JPS5834904A - コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜 - Google Patents

コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜

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Publication number
JPS5834904A
JPS5834904A JP56133574A JP13357481A JPS5834904A JP S5834904 A JPS5834904 A JP S5834904A JP 56133574 A JP56133574 A JP 56133574A JP 13357481 A JP13357481 A JP 13357481A JP S5834904 A JPS5834904 A JP S5834904A
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JP
Japan
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garnet
bubble
film
melt
garnet film
Prior art date
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Pending
Application number
JP56133574A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Okada
修 岡田
Hiroshi Makino
牧野 弘史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Computer Basic Technology Research Association Corp
Original Assignee
Computer Basic Technology Research Association Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Computer Basic Technology Research Association Corp filed Critical Computer Basic Technology Research Association Corp
Priority to JP56133574A priority Critical patent/JPS5834904A/ja
Publication of JPS5834904A publication Critical patent/JPS5834904A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
    • H01F41/28Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids by liquid phase epitaxy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はコンティギュアス・ディスク磁気バブルメモリ
素子(以下CDバブル素子と記す)用液相エピタキシャ
ル(以下LPEと記す)ガーネット膜に関する。
CDバブル素子は、従来の不連続なパーマロイパターン
等により構成された、いわゆるパーマロイバブル素子と
異なり、ニー・アイ・ピー・コンファレンス争フロシー
デインダス(AIP Confproc、 ) 10号
339ページ(1973年)に示されているごとく、数
珠玉状に連続したパターンを用いて、チャーシト会ウオ
ールによってバブルt−駆動さ゛せてメモリ動作tさせ
ようとする新方式のバブルメモリ素子である。
これまでのCDバブル素子用LPEガーネット膜におい
ては、ジャーナルφオブ・アプライド・フィジックス(
J −APPI 、Phys+、) sg 50 巻第
3号2258ページ(1979年)に示されているよう
K、結晶面内方向に対するパターンループ方向により、
マージンに大きな差があられれた。またアイ・イー・イ
ー・イー・トランザクシ謬ンズ・オン・マグネティクス
(Ih:EE Trans 、Mag)第MAG14巻
494ページ(1978年)に述べられているように、
転送可能な最小回転磁界Hr■の大きさは、イオン注入
層の有効結晶磁気異方性磁場Hic1により制限されて
いた。HKIは3./2thαcal”αlK+I/M
a  とあられされる。ここでαは、磁化の膜面内方向
からのたちあがり角度で、材料特性及びイオン注入条件
により定まる。したがりて、αが一定で、磁化Msが一
定であれば、H幻は立方対称結晶磁気異方性定数KKに
比例する。K1はガーネットの構成元素により定まる亀
のであるから、ガーネット膜の構成元素比を定めること
によ)、必然的K K I が定tb、またHKIが固
定されてし壕っていた。ガーネットのKlは通常負であ
り、鉄元素を置換するガリウム又はゲルマニウム又はシ
リコン元素の比率を少なくした場合、あるいはまた、希
土類元素としてサマリウム、エーロピウムなどを多く用
いたCDバブル素子の場合には、lK11が大きくなる
ため、結晶面内方向く対するパターンループ方向による
転送マージンの差が着るしくなり、また最小回転磁界H
1m1gが上昇する欠点がありた。
本発明の目的は、前記従来の欠点を解決するため、CD
バブル素子用LPEガーネット属の立方対称結晶磁気異
方性定数1K11 t、他の磁気特性音はとんど変化さ
せることなしに、小さくしたガーネット膜に関するもの
である。
この目的を達成するために、本発明者らはCDバブル素
子用LPEガーネットの16&位置に、Co2′+を微
量添加することによシ可能であることt見い出した。こ
れによ如、K1 は正の方向tIC11!るしく変化す
