JPS5834831A - 帯電防止性合成高分子樹脂成形品の製造方法 - Google Patents
帯電防止性合成高分子樹脂成形品の製造方法Info
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- JPS5834831A JPS5834831A JP13224481A JP13224481A JPS5834831A JP S5834831 A JPS5834831 A JP S5834831A JP 13224481 A JP13224481 A JP 13224481A JP 13224481 A JP13224481 A JP 13224481A JP S5834831 A JPS5834831 A JP S5834831A
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- Japan
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- polymer resin
- synthetic polymer
- resin molded
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は帯電防止性合成高分子樹脂成形品に関する。
従来、合成高分子樹脂成形品は一般にその製造が容易で
しかも安価に大量供給できること、電気絶縁性等の性質
にすぐれていることなどの連山から汎用材料・製品とし
て大量に使用書れている。
しかも安価に大量供給できること、電気絶縁性等の性質
にすぐれていることなどの連山から汎用材料・製品とし
て大量に使用書れている。
しかし、合成高分子樹脂成形品は一般に著しく帯電しや
すいため、はこり、じんあい等の付着により外観が汚れ
やすく、また蓄積した静電気による人体への影響（電撃
Ｖ璽ツク）、火花放電、あるいは電子回路材料において
のノイズ発生等の間層点を有している。
すいため、はこり、じんあい等の付着により外観が汚れ
やすく、また蓄積した静電気による人体への影響（電撃
Ｖ璽ツク）、火花放電、あるいは電子回路材料において
のノイズ発生等の間層点を有している。
この帯電（静電気の蓄積）を防止するための方法として
従来から種々の方法が試みられており、これには金属粉
末、カーボンブラック等の導電材料を添加する方法、界
面活性剤等の除電側を配合・塗布する方法、酸エツチン
グ等の薬品熟廻、火炎処理、活性線（電子線、紫外光、
放射線等）による表面グラフト反応等により表面に親水
性の官能基を導入する方法などがある。しかし、いずれ
の方法も十分な帯電防止効果を付与することができない
か、または付与することができたとしても他方で元の合
成高分子樹脂成形品のバルク特性を著しく変質させてし
まうという欠点があり、満足されるべき方法は提案され
ていない。
従来から種々の方法が試みられており、これには金属粉
末、カーボンブラック等の導電材料を添加する方法、界
面活性剤等の除電側を配合・塗布する方法、酸エツチン
グ等の薬品熟廻、火炎処理、活性線（電子線、紫外光、
放射線等）による表面グラフト反応等により表面に親水
性の官能基を導入する方法などがある。しかし、いずれ
の方法も十分な帯電防止効果を付与することができない
か、または付与することができたとしても他方で元の合
成高分子樹脂成形品のバルク特性を著しく変質させてし
まうという欠点があり、満足されるべき方法は提案され
ていない。
本発明者らはこのような観点から合成樹脂成形品の表面
を低温プラズマ処理する方法について広く研究を行った
ところ、分子内にＣ−Ｃ１または０−Ｆ結合をもたない
合成高分子樹脂成形品については、これを分子内に８ｌ
−Ｘ（Ｘはへロゲン）結合を有する有機けい素化合物の
低温プラズマで処理することにより、その樹脂成形品の
バルク特性を変えるとｉなく、それに耐久性・持久性に
すぐれた十分な帯電防止性の効果を付与することができ
ることを確認し、本発明を完成した。
を低温プラズマ処理する方法について広く研究を行った
ところ、分子内にＣ−Ｃ１または０−Ｆ結合をもたない
