JPS584027B2 - シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法 - Google Patents
シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法Info
- Publication number
- JPS584027B2 JPS584027B2 JP48038058A JP3805873A JPS584027B2 JP S584027 B2 JPS584027 B2 JP S584027B2 JP 48038058 A JP48038058 A JP 48038058A JP 3805873 A JP3805873 A JP 3805873A JP S584027 B2 JPS584027 B2 JP S584027B2
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- Japan
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- polymethacrylate
- parts
- cyanuric
- polyacrylate
- present
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なポリアクリレート又はポリメタクリレ
ートの製造に関するものである。
ートの製造に関するものである。
従来より、ポリアクリレート又はポリメタクリレートの
製造法は、種々報告されているが、シアヌル環を有する
ポリアクリレート又はポリメタクリレートに関するもの
はほとんどみられない。
製造法は、種々報告されているが、シアヌル環を有する
ポリアクリレート又はポリメタクリレートに関するもの
はほとんどみられない。
本発明者等は、シアヌル環を有する易重合性の化合物の
合成を検討し、本発明を完成した。
合成を検討し、本発明を完成した。
本発明は、ヒドロキシル基を有するアクリル酸エステル
又はメタクリル酸エステルと塩化シアヌルを塩酸受容体
の存在下で反応させることを特徴とするシアヌル環を有
するポリアクリレート又はポリメタクリレートの製造法
である。
又はメタクリル酸エステルと塩化シアヌルを塩酸受容体
の存在下で反応させることを特徴とするシアヌル環を有
するポリアクリレート又はポリメタクリレートの製造法
である。
本発明に於いて用いられるヒドロキシル基を有するアク
リル酸エステル又はメタクリル酸エステルは下記構造式
で示されるものである。
リル酸エステル又はメタクリル酸エステルは下記構造式
で示されるものである。
（ただしここでＲ１はＨ又はＣＨ３、Ｒ２は炭素数２〜
４のアルキレン基。
４のアルキレン基。
以下同じ）具体的な化合物としては、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート又はメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロビルアクリレート又はメタクリレート、３−ヒドロ
キシグロビルアクリレート又はメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート又はメタクリレートなどが
挙げられる。
チルアクリレート又はメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロビルアクリレート又はメタクリレート、３−ヒドロ
キシグロビルアクリレート又はメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート又はメタクリレートなどが
挙げられる。
本発明の反応は次式で示される。
本発明に於ける仕込み割合は、ヒドロキシル基を含有す
るアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル及び所
望により用いられる１価のヒドロキシ化合物に含まれる
ヒドロキシル基の数により種々変え得るが、通常、塩化
シアヌル１モルに対してヒドロキシ基３〜５当量程度の
割合になるようにアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルを仕込むのが好ましい。
るアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル及び所
望により用いられる１価のヒドロキシ化合物に含まれる
ヒドロキシル基の数により種々変え得るが、通常、塩化
シアヌル１モルに対してヒドロキシ基３〜５当量程度の
割合になるようにアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルを仕込むのが好ましい。
又本発明において、生成ポリアクリレート又はポリメタ
クリレートの重合性又は硬化物性の改質のために、一価
のヒドロキシル化合物を同時に反応させてシアヌル環に
結合させることもできる。
クリレートの重合性又は硬化物性の改質のために、一価
のヒドロキシル化合物を同時に反応させてシアヌル環に
結合させることもできる。
このような化合物としては、例えばアリルアルコール、
メタリルアルコール、シンナミルアルコール、シデカノ
ール（日立化成商品名）、メタノール、エタノール、ｔ
−ブタノール、２−クロロエタノール、２−プロモエタ
ノール、４・４・４・２−テトラクロロブタノール、２
・３−ジブロモプロパノール、フェノール、キシレノー
ル、ペンタクロロフェノール、トリブロモフェノール、
ジブロモフェノールなどが挙げられる。
メタリルアルコール、シンナミルアルコール、シデカノ
ール（日立化成商品名）、メタノール、エタノール、ｔ
−ブタノール、２−クロロエタノール、２−プロモエタ
ノール、４・４・４・２−テトラクロロブタノール、２
・３−ジブロモプロパノール、フェノール、キシレノー
ル、ペンタクロロフェノール、トリブロモフェノール、
ジブロモフェノールなどが挙げられる。
このような化合物は、硬化物の架橋密度を低くするため
に使用するのであるが、その他硬化性を高かめるだめの
重合促進剤の働きを持たしめたり、或は難燃性を高くす
ることにも効果がある。
に使用するのであるが、その他硬化性を高かめるだめの
重合促進剤の働きを持たしめたり、或は難燃性を高くす
ることにも効果がある。
本発明には、通常当量の塩酸受容体、例えばトリメチル
アミン、トリエチルアミン、トリプチルアミン、アニリ
ン、ジメチルアニリン、ジメチルペンジルアミン、アン
モニア、ピリジン、ビコリン、コリジン、キノリン、ル
チジン、トリエチレンテトラミン、ウロトロビン、１・
５−ジアザビシクロ〔３・４・０〕ネン−５、その他炭
酸ソーダ、苛性ソーダ、ソジウムアルコラート等が使用
される。