るのでガーネットの亀のに+ を小さくすゐことができ
る。
ガーネット中のコバルトイオンは2価状態(Co”)、
マ九は3価状1(Co”)t−とりうるので、Fe” 
’1ico2+に置換するにあたシ、ガリウム系、アル
ミニウム系あるいはスカンジウム系あるいはその複合系
ガーネットにおいては、チャージ1コンペンセイシ璽ン
を行5j5.Ge” 。
Si”、Ti4++ Zr’+などの4価イオンの少な
くとも1種を同時K11ll換する必要がある。またC
a−G・系ガーネットにおいては、たとえば以下に示す
ような方法によって、コバルトイオンの価数を制御しな
ければならない。第1表に示すような組成の融液に、第
2表のようにコバルト酸化物上添加していった融液から
成長させたLPEガーネット膜のに1の測定結果を菖1
図に示す。
920℃以上の温度で成長させた場合には、融液番号l
と比較して、融液番号2が、さらに融液番号3が、さら
K、42氏6が、INK、より小さな1K11の値にな
っている。これが、16m位置に入ったCo”O効果で
ある。このと亀、成長温度Tg 935℃ では飽和磁
化4πMgは710gausi。
Tg 920℃では4rMmは6501auam、  
l軸磁気異方性定数KuはTg935℃では約2500
0erg / j 、 T1920 Cでは約3300
0 erg/dで、コバルト置換による変化は観測され
なかった。
1111表の組成では[CaCOm)/ ([:CaC
0a:] 十[Ge0z’))Oモル比(Riパラメー
タ)が0.13であるが、Riパラメータが0.23の
場合には、ガーネット膜中にはCo”+は少ししか置換
されなかった。またRiバラメーメが0.13より小さ
い場合にはCo”十が多く置換された。このようにして
、融液中のCa量とGe量の比と成長温度を選択するこ
とにより、Ca−G・系LPEガーネット膜においても
Co”t16a位置に置換して、Klを、他の4KMs
 、 Kuなどと独立に制御することがまた。Ca−8
i系及びCa−Ge−8t系ガーネツト膜においても、
同様にして16a位置にCo Z+を置換することがで
きた。
一方、コバルトイオンを置換していった場合には、抗磁
力Hcが増大してゆくために、多く置換しすぎた場合に
は、よい転送マージンが得られない。との点からはコバ
ルトの置換量をなるぺ〈少々く選択し喪方がよい。CD
バブル素子用ガーネットのIKIIt減少させるために
は、その膜組成によりても多少異なるが、いずれにして
も、1分子式量あたり、0.02で十分であったので、
16&位置に入れるCo”+の量は、0.02以下に制
限される。
以下実施例を用いて詳細に説明する。
実施例I Ca ass Sm o、ss Lutye B i 
aa Feo4m Geo、si 012の組成をもち
、t = 0.11μm、4πM @−690g Ku
 a B rKu = 55000erg /−の磁気
特性をもつバブル保持層ガーネット膜をあらかじめ0.
85μm 成長させておいた(111)  Gd s 
Gl+ Oss基板を、第1表に示す組成の原料に第2
表の融液番号2に示す量だけコバルト酸化物を添加した
融液中に935℃で浸漬し、1分30秒間のエピタキシ
ャル成長を行りたとζろ、下記の特性tもつCao、*
oGdo、・暴am OJ@ Tm oss Feas
ts C06JOI G@ rums Oss膜を第2
層としてもつ二重エピタキシャルiat得た。
第2層の膜厚は0.4μm+ 4 ’M I =710
 g& u II * Ku= 25040 erg 
/j 、Kl= −5800erg / cdであった
。これに加速エネルギー120に@Vで、2X1011
/−のH・+イオン注入を行い、4μm周期円形コンテ
ィギ、アス・パターン膜面のグツドループ転送マージン
を測定したところ第2図曲4121のようなマージン曲
線を得た。参考例として、上記バブル保持層の上K11
1表に示す組成の原料に第2表融液番号1に示すように
CO2+をふく壕ない融液から935℃で1分30秒間
のエピタキシャル成長を行り九膜(112層膜の特性は
膜厚0.4μm、 4@Mg = 720gauss 
、 Ku = 25400・rg/j 、に1=−64
90erg/j でありた)に120Keマ、 2 X
 10”/ aj H・+イオン注入を行つた場合のグ
ツドループ転送マージン曲線22’に同時に示す。第2
図よりあきらかなようにコバルト置換によるlK11低
下によってHrmf約70e低下させることができた。
III表   原料組成 8mzOm     O,062gr GdxOm     0.426  grTm*Ox 
    1.292  grCaCOs     O,
364gr G・02     2.554  grF・203  
 18.76   grPbo     178.6 
   grB2ss      3.570  grl
       0     Hr 2      0.037   Hr 3      0.075   Hr 4     0.150   Hr 5      0.225   Hr 6      0.450   gr 実施例2 第1表に示す組成の原料に、第2表、融液番号6に示す
ようにコバルト酸化物を添加した融液で、実施例IK示
したものと同様のバブル保持層をもつ基板を93!F:
で浸漬し、1分30秒間のエピタキシャル成長1行りた
とζろ下記の特性をもつCa (1,4@ Gd o*
18mg1.1 Tm us F@  oss  CO
@JIG@ o、uOu膜を得た。膜厚は0.4μm、
4πMm== 710 gauge。
Ku =  23500 erg/d 、 K1−−6
00 erg/aj。
これK 120Kev 、 H@” 2X 10”/a
i ナルイ#ン注入を行い、スーパー・パッドルーフ、
グツド・ループの転送マージンを測定したところ、第3
図の32.33に示すように転送が改善される効果があ
った。比較データとして、コバルトをふくまないドライ
ブ層をもつ場合のスーパー・バッドループ転送マージ7
