JPS5834424A - 光ビ−ムの制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ビームで感光面上に文章及び画像を書き込む
に当り非常な正確さが得られるようにするため採用でき
る方法に関するものである。この方法ではスリット又は
線（ライン）を具える特別なスケール又は格子を月１い
て光ビームの位置を測定する。而してこの測定により書
き込みに際し光ビームの位１ａが正確に知られ、これに
より本番の傷き込み動作を像面上の所要の位置に正確に
案内できることになる。像面上で一方向の位置測定は像
面の夕ｊ側に１にＬかれたスリットを利用する巧みな技
術を利用し、スリットの縁で光ビームの位置を記録し、
これに基づいて光ビームを偏向させる。

光ビームの動きは反復的に再現性良く行なえるから、こ
れにより像面上のいたる所でこの方向につい−ＣのゲＣ
ビームの位ｔｉｔ座標を知ることができる。

この方向に垂直な方向での像面上でのｉｌＺ　Ｉ′ｌｉ
座標は多数のスリット又は線（ライン）を具えるもう一
つのスケールを用いて測定する。書き込みビーム又はこ
の書き込みビームから取り出した基準ヒームをスケール
」―に落し、当該方向に書き込めを進める際にスケール
−１−のビームかビームσ）　位１ｉ’ｆを示す信号を
提供する。

光ビームは写真植字、印刷版の作成、ティジタル計算機
の出力、ファクシミリ伝送及び２次元面上に文章及び又
は＋Ｉ！ｉｉ像を記録するその（１（Ｌの仕事で利用さ
れる。このような場合出力が非Ｖｉｔ　ｃこＩＩ１確な
ことが求められる場合はレーザビームを使用する。

レーザビームを使ハＩすると小さなスポットで非常に明
るいものが得られる。この分骨ではレーザビームを偏向
させ且つ変調させて粛き込みＧこ利月１する方法が既に
知られている。これらの技術でＧＪ正Ｊ＠な機械的運動
及び場合によってはｔ、ｃ、　ｉｐ＜ビームがスケール
上を走る時与えられる信号に基づいてレーザビームの位
置の制御が行なわれている。しかしこの方法では像面上
の一つの次元で約１００００〜７０００００分解要素と
いう所要の４６　（ｔｌｉ　Ｉ’、Ｆ、はそうＩｙｉｌ
　ＩＪｉには得られない。

これに対し本願明細書の特許請求の範囲に記載されてい
る発明は像面の外側に設けらねたスケールが像面］二で
の光ビームの瞬時位１ａについての正確な情報を与え、
この情報を（ＩＩき込みプロセスを制御ｉ１＋１するの
に使う。

図面につき本発明の詳細な説明する。

不発明方７）、の−其体例を第を図に示す。一時に１Ｖ
：１さｈの１本の細条毎に像面を露光する。光スポット
が水平方向に左から右へ動く時光スポットは同時に垂直
方向Ｇこ距離りたけ急速に偏向させられる。光ビームが
この時変ｔｉｌｉされていれは旨さｈの区域の全ｔｅｌ
（の文章及び１１１ｊ像が占き込まれる。互に隣接する
細条を一本づつ十分な数露光すれは一ベージ全部−（き
込まねる。この時大事なことは各細条が止（ｉ（Ｉｔに
ぴったりと隣のＡ、１１１条とくつつくことである。而
してこれに必要な位置の測定と制御とは＋゛ｔ　＋：の
ように行なわれる。令弟１図の細条す上で光ビームを偏
向させ、このＭｌｌ１条」−に落とすものとすると書き
込み動作をスタートさせる目Ｉ］に較正を行なう。この
ために光ビームを垂直方向に偏向させて細条すの左上隅
及び左下隅のスリット（第１図のＳユと８２）に当てる
。

スリン）Ｓ工の上縁及びスリットＳ２の上縁を光ビーム
が横切る時の偏向装置ｒｔの駆動電圧イ１〆」又は時間
値若しくはそれに類するす１報を記録する。次に光ビー
ムを像「ｎノの右端迄偏向させて細条すの右」−隅及び
右下隅のスリット（第１図の生、と８４）についての対
応する伯を記録する。これにより細条すの位置が非常に
正確に測定されたことに７Ｊる。