合成高分子樹脂成形品については、これを分子内に８ｌ
−Ｘ（Ｘはへロゲン）結合を有する有機けい素化合物の
低温プラズマで処理することにより、その樹脂成形品の
バルク特性を変えるとｉなく、それに耐久性・持久性に
すぐれた十分な帯電防止性の効果を付与することができ
ることを確認し、本発明を完成した。
以下本発明の詳細な説明する。
まず本発明で対象とされる合成高分子樹脂成形品は、そ
の合成高分子樹脂が分子内に０−ＯＸまたはＯ−Ｆ結合
をもたないものであり（したがって撫化ビニル系樹脂お
よびフッ素系樹脂等は本発明では対象外とされる）、こ
れには低圧、中圧、高圧のポリエチレン、ボップロピレ
ン、ポリスチレン、飽和もしくは不飽和のポリエステル
、ビニロン、ポリアセテニド、ボッスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ボッアミド（
ナイロン６、ナイロン１２など）、ボリア亀トイミド、
ポリビニルアルコール、ポリアクツル、ポリメタクリル
、アクツロニトツルステレｙ共重合体、アクリロニトツ
ルブタジエンスチレｙ共重合体、エチレン酢酸ビニル共
重合体、エリア樹脂、メラミン樹脂、シリコ−ｙ樹脂、
ポリフエエレンオキチイド、ポリアラレート、ポツパラ
キＶレン、ポリフェノール、エポキシ樹脂、ポリジアヲ
ルツタレート、さらにはそれらのブロック共重合体、グ
ラフト共重合体、異種高分子樹脂混合体が例示される。
の合成高分子樹脂が分子内に０−ＯＸまたはＯ−Ｆ結合
をもたないものであり（したがって撫化ビニル系樹脂お
よびフッ素系樹脂等は本発明では対象外とされる）、こ
れには低圧、中圧、高圧のポリエチレン、ボップロピレ
ン、ポリスチレン、飽和もしくは不飽和のポリエステル
、ビニロン、ポリアセテニド、ボッスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ボッアミド（
ナイロン６、ナイロン１２など）、ボリア亀トイミド、
ポリビニルアルコール、ポリアクツル、ポリメタクリル
、アクツロニトツルステレｙ共重合体、アクリロニトツ
ルブタジエンスチレｙ共重合体、エチレン酢酸ビニル共
重合体、エリア樹脂、メラミン樹脂、シリコ−ｙ樹脂、
ポリフエエレンオキチイド、ポリアラレート、ポツパラ
キＶレン、ポリフェノール、エポキシ樹脂、ポリジアヲ
ルツタレート、さらにはそれらのブロック共重合体、グ
ラフト共重合体、異種高分子樹脂混合体が例示される。
以上記述した合成高分子樹脂を用いて成形品を製造する
に当り、各種配合剤、添加剤あるいは加工助剤等が適宜
配合されることは差支えなく、これには例えば可塑剤、
安定剤、滑剤、充てん剤、増量剤、顔料、染料、耐熱剤
、難燃剤、抗酸化剤、光吸収剤、界面活性剤、架橋剤、
防曇剤、防湿剤、弾性崗上剤等があげられる。成形方法
はキャスティング法、溶融押出法、カレンダー法、延伸
法、圧縮法等従来各々の高分子樹脂の成形で採用されて
いる成形手段によればよく、成形品のＭｔＲ１形状につ
いては特に制限はない。なお、この成形品は、適宜、熱
処理、延伸処理、収縮処理、架橋、ナンドプラスト、コ
ロナ放電、溶剤処理、活性線処理等の２次的加工が施さ
れていてもよく、これにより本発明の効果に悪影響を受
けることはない。
に当り、各種配合剤、添加剤あるいは加工助剤等が適宜
配合されることは差支えなく、これには例えば可塑剤、
安定剤、滑剤、充てん剤、増量剤、顔料、染料、耐熱剤
、難燃剤、抗酸化剤、光吸収剤、界面活性剤、架橋剤、
防曇剤、防湿剤、弾性崗上剤等があげられる。成形方法
はキャスティング法、溶融押出法、カレンダー法、延伸
法、圧縮法等従来各々の高分子樹脂の成形で採用されて
いる成形手段によればよく、成形品のＭｔＲ１形状につ
いては特に制限はない。なお、この成形品は、適宜、熱
処理、延伸処理、収縮処理、架橋、ナンドプラスト、コ
ロナ放電、溶剤処理、活性線処理等の２次的加工が施さ
れていてもよく、これにより本発明の効果に悪影響を受
けることはない。
本発明は上記合成高分子樹脂成形品の表面を有機けい素
化合物の低温プラズマで処理することにより、この成形
品の表面特性を改質し、耐久性、持続性にすぐれた帯電