アミン、トリエチルアミン、トリプチルアミン、アニリ
ン、ジメチルアニリン、ジメチルペンジルアミン、アン
モニア、ピリジン、ビコリン、コリジン、キノリン、ル
チジン、トリエチレンテトラミン、ウロトロビン、１・
５−ジアザビシクロ〔３・４・０〕ネン−５、その他炭
酸ソーダ、苛性ソーダ、ソジウムアルコラート等が使用
される。
反応の溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
酢酸エチル、エチルエーテル、ジイソプロビルエーテル
、アセトン、アセトニトリル、ｎ−ヘキサン、シクロヘ
キサン、ＴＨＦ，ＤＭＦ、クロロホルム、四塩化炭素、
メチルクロロホルム、トリクロロエチレン、パークロロ
エチレン、クロロベンゼン等の不活性溶媒を使用するこ
とが好ましい。
酢酸エチル、エチルエーテル、ジイソプロビルエーテル
、アセトン、アセトニトリル、ｎ−ヘキサン、シクロヘ
キサン、ＴＨＦ，ＤＭＦ、クロロホルム、四塩化炭素、
メチルクロロホルム、トリクロロエチレン、パークロロ
エチレン、クロロベンゼン等の不活性溶媒を使用するこ
とが好ましい。
本発明方法は、１００℃以下、特に０〜６０℃の温度で
実施することが好ましい。
実施することが好ましい。
反応は非常に速く、通常は塩化シアヌル溶液又は懸濁液
にヒドロキシル基を有するアクリル酸エステル又はメタ
クリル酸エステルと塩酸受容体を徐々に加える方法がと
られる。
にヒドロキシル基を有するアクリル酸エステル又はメタ
クリル酸エステルと塩酸受容体を徐々に加える方法がと
られる。
反応を完結させるために、最後に反応温度を還流温度に
まで高めることもある。
まで高めることもある。
反応が終了すると、塩酸塩が析出するので、これを濾別
するか或は水洗にて除去し、油相部を減圧下に蒸溜して
反応溶媒を除き、澄液としてシアヌル環を有するポリア
クリレート又はポリメタ、クリレートを好収率で得られ
る。
するか或は水洗にて除去し、油相部を減圧下に蒸溜して
反応溶媒を除き、澄液としてシアヌル環を有するポリア
クリレート又はポリメタ、クリレートを好収率で得られ
る。
本発明は、重合防止剤の存在下で実施することが好まし
く、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチル
エーテル、フエノチアジン、銅塩、銅粉，ｐ−フエニレ
ンジアミン、カテコールなどが用いられる。
く、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチル
エーテル、フエノチアジン、銅塩、銅粉，ｐ−フエニレ
ンジアミン、カテコールなどが用いられる。
本発明で得られるシアヌル環を有するポリアクリレート
又はポリメタクリレートは、接着剤、嫌気性固着剤、熱
硬化性塗料、光硬化性塗料、光硬化性樹脂、印刷用樹脂
、成型品、積層材、電子線硬化樹脂などに使用される。
又はポリメタクリレートは、接着剤、嫌気性固着剤、熱
硬化性塗料、光硬化性塗料、光硬化性樹脂、印刷用樹脂
、成型品、積層材、電子線硬化樹脂などに使用される。
以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
尚、部は重量部である。
実施例 １
フラスコに塩化シアヌル３６．９部、クロロホルム１０
０部を仕込み、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８
４．５部とトリエチルアミン６５．７部、フエノチアジ
ン０．１２の混合物を滴下、攪拌しながら５〜１０℃で
反応させた。
０部を仕込み、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８
４．５部とトリエチルアミン６５．７部、フエノチアジ
ン０．１２の混合物を滴下、攪拌しながら５〜１０℃で
反応させた。
滴下後、６５〜７０℃にて２時間反応させた後、反応液
を冷却して水２００部づつで３回水洗してトリエチルア
ミン塩酸塩を除いた。
を冷却して水２００部づつで３回水洗してトリエチルア
ミン塩酸塩を除いた。
油相は５０℃にてクロロホルムを減圧蒸溜し淡黄色のポ
リアクリレート９１部を得た。
リアクリレート９１部を得た。
収率は９７％で、ｄ２３＝１．０８０、η３０＝３９Ｃ
．Ｐ，，ｎ■＝１．４９００、臭素価〔試料１００ｇ当
りの臭素付加量（ｇ）、以下同じ〕＝９８．６（理論値
＝１０３．１）であった。
．Ｐ，，ｎ■＝１．４９００、臭素価〔試料１００ｇ当
りの臭素付加量（ｇ）、以下同じ〕＝９８．６（理論値
＝１０３．１）であった。
またこの物の赤外線吸収スペクトルをとったところ１７
２０、１６４５、１１６５、８１０ｃｍ−１にメタクリ
レート基特有の吸収を示した。
２０、１６４５、１１６５、８１０ｃｍ−１にメタクリ
レート基特有の吸収を示した。
又このものを紫外線で硬化したフイルムはショアー硬度
Ｄ−８２であった。
Ｄ−８２であった。
実施例 ２
フラスコに塩化シアヌル１８．５部、クロロホルム１０
０部を仕込み、０〜５℃にて２−ヒドロキシエチルアク
リレート４６．４部、トリエチルアミン４０．４部、フ
エノチアジン０．０５部の混合物をゆっくり滴下攪拌し
ながら反応させた。
０部を仕込み、０〜５℃にて２−ヒドロキシエチルアク
リレート４６．４部、トリエチルアミン４０．４部、フ
エノチアジン０．０５部の混合物をゆっくり滴下攪拌し
ながら反応させた。
次いで５０〜６０℃にて２時間反応させた後、冷却して
水１００ｃｃにて２回水洗し、次いで、クロロホルムを
減圧蒸溜して淡黄色のポリアクリレート３２グを得た。
水１００ｃｃにて２回水洗し、次いで、クロロホルムを
減圧蒸溜して淡黄色のポリアクリレート３２グを得た。
収率は７４％で、η３０＝３８Ｃ．Ｐ．、臭素価−１０
９．１（理論値＝１１３．２）であった。
９．１（理論値＝１１３．２）であった。
またこの物の赤外線吸収スペクトルをとったところ１７
２５、１６４０、１６２０、１２００、８１０ｃｍ−１
にアクリレート基特有の吸収を示した。
２５、１６４０、１６２０、１２００、８１０ｃｍ−１
にアクリレート基特有の吸収を示した。
このものにペンゾフエノン０．５％加えたものは、空気
中紫外線を照射することにより容易に硬化した。
中紫外線を照射することにより容易に硬化した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記構造式Ａで示されるヒドロキシル基を有するア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルと塩化シア
ヌルを、塩酸受容体の存在下に反応させることを特徴と
するシアヌル環を有するポリアクリレート又はポリメタ
クリレートの製造法。 （ただしここでＲ１はＨ又はＣＨ３、Ｒ２は炭素数２〜