而してこの測定は書き込みに使われるのと同じビームを
用いて行なわれているから整列ミスによる誤差並びに機
械部品及び機械連動の不正確さに起因する誤差は全部自
動的にＭ正される。同様にして垂直偏向を行なわせる電
子装置ａにシト正１１１ＩＩｉさやドリフトがあっても
これは書き込みの際誤差を生じない。

このようにして較正と較正に伴なう誤差のｈａｔ正計算
が終ったら当該細条（第１図のｂ）の市き込みをスター
トさせる。この細条すは光ビームを細条の一端から他端
迄高さｈだけ掃引させることにより書き込まれる。而し
て例えば新聞紙／ベージの幅だけ書き込むにはこのよう
な掃引を約１１０００回行なう。そして各掃引毎に当該
細条すの上側境界十の点く第１図の点Ｂ）に関する前記
電圧値文目時間４ｉｔｉをＨ１°算しておく。同様に当
該細条の下側境界の点の位ｔｔｉも計算しておく。これ
によりそこでのＪ、１１１条の、１％　’２’及び各１
１．ＩＩＩ素の＾Ｌさが知られる。而してこの情報に基
づいて光ビームの変調を光ビームの垂１ｆｊ−偏向に同
期させ、各画素を正しい位１ａに正イＩ′βにｍき込ま
せることかできる。殊に注意すべきことは成る細条のド
側境界（第を図で細条ａに対する点Ｂ）の位１ｎカ）ｌ
ｉ＃の細条の上側境界（第７１図で細条ｌ）に対Ｔる点
Ｂ〕を２ｉＩ！Ｉ定する時と同じスリットを用いて測定
される、即ち、像面の左端と右端にあって当該境界と同
一高さのスリット（Ｓ□及びＳ３）を用いて測定される
ことである。これはＪｌｌｌ’ｉ次の細条を正確にくつ
つけるという庖介な問題が１１：、イｉ／ｌ１１４つ信
頼度高く解決されることを意味する。

場合によってはレンズの歪みのため偏向ｍ圧は一定でも
卸１条の高さｈが像面の中央部よりも両端に向うに従っ
て大きくなるということがある。これや他の成る４′４
１１の歪みを補正するためにもう−っの較正手続を付加
することができる。このため像面の上方又は下方に泊：
線状の水平なスリット（第１図のＬ工及びＬ２）並びに
これらのスリットに対応する縁のスリン）（第１図のｓ
ａ、　Ｓｂ、　ｓｏ。

Ｓｄ）を設け、これらのスリットを用いて例えば−日に
７回装置を根本的に較正する。光ビームをスリットＬ工
とり、の高さに当て前述したようにして先ずスリット５
ａ−８ｄを測定する。その後で細条の書き込み時と同様
にスリン）Ｌ工とＬ２の間で細条をまたがって光ビーム
を偏向させる。而し°にの際各垂直方向掃引又は適当に
選ばれた少数の掃引毎に光ビームかスリン）Ｌ、を横切
る時及びスリットＬ２を横切る時の電圧値又は時間値を
記録する。これにより根本的な較正か行なわれ、この上
で像面への曹き込みを行なうから結果として像面上の細
条Ｇこ対して正１ｉＩＩｉなＩｆ’−７線状上側境界及
び下側境界を与えることができる。

他の次元の方向、即ち水平方向の位置測定は適当な垂直
方向のスリット又は線を刻んだスケールを水平方向に１
斤いて測る。その場合一つの方法は基準ビームを像区域
の外側にＩａかれたスケールに沿って走行させることで
ある。このようなスケールを第１図の上部に略式図示し
である。このようなスケールＧこ光検出器を関連させ、
これから出力される信号で水平方向のＸ座標を知る。第
コの方法は帰き込みビーム自体を用いることである。そ
の−例を第２図にボした。ここでは感光像面を動かして
所望の細条か１■き込みビームの位１行にくるようにす
る。而して所要の細条を正しい位置に置いたらこの１４
１１条に対応するスリット（第２図のスリット５ａ−８
ｄ）を用いて垂直方向の位置測定をＱ＆　、１：、する
。また、本査の書き込みでは各垂直方向の掃引毎に水平
スリット（第２図のＬ工及びＬ２１を用いて化１頁偏向
を正確に制御する。ここで適当な水平スケールを月１い
て水平方向の位置測定を行各４７第２図ではこのような
水平スケールがスリン）　Ｌ□の下側の短い斜のスリッ
トでできている。