防止性を付与するものであるが、こうした効果を得るた
めには該有機けい素化合物は分子内に８ｌ−Ｘ（Ｘはへ
ロゲン）結合を有するものであることが必要とされる。
化合物の低温プラズマで処理することにより、この成形
品の表面特性を改質し、耐久性、持続性にすぐれた帯電
防止性を付与するものであるが、こうした効果を得るた
めには該有機けい素化合物は分子内に８ｌ−Ｘ（Ｘはへ
ロゲン）結合を有するものであることが必要とされる。
このような有機けい素化合物としてはジ＾イドロジエン
／？ルグロロνラン、七ノへイドロジエｙジメチルクロ
ロＶラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルエチルク
ロロシ９’ｓフエエルジノテルクロロνラン、トリエチ
ルタロロシラン、ビニ＃ジエチルクロロシラン、トラ（
２−プロペニル）クロロシラン、２，４．４−）ツメチ
ル−２−タロロース４−ジＶラペｙタン、クロロノテル
ジメチルグロ口νラン、ジ（クロロメチル）メチルクロ
ジシラン、トリクロロメチルジメチルメチルクロ゛口ν
ラン、トリクロロメチルジメチルクロロシラン、トリメ
チルフルオロシラン、ジメチルエチルフルオロシラｙ、
）リメチルブロ七Ｖうｙ、ジメチルエチルブロモＶラン
、七ノへイドロジエｙメチルジクロロシラン、エテルジ
クｃＩＷｉ／ラン、フェニルジクロロシラン、４−クロ
ロフェニルジクロロシラン、ジメチルジクロａＶラン、
メチルエチルジクロロＶラン、ビニルメチルジクロロシ
ラン、ジビニルジク′ｃｒｒ０１シラン、２．２−ｔ／
メチル−４，４−ジクロロ−＆４−ジシラペンタン、フ
ェニルメチルジフルオａシラン、ジメチルジブロモシラ
ン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン
、ビニルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン
、１−メチルビニルトリクロロシラン、２−クロロビニ
ルトリクロロシラン、２．２−ジクロロエチルトリクロ
ロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモ
シラン、ジメチルフルオロクロロンラン、メチルフルオ
ロジクロロシラｙなどが例示される。なお、工業的には
Ｓｉ −Ｏ１結合を有するものを使用することが好まし
い。
／？ルグロロνラン、七ノへイドロジエｙジメチルクロ
ロＶラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルエチルク
ロロシ９’ｓフエエルジノテルクロロνラン、トリエチ
ルタロロシラン、ビニ＃ジエチルクロロシラン、トラ（
２−プロペニル）クロロシラン、２，４．４−）ツメチ
ル−２−タロロース４−ジＶラペｙタン、クロロノテル
ジメチルグロ口νラン、ジ（クロロメチル）メチルクロ
ジシラン、トリクロロメチルジメチルメチルクロ゛口ν
ラン、トリクロロメチルジメチルクロロシラン、トリメ
チルフルオロシラン、ジメチルエチルフルオロシラｙ、
）リメチルブロ七Ｖうｙ、ジメチルエチルブロモＶラン
、七ノへイドロジエｙメチルジクロロシラン、エテルジ
クｃＩＷｉ／ラン、フェニルジクロロシラン、４−クロ
ロフェニルジクロロシラン、ジメチルジクロａＶラン、
メチルエチルジクロロＶラン、ビニルメチルジクロロシ
ラン、ジビニルジク′ｃｒｒ０１シラン、２．２−ｔ／
メチル−４，４−ジクロロ−＆４−ジシラペンタン、フ
ェニルメチルジフルオａシラン、ジメチルジブロモシラ
ン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン
、ビニルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン
、１−メチルビニルトリクロロシラン、２−クロロビニ
ルトリクロロシラン、２．２−ジクロロエチルトリクロ
ロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモ
シラン、ジメチルフルオロクロロンラン、メチルフルオ
