JPS5838272A - テトラアザアヌレン誘導体の製造方法 - Google Patents

テトラアザアヌレン誘導体の製造方法

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JPS5838272A
JPS5838272A JP13631481A JP13631481A JPS5838272A JP S5838272 A JPS5838272 A JP S5838272A JP 13631481 A JP13631481 A JP 13631481A JP 13631481 A JP13631481 A JP 13631481A JP S5838272 A JPS5838272 A JP S5838272A
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aryl
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Hiroyasu Akashi
明石 景泰
Nobuhiko Suga
菅 伸彦
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Asahi Kasei Corp
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Asahi Kasei Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、そ0金属錯体が色素として、或いは酸化還元
触媒又は有機導電材料として有用である。
一般式(釦で表わされる/、I−ジヒドロジベンズ〔b
、l][へダ、r、/l]テトラアザシクロデセン類(
以下TAA類と略記する。)の合成法に関する。
〔但し、式中R1はアルキル基、シクロアルキル基(こ
れらのアルキル基、シクロアルキル基は一アリール基、
カルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、アシルオキシ基、シアノ基で置換さ
れていてもよい。)、アリール基、(この基はハロゲン
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ジアルキルア
ミ7基、アシルアミ7基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基で置換されていてもよい。)を意味し、X、 、X、
は同−又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、アルフキジカルボニル
基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ
基、カルバモイル基を意味する。〕 /J−ジヒドロジベンズ[b、i][へダ、L//〕テ
トラアザンクロテトラデセン類、その中でも、!、7、
/2.111位の置換基が水素原子であるものは、ポル
フィリンや7タロシアニンと類似の構造をもち、広い応
用の期待できる化合物である。さらに中でも、乙、73
位の置換した誘導体は、安定性が高く重要である。
6.73位置換体の合成法としては、l)プライトハイ
マー等により、ヘミツシエサイトング99巻、17頁に
報告されているβ−アルコキシ−α−アルキルアクロレ
インとオルトフェニレンジアミン類と反応させる方法、
およびコ)西日らにより報告されているジャーナル・オ
プ・コープイネ−ジョンケミストリー9巻の767頁に
報告されている弘−アリールへコージチオリウム塩とオ
ルトフェニレンジアミンを反応させる方法の2つの方法
が知られている。しかしながら、これらの方法は、収率
が低い、生成物の純度が低い、原料合成が困難、適用範
囲がせまい、などの欠点を有している。
本発明者らは、これらの欠点のない新しい製造法を見い
出すべく研究を進め、本発明をなすに至 3 一 つた。
本発明は、β−N、N−ジアルキルアミノーα−置換ア
クロレインと、オルトフェニレンジアミン又はその3.
11−置換体と反応させる事によりTAA類を合成する
事を特徴とする。
本発明で用いるβ−N、N−ジアルキルアミノーα−置
換アクロレインは、例えば一般式(1)で表わされる。
R。
〔但し、式中R1はアルキル基又はシクロアルキル基(
これらのアルキル基、シクロアルキル基はアリール基、
カルボキシル基、アルフキジカルボニル基、カルバモイ
ル基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基゛、ヒドロ
キシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、シアン基で
置換されていてもよい。)、アリール基(この基は)\
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリーー 