各垂直方向掃引時に書き込みビーノ、がこれらの斜のス
リットから成るスケール上を走行する。光検出器がどの
ような正確な位置で光ビームが水平スケールを横切った
かを検出し、この信号が当該垂直方向掃引のＸ座標を与
える。この方法は唯一つのビーム、即ち書き込みビーム
しか必要としないという利点を有している。これにより
敲き込みビームの指すところと基準ビームの指ずところ
との間に差異があることに起因する誤差が消去される。

研究所では第３図に示す装置を用いて本発明方法を研究
した。これはレーザ／を具え、このレーザ／から変調器
−の方に向けて光ビームを放射する。また音響−光偏向
装置■３を具え、尚さ１１の垂直偏向を行なわせる。更
に光ビーム路に沿って検流計の鏡ｐ’ｔｖけ、像区域を
横切って水平方向の偏向を行なわせた。この後段では光
ビームは収束レンズよと一部だけを反射するビームスプ
リッタ≦トヲ通る。ビームスプリッタｔは光ビームを書
き込みビームと基準ビームとに分割する。基準ビームは
２個の水平方向スリットから戊るスケール７上に落ちる
。このようなスケール７を用いれば各掃引時に光ビーム
の垂直位置及び垂直偏向速度が正確に求まる。第３図で
は点線を用いて第２の基準ビームを示しである。この第
２の基準ビームは変調されておらず、水平方向スケール
ｒ及びその後方の光検出器９に落ちる。この光検出器の
出力信号Ｇこより絶えずＸ座標が求まる。

第３図に示したタイプの装置Ｍの重要な特徴は音響−光
偏向装置を用いることであって、このため機械部品を動
かさずに電子式に垂直偏向を行なわせることができる。

光ビームの位置決めをする制御装置ａも純粋に電子式の
ものが得られる。検流計鏡グを用いる機械式偏向は不変
の周期性の駆動装置ａを月１いて自由に走らせることが
できる。前記垂１〆Ｊ、偏向をこの自由走行偏向と同期
させ、スケールを上で測ったビームが正しいＸ座標値に
達した時垂直偏向がスタートするようにする。こうすれ
ば電子式制御により各掃引に対し正しいＸ座標値か与え
られる。同様にｙ方向でも光ビームのｙ座標（＋ｍを測
定し、この光ビームの変調を同期させることにより画素
が正しく位１ａ決めされ、光ビームが正しい７位１ａに
達した時各画素が書き込まれるようにする。このｙ方向
の位ｔｒｔ　１Ｉｉ１＋御も電子式に行なわれ、機械部
品の製造誤差か精度に悪影響を与えることはない。注意
すべきことはこの位置制御は簡単に高い精度をもって製
造でき、その精度が保たれることが保証されている幾何
学的スケールに基づいてなされることである。

提案された位ｒｔ測定装置は第１図に示さねているよう
なタイプの装置にすることができる。７本の細条から隣
の細条への移行はＩＩＭ束レンし／ｊの後段に置かれる
第２の検流計鏡／≦で行なわわる。こうすれば垂直方向
につき本質的にランダムアクセス可能な装置が得られる
。検流計の回転時間は／θミリ秒のオーダーであって、
成る程度回転角度から独立している。従来の装置ではど
れもこのようなランダムアクセス動作が得られない。蓋
し、検流計鏡の指示確度は所要の書き込み確度に達する
には不十分であるからである。しかし、本発明で提案さ
れている制御装置ｆは殊に書き込みビームを用いて位＋
？Ｌ測定をし、電子式動作をするため非常に高速Ｈ２つ
正確で検流計を用いてランダムアクセスさせることがで
きる。ランダムアクセス可能な装置？コ例えば写真植字
で有用である。蓋し、この場合４ｊ文章と画像とが異な
る時に別々に書き込むことができ、ページ全体を一定の
順序で、例えば左上側の隅から右Ｆ側の隅迄書き込む必
要はないからである。これにより柚々なタイプのグラフ
ィック要素を含む全ページを写真植字する場合の計算機
制御がずっと簡単になる。

８１￥１図の装置ではレンズの像面／ｇが円筒状になっ
ている。この円筒の軸は検流計／乙の軸と同一である。

しかし場合によっては像面が平面であることが重要であ
る。これは光ビームを第Ｓ図に示すように案内ずれば達
成される。第２の検流計２６の後段に放物面に沿って一
組の平面鏡１を並べる。