ロジクロロシラｙなどが例示される。なお、工業的には
Ｓｉ −Ｏ１結合を有するものを使用することが好まし
い。
低温プラズマ処理の方法は、低温プラズマ発生装置内に
合成高分子樹脂成形品を装入し、この装置内に前記有機
けい素化合物のガスを流通させながら装置内を望ましく
は１０）ル以下の圧力に調整保持し、このガス圧力下に
低温プラズマを発生法により行われる。なお、この有機
けい素化合物と共にヘヲクム、アルゴン等の不活性ガス
、窒素、酸素、突気、水票、水蒸気、二酸化！Ｒ票、−
酸化炭素等の無機ガス、有機妙い素化合物以外の有機化
合物ガスを共存させてもよい。
合成高分子樹脂成形品を装入し、この装置内に前記有機
けい素化合物のガスを流通させながら装置内を望ましく
は１０）ル以下の圧力に調整保持し、このガス圧力下に
低温プラズマを発生法により行われる。なお、この有機
けい素化合物と共にヘヲクム、アルゴン等の不活性ガス
、窒素、酸素、突気、水票、水蒸気、二酸化！Ｒ票、−
酸化炭素等の無機ガス、有機妙い素化合物以外の有機化
合物ガスを共存させてもよい。
上記処理方法において、有機けい素化合物の装置内にお
ける圧力が１０）ル以上であると、帯電防止性にすぐれ
た処理成形品を得ることが困難となるので、この低湿プ
ラズマのガス圧力は１０）ル以下であることがよく、特
にはＩＡ−０，００５トルの範囲であることが望ましい
。このガス圧力における低温プラズマ処理ですぐれた帯
電防止性が付与されるが、ガス圧力が１０）ル以上に高
くなると、帯電防止性が急激に減少する（表面抵抗性の
増大をともなう）ようになる現象は、従来のプラズマ重
合、プラズマ重合運で得られた知見からは全（予想し得
ないことである。
ける圧力が１０）ル以上であると、帯電防止性にすぐれ
た処理成形品を得ることが困難となるので、この低湿プ
ラズマのガス圧力は１０）ル以下であることがよく、特
にはＩＡ−０，００５トルの範囲であることが望ましい
。このガス圧力における低温プラズマ処理ですぐれた帯
電防止性が付与されるが、ガス圧力が１０）ル以上に高
くなると、帯電防止性が急激に減少する（表面抵抗性の
増大をともなう）ようになる現象は、従来のプラズマ重
合、プラズマ重合運で得られた知見からは全（予想し得
ないことである。
低温プラズマを発生させる条件としては、例えば電極に
数ＫＨ１〜数百ＭＨｚ、数ｗ Ａ−数百ＫＷ１７）電力
を印加すればよく、内部電極、外部電極（無電極）のい
ずれの方式を使用してもよい。また、放電の種１ｆ（グ
ロー放電、コロナ放電等）にかかわらず十分な改質効果
が得られる。プラズマ処理時間は印加電力等によっても
相違するが、一般には数秒〜数十分で十分である。
数ＫＨ１〜数百ＭＨｚ、数ｗ Ａ−数百ＫＷ１７）電力
を印加すればよく、内部電極、外部電極（無電極）のい
ずれの方式を使用してもよい。また、放電の種１ｆ（グ
ロー放電、コロナ放電等）にかかわらず十分な改質効果
が得られる。プラズマ処理時間は印加電力等によっても
相違するが、一般には数秒〜数十分で十分である。
なお、低温プラズマ処理に当って、有機けい素化合物は
その２種以上を混合または併用して差支えな（、場合に
よって相乗効果を期待できることもある。また、合成高
分子樹脂成形品に帯電防止性だけでなく、それ以外の特
性をも付与するために、有機けい素化合物に他の有機化
合物および／または前記した無機ガス・を混合または併
用することは有効であり、これによれば耐久性、持続性
にすぐれた良好な帯電防止性（表面抵抗性の減少）が付
与されるのみならず、ぬれ性、接着性、印刷性、耐摩耗
性、離型性、耐熱性、耐水性、耐移行性勢も付与される
という利点が与えられる。
その２種以上を混合または併用して差支えな（、場合に
よって相乗効果を期待できることもある。また、合成高
分子樹脂成形品に帯電防止性だけでなく、それ以外の特
性をも付与するために、有機けい素化合物に他の有機化
合物および／または前記した無機ガス・を混合または併
用することは有効であり、これによれば耐久性、持続性
にすぐれた良好な帯電防止性（表面抵抗性の減少）が付
与されるのみならず、ぬれ性、接着性、印刷性、耐摩耗