曲@31t−同時に示す。(材料パラメータは実施例1
の参考例と同一である。)実施例3 第1表に示す組成の原料に、IIEZ表、融液番号4に
示すように、コバルト酸化物を添加した二重1[cDバ
ブル素子を作成した。ドライブ層のKl’=−3970
・rg/j、  他の材料パラメータは実施例1と同様
であった。C62+置換によるlK11低下の効果によ
り、Hr−は約100・だけCO2+會ふくまない場合
に比較して低下した。転送マージンの異方性も減少する
効果があった。
実施例4 第1表に示す組成の原料に、第2表融液番号5に示すよ
うにコバルト酸化物を添加した融液で二重膜CDバブル
素子を作成した。ドライブ層のKl = −2910e
rg /−他の材料パラメータは実施例1と同様であっ
た。CO2+添加によるKl低下の効果によりHr−は
約120・だけCg 2+をふくまない場合に比較して
低下した。転送マージンの異方性も減少する効果があっ
た。
実施例5 (jo、5Yo1i Smo、txLutAs Bl 
o、s F@a、aG@ o、5olzなる組成の単層
膜CDバブル素子において、Co2+t16a位置KO
,005モル/分子式量置換したところ、Hrl、&I
 f約1000 減少させる効果があっ九。転送マージ
ンの異方性に関しても改善効果がみられた。
実施例6 Smo、s4TmLls Bi (L40 Fe 44
1 GauxCoonosGeO,OOIolmなる組
成のLPEガーネット膜を用いて単層膜CDバブル素子
を作成した。Co針置換により、Hrslll を約8
0・減少させゐ効果がありた。
転送マージンの異方性に関しても改養効来があった。
以上のようK、本発明は、CDバブル素子用LPEガー
ネット膜において、ガーネットの161位置く、CO1
+ f置換することKより、他の材料バツメーメC4K
MmTKuなど)をほとんど変化させずK、ガーネット
の立方対称結晶磁気異方性定数IKt I t−減少さ
せ、これKよって、転送マージンの最小回転磁界Hr―
 を減少させ、また転送の異方性の軽減をはかシ、CD
バブル素子の性能向上をもたらすものである。
【図面の簡単な説明】
jlllEFica−Go系LPEガーネット属の立方
対称結晶磁気異方性定数Klの成長温度依存性七本す図
の1例である。 図中の番号は菖2表の融液番号に対応し、#線1はコバ
ル)を融液中にふくまない場合、2〜6はふくむ場合で
ある。 成長温度が920℃以上では、コバルトの添加にしたが
い、顕著KIKllが減少することを示す。 第2図は、コバルトの置換により、最小回転磁界Hr―
 が減少したことを示す図の1例である。 番号21はコバルトをふくむ場合、番号22はコバルト
をふくまない場合である。 第3図はコバルトを置換することにより、転送の異方性
が減少したことを示す図の1例である。 番号31はコバル)tふくまない場合のスーパー−バッ
ドループマージン曲線であり、番号32゜33はコパル
)t−ふくむ場合のスーパーφバッドループマージン曲
線、グツド・ループマージン曲11t−それぞれ示す。 ′#、2図 鴇1図 八、&温度 第3図 虎 回転棋界

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ガーネットの16&位置にガーネット1分子式量あたり
    0.002〜0.02モルのC02+を含むことを特徴
    とするコンティギュアス拳ディスク磁気ノ(プルメモリ
    素子用ガーネット膜。
JP56133574A 1981-08-26 1981-08-26 コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜 Pending JPS5834904A (ja)

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JP56133574A JPS5834904A (ja) 1981-08-26 1981-08-26 コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜

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JP56133574A JPS5834904A (ja) 1981-08-26 1981-08-26 コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜

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JPS5834904A true JPS5834904A (ja) 1983-03-01

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JP56133574A Pending JPS5834904A (ja) 1981-08-26 1981-08-26 コンテイギユアス・デイスク磁気バブル素子用ガ−ネツト膜

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5478685A (en) * 1993-04-02 1995-12-26 Fuji Electric Co., Ltd. Photoconductor for electrophotography

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5555503A (en) * 1978-10-18 1980-04-23 Hitachi Ltd Garnet film for magnetic bubble element
JPS5659695A (en) * 1979-10-22 1981-05-23 Nec Corp Manufacture of oxide epitaxial film

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