この時寸法を適当に選ぶことにより下記のことが妥当す
る状況か達成される。光ビームを任意の一つの平面鏡１
の中心に向けて案内すると光ビームは平坦な像面Ｉ上に
焦点を結ぶ。また、明らかに水平偏向用検流計２’ｌと
音響−光垂直偏向装置とけ収束レンズの手前にあるから
、平らな視野収束レンズの場合光ビームは偏向装置のＩ
Ｊ：６向角如何にかかわらず平らな像面上に合焦され続
ける。このように第Ｓ図に示したタイプの装置は像面を
物理的に動かさず、従って前記ランダムアクセス能力を
保持しつつ大きな平坦な面上に書き込みをＪることかで
きる。

実験室で組み立てた装置はレーザとして波長１１、！Ｉ
Ｉ　ｎｍの光を出すアルゴン−イオン−レーザを用いて
いる。これから出た光ビームは帯域幅ｒ　ＭＨｚの音響
−光変調器を用いて変調した。短かい垂直偏向は音響−
光偏向装置を用いて得た。像面上での偏向の最大値はｌ
ｆ　ｎｍであり、−回の掃引に要する垂直偏向時間は実
験毎に異なったがＳθμｓｅｃと、２　ｍ５ｅｃとの間
に入った。水平偏向検流計の偏向角度は３θ０迄であり
、ランダムアクセス時間は約ｌｏ　ｍ５ｅｃであり、水
平偏向は収束レンズに依存して２２０〜’１３０關であ
った。細条の高さは３．２鴎であり、全像区域の高さは
３００〜ｔｏｏｍであった。

この像区域の左境界と右境界上にスケールを設け、こわ
をｙ座標の測定に利用した。これらのスケ−＃　ｌ−Ｊ
　Ｊ　、　２　ｍｙｎ　１ｌｌＩ隔で５θ／１ｍＩＩｖ
１１のスリットを含んでいた。スリットとスリットとの
間の距離の公Ｈｔ±２゜３７１ｍとした。像区域の外側
にＸ座標測定用スケールを設けたが、こねは各Ｂｐｍ幅
の同一の透明垂直ラインと不透明垂直ラインとから成る
。これらのラインに対する公差は±２゜Ｓμｍであった
。

垂直方向スケールを透過した光は光を透過する光ファイ
バを用いて半導体検出器に導ひいた。水平スケールを透
過した光は長い線を成す光検出器により検出した。加え
て装置ａは第３図に示したタイプのスリットラインスケ
ールを具備し、この背後の光を光ｍ管検出益で観察した
。制御回路はディジタル式とした。またこの装置には３
２　Ｍｎ２のクロックを設けた。光ビームの最大垂直偏
向速度は２ｏｏ　ｐｒｎ　／μＳ８０であり、２個のク
ロックパルス間の時間間隔は６．２！ｒ　ｐｍに対応し
た。

垂直方向の距離は光ビームが１本のスリットを横切って
からもう一つのスリットを横切る迄の時ＩＥ　内（７）
　クロックパルスの数を数えることにより測定した。ま
た距離が知られている。２本のスリット間のクロックパ
ルスの数を測定すれば！１ｉ直偏向匣度を正確に測定す
ることができる。ｓ：ｌｎ々の補正計算はディジタル技
術を用いて行なった。その後で各垂直偏向掃引時に光ビ
ームの変、９．１を各画素に対するスタート時刻を計算
１ｙ　、クロックがスタート時刻になったことを示して
いる時スター１−　（ｇ　と・を出力することにより１
朗御した。Ｘ方向の１Ｉ７１１υ１は水平方向スケール
」−の透明なラインと不透明なラインとの間の境界を横
切る度毎に、即ち！３１１ｍ間隔で垂直偏向用のスター
ト信号を発生さＵること（こより得た。全画像区域−に
の装置ｒ″ｔの位置測定と制御の精度は分解能にして乙
。、２Ｋｐｍのオーターであった。

用途如何によっては提案されている位１に制０１１方法
は多少俣雑化されることもある。例えば水平偏向検流計
は十分高品質のものとし、所要の位Ｉｌｌ　（Ｍ１１度
が瑛流計で得られるものより厳しくない時は２本の垂直
方向スケールの一方が不要となる。この時較正は書き込
み動作の前に像面の左端にあるスケールだけで行ない、
装置ｎの動作速度が１１６まる。