6 = ル基、置換アリール基、ニトロ基、シアノ基、カルボキ
シル基、アルフキジカルボニル基、カルノぐモイル基、
ジアルキルアミ7基、ヒドロキシル基、アルコキシ基で
置換されていてもよい。)を意味し、R2、R3は同−
又は異なっていてもよく、低級アルキル基を表わす0〕 本発明で用いる式(I)の化合物の具体例としては、β
−ジメチルアミノ−α−メチルアクロレイン、β−ジメ
チルアミノ−α−エチルアクロレイン、β−ジメチルア
ミノ−α−n−プロピルアクロレイン、β−ジメチルア
ミノ−α−1so−プロピルアクロレイン、β−ジメチ
ルアミノ−α−n−ブチルアクロレイン、β−ジメチル
アミノ−α−tert−ブチルアクロレイン、β−ジメ
チルアミノ−α−シクロヘキシル−アクロレイン、β−
ジメチルアミノ−α−オクチル−アクロレイン、β−ジ
メチルアミン−α−[,2−(エトキシカルボニル)エ
チルコアクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−〔コー
ヒドロキシエチル〕アクロレイン、β−ジメチルアミノ
−α−[J −(N、N−ジメチルアミノ)エチルコア
クロレイン、β−ジメチルアミノ−α−〔x−(カルバ
モイル)エチル〕アクpレイン、β−ジメチルアミン−
α−[3−(エトキシカルボニル)プロピルコアクロレ
イン、β−ジメチルアミノ−α−〔−一ヒドロキシエチ
ル〕アク四レイン、β−ジメチルアミノ−α−〔2−メ
トキシエチルコアクロレイン、β−ジエチルアミノ−α
−メチルアクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−フェ
ニルアクロレイン、β、−ジメチルアミノ−α−(l−
す7チル)アクワレイン、β−ジメチルアミノ−α−(
p−二トロフェニル)アクロレイン、β−ジメチルアミ
ノ−α−(p−メトキシフェニル)アクロレイン、β−
ジメチルアミノ−α−(p−)リル)アクロレイン、β
−ジメチルアミノ−α−(p−ジメチルアミノフェニル
)アクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−(p−シア
ノフェニル)アクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−
(p−クロルフェニル)アクロレイン、β−ジメチルア
ミノ−α−[p−(エトキシカルボニルメチル)フェニ
ルコアクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−[p−(
ジメチルアミ/メチル)フェニルコアクロレイン、β−
ジメチルアミノ−α−[p−(フェニル)フェニルコア
クロレイン、β−ジメチルアミノ−α−[0−二トロフ
ェニル]アクロレイン、β−ジメチルアミノ−α−[0
−)リル]アクロレイン等が挙げられる。
これらのβ−N、N−ジアルキルアミノアクロレイン類
は、前述した先行技術で用いられる原料に較べはるかに
容易にビルスマイヤー反応などを用いて合成する事がで
きる。
本発明で用いられるオルトフェニレンジアミン類として
は、下記一般式(I[)で表わされる。
〔但し、式中X、、X、は、同−又は異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、アルキ/14、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール五ニトロ基、シアン
基、カルボキシル基、アルコ9− キシカルボニル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、ジ
アルキルアミ7基、アシルアミノ基。
カルバモイル基を意味する。〕 これらのオルト−フェニレンジアミン類の具体例として
は、0−フェニレンジアミン、弘−メチル−Q−フェニ
レンジアミン、クークロル−0−フェニレンジアミン、
!、!−ジメチルー〇−フェニレンジアミン、t、!−
ジクロルー〇−フェニレンジアミン、ダーエトロー〇−
フェニレンジアミン、グーメトキシ−0−フェニレンジ
アミン、グーカルバモイル−0−フェニレンジアミン、
+−フェニル−0−フェニレンジアミン、グーカルボキ
シル−Q−フェニレンジアミン、l−シアノ−〇−7二
二レンジアミン、ψ−ジメチルアミノー0−7 :Lニ
レンジアミン、ll−[(エトキシカルボニル)メチル
]−0−フェニレンジアミン、q−(メトキシメチル)
−0−フェニレンジアミン等が挙げられる〇 一般式(1)で表わされる化合物と、一般式(It)で
表わされる化合物の反応は、無溶媒又は溶媒中jぴCi
o− 〜2jO″Cに加熱することにより行なわれる。好適な
溶媒は、アルコール類、フェノール類、環状エーテル類
や、N、N−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスル7