４のアルキレン基）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48038058A JPS584027B2 (ja) | 1973-04-03 | 1973-04-03 | シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48038058A JPS584027B2 (ja) | 1973-04-03 | 1973-04-03 | シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20800181A Division JPS5915329B2 (ja) | 1981-12-24 | 1981-12-24 | 硬化用組成物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS49125380A JPS49125380A (ja) | 1974-11-30 |
| JPS584027B2 true JPS584027B2 (ja) | 1983-01-24 |
Family
ID=12514893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48038058A Expired JPS584027B2 (ja) | 1973-04-03 | 1973-04-03 | シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584027B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011095441A1 (de) | 2010-02-02 | 2011-08-11 | Bayer Materialscience Ag | Photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren |
| EP3401909A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-14 | Covestro Deutschland AG | Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| EP3401910A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-14 | Covestro Deutschland AG | Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| WO2018206503A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-15 | Covestro Deutschland Ag | Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| WO2018206556A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-15 | Covestro Deutschland Ag | Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54162784A (en) * | 1978-06-15 | 1979-12-24 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Photosetting composition |
| GB2064990B (en) * | 1979-04-17 | 1983-07-06 | Teijin Ltd | Abrasion-resistant laminate film |
| EP3622352B1 (de) | 2017-05-09 | 2025-07-23 | Covestro Deutschland AG | System aus zwei trocken übertragbaren uv-härtenden lackschichten für den schutz eines hologramms in einem photopolymer-folienverbund |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3153015A (en) * | 1960-10-11 | 1964-10-13 | Dal Mon Research Co | Polymerizable triazines and products thereof |
-
1973
- 1973-04-03 JP JP48038058A patent/JPS584027B2/ja not_active Expired
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011095441A1 (de) | 2010-02-02 | 2011-08-11 | Bayer Materialscience Ag | Photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren |
| EP3401909A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-14 | Covestro Deutschland AG | Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| EP3401910A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-14 | Covestro Deutschland AG | Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| WO2018206503A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-15 | Covestro Deutschland Ag | Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
| WO2018206556A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-11-15 | Covestro Deutschland Ag | Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS49125380A (ja) | 1974-11-30 |
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