水平ラインＬ工及びＬ２を必要とするか否かも必要とさ
れる精度如何による。用途が厳しい時は垂直位ｔｆｔ測
定に加えて像面に長い狭い直線状４（ミ直線を取り付け
、蒔き込みビームがこの線を横切る瞬時の＋ｌｆｆ１　
Ｉ−Ｅ値又は時間値を記録することＯこより像面の水平
位置を一段と正確に測定せねはならない。Ｘ座標の高度
に正確な測定は第２図に関連して説明したことであるが
書き込みビームを））Ｊいてこのタイプの装置とＸ位Ｉ
Ｆｔ測定装置とを結合させることにより得られる。

本消明の一実施例は細条の高さが７つの画素分だ（１の
場合に得られる。この場合長さか像区域の１１１１ｄよ
りも大きな唯／本の水平スリット又は線（ライン）を用
いて４１ｊ直位１ａ測定をすることができる。

好適ｔ、Ｃ具体例は書き込みビームから基準ビームを分
割し、この基準ビームを長い水平スリット又はラインか
ら成るスケール上に落とす。スリットを透過する光ｌｉ
ｔ又はラインで反射される光量はスリット又はラインの
像と光ビームの相対位ｌｉ￥に依存する。この時偏向装
置ｉ’＃　、例えば音響−光検出装置Ｐ’ｔ　。

圧電鏡、検流計又はこれらに類する装置■を用いて光ビ
ームの指向方向を変え、スケールにより１ｇ４差を補正
し、書き込み時に正確な垂直位ｌ１１１ｔをイＩＩる。

この場合水平位置は同一基準ビーム又はもう一つの基準
ビームにより測定することができる。前者の場合は−ｎ
？　ｉＭ位置測定用の水＼ＩＬスリット又はラインから
成るスケールに若干のものを付加した構造にしなければ
ならない。この何カ１０１Ｘ座標に依存し、Ｘ位置測定
に利用される。このようなものの−例は短かい垂直線の
上に長い水平線を重ねて成るロンチ（Ｒｏｎｃｈｉ　）
−スケールである。水平測定と垂直測定とで別々の基準
ビームを用いる時は必要な２本のスケールの各々は組め
合わせスケールよりも構造が簡単になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の一具体例を示す説明用平ｌ′ｆＩ
図、第２図は水平スクールの一例の説明図、第３図は実
験室での研究に使用した装置ａの説明図、第グ閃は像面
が円筒状の場合の一例の説明図、第５図は像面をｉＦ面
にする一例の説明図である。 ａ、ｂ・・・細条、Ｓ工〜Ｓ４・・・細条す用のスリ゛
ント、ｈ・・・細条の高さ、Ｓａ〜ＳｄＩ　Ｌｌ　’　
Ｌ２・・・根本的調整用スリット又はライン、／・・・
レーザ、２・・・変調器、３・・・音響−光偏向装＋Ｒ
ｓ’ｌ・・・検流計鏡、！・・・収束１／ンズ、乙・・
・ビームスプリッタ、７・・・スケール、ｇ・・・水平
スケール、ワ・・・光検出器。 特許出願人　　エーロ・ビックリング