オキシド、ヘキサメチル7オスフオールトリアミド、N
−メチルピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒が挙げ
られる。特に非プロトン性極性溶媒を用い、その沸点付
近で反応を進行させると、収率が高く、又、生成物が冷
却後、きれいな結晶として析出し好ましい。
生成物の構造が式(I[)で表わされることは、元素分
析、紫外スペクトル、マススペクトル、赤外スペクトル
、核磁気共鳴法などで確認した。
本方法による収率は、一般式(It)のX、 、X、が
同一である場合は極めて高いが、X、、X、が異なる場
合は収率が低下する傾向がある。
以下、実施例をもって、本発明を説明する。
反応式(1)のW料(A)ao2モルと。−フェニレン
ジアミンユ/l 9 (QO2%Jv)をjO+FIZ
ノN、N −シyZ+ルフォルムアミドにとかし、5時
間加熱還流する。
その後、室温に冷却し、析出してくる目的のテトラアザ
アヌレンを一過し、メタノールでよく洗浄後、減圧で乾
燥する。原料囚の置換基R1および収率を表1に記載す
る◇ 表     l 13− β−N、N−ジメチルアミノーα−フェニルアクロレイ
ン3.so 9 (aox−v−y)と反応式−の原料
(B) 0.02モルを、30−のN、N−ジメチルフ
ォルムアミド30−にとかし、5時間加熱還流する。そ
の後、室温に冷却し、析出する目的のテトラアザアヌレ
ンを一過し、メタノールでよく洗浄後、減圧乾燥する。
原料山)の置換基Xs 、Xtおよび収率を表2に記載
する。
実施例39H1 (反応式3) %式% レインη6 g(0,02モy )と反応式〇)ノ原料
(Q o、orモルを、30WLtのN、N−ジメチル
フォルムアミド301FLtにとかし、5時間加熱還流
する。その後、室温に冷却し、析出する目的のテトラア
ザアヌレンを一過し、メタノールでよく洗浄後、減圧乾
燥す−/!l− る。原料(Oの置換基X、 、 X、および収率を表3
に記載する。
実施例ダ (反応式lI) 反応成体)の原料0αOコモルおよび原料(ト)002
モルを、30−のN、N−ジメチルフォルムアミドにと
かし、5時間加熱還流する。その後、室温に冷却し。
析出してくる目的のテトラアザアヌレンを一過し、メタ
ノールでよく洗浄後、減圧で乾燥する。原料0の置換基
R1および原料■の置換基X5、X6および収率を表ダ
に記載する。
表   弘 17− 反応式〇)の原料[F]QO2モルとオルトフエニレン
ジアミンユ/G g<0.0コモ/I/)を30−のN
、N−ジメチルフォルムアミドにとかし、5時間加熱還
流する。
その後、室温に冷却し、析出する目的物のテトラアザア
ヌレンを一過し、メタノールでよく洗浄し減圧で乾燥す
る。原料いの置換基R,、R4および収−/lr− 率を表5に記載する。
手続補正書(自発) 昭和52年10月z 日 特許庁長官 島田春樹 殿 ■、事件の表示 昭和54年 特 許 願第13乙31安号3 補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 住 所 東京都新宿区四谷3丁目7番地かつ新ビノハB
6、 補正により増加する発明の数 なし補  正  
の  内  容 明細書の記載を次のとおり補正する。
(1)、特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。
(2)、第1頁l1行目「ルバモイル基、」を「ルバモ
イル基、アミ7基」と訂正する。
(3)、第り頁/コ行目「アルコキシ基Jを「アルコキ
シ基、アシルオキシ基」と訂正する。
(4)、第ダ頁77行目「アルコキシ基、シアル」を「
アルコキシ基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミ
ノ基、シアル」と訂正する。
(5)、第6頁ダ行目「3.弘−置換体」を「l、5−
置換体」と訂正する。
(6)、第7頁3行目「モイル基、」を「モイル基、ア
ミノ基、」と訂正する。
(ア)、第7頁ダ行目「アルコキシ基」を「アシルオキ
シ基、アルコキシ基」と訂正する。
(8)、第10頁λ行目「ル基、」を   ・[ル基、
アシルオキシ基、アミ7基、コと訂正する。
(9)、第73頁の表(表1)の末尾に、下記のNIl
、yr、39を追加する。
α曝 第1I1頁ダ行目「3o−にとがし、」を「にと
かじ、」と訂正する。
(¥、第11頁下から3行目「3o−にとかし、」を「
にとかじ、」と訂正する。
(ロ)、第is頁の表コ(実施例コ)の末尾に下記のN
11/J、llIを追加する。
以    上 特許請求の範囲 (1)、 β−N、N−ジアルキルアミノーα−置換ア
クロレインと、オルトフェニレンジアミン又はそのLj
−置換体を反応させる事を特徴とするi、g−ジヒドロ
ジベンズ[b、+][/、ゲ、I、//〕テトラアザシ
