体、10・・・・
・・弁座口、11・曲・通孔、12・・・・・・弁ガイ
ド筒、13・・曲シートディスク、14・・・・・・弁
棒、15・・・・・・円筒部、16・・・・・・発条室
部、17・・・・・・シリンダ、18・・・・・・ピス
トンロッド、21・・・・・・圧縮コイルスプリング、
70・・曲下端吹出口、71・・・・・・冷却ガス吹出
管、72・・・・・・気化ガス流量調節アングル弁、7
3・曲・気化ガスノズル。
2図は本発明装置の系統的に図化したフローチャートで
ある。 A・・・・・・不活性液化ガス定量滴下装置、B・・・
・・・密閉タンク、C・・・・・・添加用液化ガス路開
閉弁機構、D・・・・・・自動操作シリンダ機構、LN
2・・・・・・液化窒素ガス、GN2・・・・・・気化
窒素ガス、Vaパ曲真空雰囲気、1・・・・・・中心槽
、2・・・・・・中間槽、3・・・・・・外槽、4・・
・・・・ガス室、5・・・・・・天板、8・・・・・・
添加ノズル、9・・・・・・シート弁体、10・・・・
・・弁座口、11・曲・通孔、12・・・・・・弁ガイ
ド筒、13・・曲シートディスク、14・・・・・・弁
棒、15・・・・・・円筒部、16・・・・・・発条室
部、17・・・・・・シリンダ、18・・・・・・ピス
トンロッド、21・・・・・・圧縮コイルスプリング、
70・・曲下端吹出口、71・・・・・・冷却ガス吹出
管、72・・・・・・気化ガス流量調節アングル弁、7
3・曲・気化ガスノズル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 外周を断熱用不活性液化ガスと断熱用真空雰囲気で
二重に密封した添加用不活性液化ガスに吹込み加圧する
不活性ガス圧と、前記添加用不活性液化ガスに直通する
添加ノズル内の流通とを自動制御して、当該添加ノズル
から前記添加用不活性液化ガスを、不活性気化ガス噴出
雰囲気中を通し常時定量滴下してなる不活性液下ガス定
量滴下法2 不活性気化ガス噴出雰囲気は、密閉雰囲気
とした内部に垂下する添加ノズルの下端を当該密閉雰囲
気の出口に臨ませて前記密閉雰囲気内への不活性気化ガ
スの供給送り込み量を調整することにより、前記出口か
ら流出する不活性気化ガスの噴出方向と速度を前記添加
ノズルから落滴する添加用不活性液化ガスの落下方向と
速度に一致せしめてなる特許請求の範囲第1項記載の不
活性液化ガス定量滴下法。 3 不活性気化ガスは、断熱用不活性液下ガスの気化ガ
スを利用してなる特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の不活性液化ガス定量滴下法。 4 添加用不活性液化ガスと断熱用不活性液化ガスと断
熱用真空雰囲気をそれぞれ密封内容する中心槽とその外
周を順次囲繞する中間槽と外槽とにより内部を三重構造
に形成した密封タンクを設け、前記中心槽の底端に取付
けた添加用液化ガス路開閉弁機構の弁棒を前記中心槽を
貫通して前記密封タンク外上端に取付けた操作機構と結
合する一方、不活性窒素ガス源と前記中心槽とを連通し
、他方前記中間槽内上端と前記中間槽の突出下端で外周
を囲繞したガス室とを連通してなる不活性液化ガス定量
滴下装置。 5 中心槽は、内部上端と凍結防止ヒーター付減圧弁を
介して大気と連通してなる特許請求の範囲第4項記載の
不活性液化ガス定量滴下装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207280A JPS5833439B2 (ja) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | 不活性液化ガス定量滴下法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207280A JPS5833439B2 (ja) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | 不活性液化ガス定量滴下法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56109996A JPS56109996A (en) | 1981-08-31 |
| JPS5833439B2 true JPS5833439B2 (ja) | 1983-07-19 |
Family
ID=11795385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1207280A Expired JPS5833439B2 (ja) | 1980-02-05 | 1980-02-05 | 不活性液化ガス定量滴下法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5833439B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1152041A (en) * | 1980-12-18 | 1983-08-16 | Eric L. Jensen | Container pressurization system |
| JPS62477Y2 (ja) * | 1981-06-18 | 1987-01-08 | ||
| JPS58183419A (ja) * | 1982-04-22 | 1983-10-26 | 大和製罐株式会社 | 低温液化ガスの添加方法 |
| JPS58184396A (ja) * | 1982-04-22 | 1983-10-27 | Teisan Kk | 低温液化ガス流出装置 |
| JPS58184395A (ja) * | 1982-04-22 | 1983-10-27 | Teisan Kk | 低温液化ガス定量流出装置 |
| JPS5999198A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-07 | Nippon Sanso Kk | 低温液化ガス滴下装置 |
| JPS6021096U (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-13 | 新菱製罐株式会社 | 防滴型液体窒素充填装置 |
| JP2011038581A (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-24 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 液化ガス噴射装置 |
-
1980
- 1980-02-05 JP JP1207280A patent/JPS5833439B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56109996A (en) | 1981-08-31 |
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