JPS583970U - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS583970U JPS583970U JP9414681U JP9414681U JPS583970U JP S583970 U JPS583970 U JP S583970U JP 9414681 U JP9414681 U JP 9414681U JP 9414681 U JP9414681 U JP 9414681U JP S583970 U JPS583970 U JP S583970U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- substrate
- mounting table
- onto
- resist coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、本考案しピスト塗布装置の斜視図、第２図は
本考案装置で基板上にレジストを滴下したと柔ろを示す
状態図である。 １・・・中央ノズル、２・・・中央ノズルアーム、３・
・・周辺ノズル、５・・・モータ、６． ６． ６・・
・チューブ。
本考案装置で基板上にレジストを滴下したと柔ろを示す
状態図である。 １・・・中央ノズル、２・・・中央ノズルアーム、３・
・・周辺ノズル、５・・・モータ、６． ６． ６・・
・チューブ。
Claims (1)
- 一 レジストが塗布される基板を載置して回転する載
置台と、レジストを載置台上の基板の中央部に滴下する
中央ノズルと、基板の周辺部にレジストを滴下する周辺
ノズルと、から成り、レジスト塗布時に、基板の中心部
と周辺部とに夫々レジストを滴下させると共に基板を載
置台と一緒に回転させて各ノズルから滴下されたレジス
トを基板表面に広げ、均一な膜厚のレジスト膜を形成す
る事を特徴としたレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9414681U JPS583970U (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9414681U JPS583970U (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583970U true JPS583970U (ja) | 1983-01-11 |
Family
ID=29889083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9414681U Pending JPS583970U (ja) | 1981-06-24 | 1981-06-24 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583970U (ja) |
-
1981
- 1981-06-24 JP JP9414681U patent/JPS583970U/ja active Pending
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