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　像面上に光ビームを用いて書き込みを行なうに当
   り光ビームを制御する方法であって、少なくとも７個の
   偏向器を用いて像面上で光ビームを偏向させ、像面の書
   き込す区域の近傍に位置する、ライン、例えばスリット
   を具えるスケールを用いて光ビームの位１ｄを測定する
   光ビームのｆｔ７ＩＪ御方法において、像面上での光ビ
   ームの瞬時位置を、少なくとも＆１−分的に最後の書き
   込み時に光ビームをスケールに沿って偏向させ、ライン
   の位置に依存する信号を得て求めることを特徴とする光
   ビームの制御方法。 ２　光ビームの偏向を７Ｌ子信号により制御するように
   し、書き込みに先立ってこの′電子ｆｍ号と位置の間の
   関係を光ビームを少なくとも１本のスケールラインに沿
   って動がし、これにより求められた？ＩＩ子信号と位１
   ？Ｊの関係を用いて書き込み時の光ビームの位置を決め
   ることにより較正するようにする特許請求の範囲第１項
   記載の光ビームの制御方法。 ３、　光ビームをほぼ一定の速度で偏向させ、少なくと
   もｌ不のスケールラインを光ビームが横切った瞬時から
   どれだ目の時間が経過し終ったかに基づいて光ビームの
   瞬時位置を知ることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の光ビームの制御方法。 ４、　像面の占き込みを一時に一本の細条毎に行ない、
   このような細条を互に隣接して十分なＷｌ、書き込むこ
   とにより全像面を充たし、各細条の書き込みを当該細条
   を掃引するように光ビームを偏向させて行ない、掃引の
   長さをほぼ細条の１ｌｌｌＡと同一とし、同時にこれよ
   りはゆっくりと光ビームを細条の長手方向に動かし、１
   １ａ　Ｆ＆する細条同士が正確に連結されることと細条
   の区域上での位１ｔｔ制御とを光ビームをスケールライ
   ンを横９ノって光ビームを偏向させ、ラインの位置に依
   存する（ｇ号を記録し、この信号を用いて掃引時に光ビ
   ームの変調を！１ｊＯ御囲第１項記載の光ビームの制御
   方法。 ５、　書き込み時に光学素子と像面とを壌に動がし、光
   学素子につ（Ｊらねているスクールと画面につけられて
   いるスケールとの１１１４１力を横切って光ビームを偏
   向させることにより、ＪＪ、に動くこれらの２個の座標
   系の間の関係を求め、この情報を用いて像面］二に落ち
   る徂き込みビームを制御し、ｆｌ：、シい位置に書き込
   みが行なわれるようにすることを特徴とする特ｒ（’Ｆ
   　Ｗｄ求の範囲第１項記載の光ビームの制御方法。 ６、　細条を横切る前記掃引をｔ扛子式にトリガし、上
   記細条の長手方向に沿っての書き込まれる画素の位置を
   ゆっくりとした万の偏向の大きさを測定し、このゆっく
   りとした方向の偏向が所要の距離進み終った瞬時にＨ（
   い方の偏向をトリガすることにより制御することを特徴
   とする特許請求の範囲第４項記載の光ビーム７、　細条
   を横りＪつて掃引するに当り、光ビームを変調させて画
   素を発生させ、画素の位１ａを光ビームの偏向のＪ＞ｔ
   と計算された値とを比較し、各１ｌｌＩＩ索の書き込み
   時間間隔を計算から得ら〕」だ時間間隔と一致させるよ
   うに同期をとることにより１ｌｉｌｌ　？ｉｌｌする特
   許請求の範囲第４項ＦＩＬ！蝦の光ビームのｉ曲ｊｉｌ
   ｔ方法。 ａ　各掃引時に光ビーノ、が少なくとも７個のスケ・−
   ルに落ちるようにし、これにより得られる当該掃引時の
   光ビームの位置についての情報を用いて位１ｉ’ｊ　！
   ｆｉ制御し、光ビームの変調をｉｌｊ制御して１ｌＩｌ
   ｉ素が正確に正しい位置に落ちるようにする特Ｎ’ｌ請
   求の範囲第４項記載の光ビームの制御方法。 ９　書き込みビームから７個又は若干個の基準ビームを
   分離し、書き込みビームに加λてこれらのノん準ビーム
   を用いてスケールによる位１Ｍ測定を行なうことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の光ビームの制御方法
   。 １０　　音響−光偏向器を月１いて細条を横切って光ビ
   ームの偏向を行なう特許請求の範囲第４拍記載の光ビー
   ムの制御方法。 ＩＬ　　各細条に向って光ビームを指向させることを光
   ビームをこの光ビームか所要の細条上に落ちるように回
   転させられである鏡で反射させることにより行ない、光
   ビームの位置の測定をこの回転する鏡から反射された光
   ビームを用いて行なう特許請求の範囲第４項記載の光ビ
   ームの制御方法。 １ｚ　　平面上に書き込みを行なうために、細条を選択
   するのに用いられる回転鏡の後段にｍ数個の平面鏡から
   成る鏡を設け、この鏡の各要素鏡上に一点を定め、光ビ
   ームがこの点に当ればその光ビームは平坦な像１ｒｌｉ
   　ｌに合焦するようにする特許請求の範囲第１１項記載
   の光ビームの制御方法。