クロテトラデセン類の製造方法。
(2)、β−N、N−ジアルキルアミノーα−置換アク
ロレインが一般式(I)で表わされる化合物である特許
請求の範囲第1項記載のl、!−ジヒドロジベンズ[b
 、1 ] [/、 a、 (//:]テトラアザシク
ロテトラゾ七ン類の製造方法。
〔但し、式中R1はアルキル基又はシクロアルキル基(
これらのアルキル基、シクロアルキル基はアリール基、
カルボキシル基、アルフキジカルボニル基、カルバモイ
ル基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、シアノ基で置
換されていてもよい。)、アリール基(この基は、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ニトロ基、シアノ基、カルホキシル基
、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基
、ジアルキルアミノ基、7シにアt)基、ヒドロキシル
基、アシルオキシ基、アルコキシ基で置換されていても
よい。)を意味し、R1、八は同−又は異なっていても
よく低級アルキル基を意味する。〕(3)、オルトフェ
ニレンジアミン又はそのダ、j−置換体が、一般式(!
l)で表わされる化合物である特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の/、I−ジヒドロジベンズ[b、+] 
[/、 II、 r、 // ]テトラアザシクロテト
ラゾ七ン類の製造方法。
〔但し、式中X1、X、は同−又は異なっていてもよく
、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、二)O基、シアノ基
、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ジ
アルキルアミ7基、アシルアミ7基、カルバモイル基を
意味する。〕 特許出願人 旭化成工業株式会社 代理人弁理士 星   野     透709

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (])、]β−N、N−ジアルキルアミノーα置換アク
    ロレインと、オルトフェニレンジアミン又はそのt、j
    −置換体を反応させる事を特徴とする八ざ一ジヒドロジ
    ベンズ[b、 tl [t、ta、r、 // ]テト
    ラアザシクロテトラデセン類の製造方法。 (2)、  β−N、N−ジアルキルアミ/−α−置換
    アクロレインが一般式(1)で表わされる化合物である
    特許請求の範囲第1項記載のl、!−ジヒドロジベンズ
    Cb、t ] [/、 ti、 r、l/]テトラアザ
    シクロテトラデセン類の製造方法。 〔但し、式中R8はアルキル基又はシクロアルキル基(
    これらのアルキル基、シクロアルキル基は一/− アリール基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
    、カルバモイル基、シアル中ルアミノ基、アシルアミノ
    基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、
    シアノ基で置換されていてもよい。)、アリール基(こ
    の基は、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、
    アリール基、置換アリール基、ニドp基、シアノ基、カ
    ルボキシル基、アルフキジカルボニル基、カルバモイル
    基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ
    ル基、アルコキシ基、で置換されていてもよい。)を意
    味し、R,、R,は同−又は異なっていてもよく低級ア
    ルキル基を意味する。〕 (3)、オルトフェニレンジアミン又はそのl、!−置
    換体が、一般式(I[)で表わされる化合物である特許
    請求の範囲第1項又は第2項記載の/、r−ジヒドロジ
    ベンズI” b、i〕[/、 II、 ff、 // 
    ]テトラアザシクロテトラゾ七ン類の製造方法。 〔但し、式中X1、X2は同−又は異なっていてもよく
    、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
    基、アリール基、置換アリール基、ニトロ基、シアノ基
    、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキ
    シ基、ヒドロキシル基、ジアルキルアミノ基、アシルア
    ミノ基、カルバモイル基を意味する。〕
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