性、離型性、耐熱性、耐水性、耐移行性勢も付与される
という利点が与えられる。
つぎに具体的実施例をあげる。
実施例 １
表−１に示す各合成高分子樹脂シートをプラズマ発止装
置内にセットし、装置内を１０”−”）ルまで減圧にし
た後、大気を導入し、大気流通下装置内を０．０７トル
にＩＩＩＩＩＬ、その後トラメチルクロロシラン蒸気を
導入して、流通大気と混合しつつ、大気分圧を０．０テ
トル、ト５メチルク四ロシラン分圧を０．ｌトルに調整
保持後、１１！１４１Ｍ１！ｓ、ｌＫＷの高周波電力を
与えて低温プラズマを発生させ、シートを１分間処理し
た。このようにして処理したシートおよびプラズマ魁運
を行わなかったり−Ｆについて表面固有抵抗値（ＩＩＩ
羞）、摩擦帯電圧（※鵞）を測定し、帯電防止性を評価
した。結果は表−１に示すとおりであった。
置内にセットし、装置内を１０”−”）ルまで減圧にし
た後、大気を導入し、大気流通下装置内を０．０７トル
にＩＩＩＩＩＬ、その後トラメチルクロロシラン蒸気を
導入して、流通大気と混合しつつ、大気分圧を０．０テ
トル、ト５メチルク四ロシラン分圧を０．ｌトルに調整
保持後、１１！１４１Ｍ１！ｓ、ｌＫＷの高周波電力を
与えて低温プラズマを発生させ、シートを１分間処理し
た。このようにして処理したシートおよびプラズマ魁運
を行わなかったり−Ｆについて表面固有抵抗値（ＩＩＩ
羞）、摩擦帯電圧（※鵞）を測定し、帯電防止性を評価
した。結果は表−１に示すとおりであった。
（＊１）東亜電波工業（株）製８Ｍ−１１５１により測
定（ｏｈｍ） （豪３）興亜商会製ロータリースタティックテスターに
より測定（ｖｏ ｌ ｔ）条件：木綿布、２００ｊ’ｌ
奮、？１５０ｒｐ墓、６０秒 １１− 実施例 ２ 表−２に示す各合成高分子樹脂板をプラズマ発止装置内
に々ットし、装置内を１０””’まで減圧にした後アル
ゴンガスを導入し、ガス流通下装置内を０．ｌトルに調
整し、その後クロロメチルジメチルクロロシラン蒸気を
導入して流通アルゴンガスと混合しつ９アルゴン分圧を
Ｑ、１）ル一定とし、１１０ＫＨｚＢＩＣマの高周波電
力を与えて低温プラズマを発止させ板を３０秒間処理し
た。このようにして処理した各板について実験雇ｌと同
様に物性を測定したところ、結果は表−２に示すとおり
であった。
定（ｏｈｍ） （豪３）興亜商会製ロータリースタティックテスターに
より測定（ｖｏ ｌ ｔ）条件：木綿布、２００ｊ’ｌ
奮、？１５０ｒｐ墓、６０秒 １１− 実施例 ２ 表−２に示す各合成高分子樹脂板をプラズマ発止装置内
に々ットし、装置内を１０””’まで減圧にした後アル
ゴンガスを導入し、ガス流通下装置内を０．ｌトルに調
整し、その後クロロメチルジメチルクロロシラン蒸気を
導入して流通アルゴンガスと混合しつ９アルゴン分圧を
Ｑ、１）ル一定とし、１１０ＫＨｚＢＩＣマの高周波電
力を与えて低温プラズマを発止させ板を３０秒間処理し
た。このようにして処理した各板について実験雇ｌと同
様に物性を測定したところ、結果は表−２に示すとおり
であった。
実施例 ３
表−３に示す各合成高分子樹脂フィルムをプラズマ発生
装置内にセットし、ｉ！！置内を１０””” ）ルまで
減圧にした後メチルトリクロロνうｙガスを導入し、系
内を０．０８）ルに関整保持後１３．！＄ ６Ｍ１ｆｚ
２００Ｗの高周波電力を与えて低温グツズを測定したと
ころ、結果は表−３に示すとおりであった。
装置内にセットし、ｉ！！置内を１０””” ）ルまで
減圧にした後メチルトリクロロνうｙガスを導入し、系
内を０．０８）ルに関整保持後１３．！＄ ６Ｍ１ｆｚ
２００Ｗの高周波電力を与えて低温グツズを測定したと
ころ、結果は表−３に示すとおりであった。
実施例 ４
表−４に示す各合成高分子樹脂フィルムをプラズマ発生
装置内にセットし、装置内を１０−”）ルまで減圧にし
た後、窒素ガスを導入し、ガス流通下装置内を０．０５
）ルにＩＩＩＥＬ、その後ビニルジメチルクロロνうｙ
ガスを導入し、流通窒素ガスと混合しつつ窒素分圧を０
．０！ｌ）ル、ビニルジメチルクロロシラン分圧を０．
０！Ｓ）ルにｉｎｎ持後１３．５６ＭＨｚｌＯＯＷの高
周波電力を与えて低温プラズマを発生させフィルムを５
分間４６Ｉｌシた。
装置内にセットし、装置内を１０−”）ルまで減圧にし
た後、窒素ガスを導入し、ガス流通下装置内を０．０５
）ルにＩＩＩＥＬ、その後ビニルジメチルクロロνうｙ
ガスを導入し、流通窒素ガスと混合しつつ窒素分圧を０
．０！ｌ）ル、ビニルジメチルクロロシラン分圧を０．
０！Ｓ）ルにｉｎｎ持後１３．５６ＭＨｚｌＯＯＷの高
周波電力を与えて低温プラズマを発生させフィルムを５
分間４６Ｉｌシた。
このようにして熟珊したフィルムを実験４１と同様にし
て物性を測定したところ、結果は表−４に示すとおりで
あった。
て物性を測定したところ、結果は表−４に示すとおりで
あった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 分子内にＣ−０１またはＯ−Ｆ結合をもたない合成
高分子樹脂成形品の表面を、分子内に８ｌ−Ｘ（Ｘはへ
ロゲン）結合を有する有機け％ｆ１素化合物の低温プラ
ズマで処理してなる帯電防止性合成高分子樹脂成形品 ｉ 前記ＸがＯｌである特許請求の範囲第１項記載の帯
電防止性合成高分子樹脂成形品
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13224481A JPS5834831A (ja) | 1981-08-24 | 1981-08-24 | 帯電防止性合成高分子樹脂成形品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13224481A JPS5834831A (ja) | 1981-08-24 | 1981-08-24 | 帯電防止性合成高分子樹脂成形品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834831A true JPS5834831A (ja) | 1983-03-01 |
| JPH0148934B2 JPH0148934B2 (ja) | 1989-10-23 |
Family
ID=15076731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13224481A Granted JPS5834831A (ja) | 1981-08-24 | 1981-08-24 | 帯電防止性合成高分子樹脂成形品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834831A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4777237B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2011-09-21 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 低吸塵性を有するポリカーボネート成形部品 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7237602B2 (ja) * | 2019-01-18 | 2023-03-13 | 文化シヤッター株式会社 | 開閉制御システム及び開閉制御方法 |
-
1981
- 1981-08-24 JP JP13224481A patent/JPS5834831A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4777237B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2011-09-21 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 低吸塵性を有するポリカーボネート成形部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0148934B2 (ja) | 1989-10-23 |
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