JPS5841342A - イオン選択性電極 - Google Patents
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- JPS5841342A JPS5841342A JP56139752A JP13975281A JPS5841342A JP S5841342 A JPS5841342 A JP S5841342A JP 56139752 A JP56139752 A JP 56139752A JP 13975281 A JP13975281 A JP 13975281A JP S5841342 A JPS5841342 A JP S5841342A
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- G—PHYSICS
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
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- G01N27/3335—Ion-selective electrodes or membranes the membrane containing at least one organic component
-
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- G01N2410/00—Assays, e.g. immunoassays or enzyme assays, involving peptides of less than 20 animo acids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料液に存在する特定イオンの濃度を測定する
際に用いるイオン選択性電極に関するものである。
際に用いるイオン選択性電極に関するものである。
かかるイオン選択性電極は、従来種々公知であり、例え
ば@7図に示す構成のものが提案されている。このイオ
ン選択性電極lは、ガラス、プラスチック等の電気絶縁
体から成る細径の外f11コの一端に熱融着あるいは接
着により電気良導体Jを設け、この電気良導体3および
外筒コの先端にイオン感応展参を形成している・イオン
感応膜−はポリ塩化ビニル(PVO)等の基質に、イオ
ン感応物質を含有させて構成している。例えば虻電極用
のイオン感応物質としてはパリノマイシンが用いられて
いる。このようなイオン感応膜参を形成するには、pv
cを基質としイオン感応物質をアジピン酸ジオクチル(
DOA)の可塑剤と共にテトラヒドロフラン(THF)
の溶媒に溶かしたイオン交換体の溶液中に、電気良導体
3および外筒コの先端を数回浸潤させて、あ2る一定の
雰囲気の中で乾燥させている、また、同軸ケーブルより
成る信号lIjの芯[4を外筒コを通して電気良導体3
に半田あるいは導電性ペースト7を介して接続する。さ
らに信号@Sは高絶縁性部材で形成したキャップlによ
り外筒lの上端部に緊密に嵌合して固定されている。こ
のような構成のイオン選択性電極lは第2図に示すよう
に、例えば血液等の試料9の中に参照電極IOと共に浸
漬し、両電極に生じる電位差を比較することにより特定
イオン、例えばカリウムイオンの濃度を測定することが
できる。特定イオンは、イオン感応展参にて選択的に感
応され、このイオン感応膜参と試料tとの界面に特定イ
オン濃度に応じた相界電位を発生させる。この相界電位
は電気良導体3を通じて信号練りを介し、参照電極10
の信号線//に発生する電位と共に電位差検出装置12
の高入力インピーダンス増幅器13に印加され高入力イ
ンピーダンス増幅器/Jの出力を表示装置l#に印加す
ることにより、両電極間に生ずる電位差をイオン濃度値
へ換算して表示するようになっている。
ば@7図に示す構成のものが提案されている。このイオ
ン選択性電極lは、ガラス、プラスチック等の電気絶縁
体から成る細径の外f11コの一端に熱融着あるいは接
着により電気良導体Jを設け、この電気良導体3および
外筒コの先端にイオン感応展参を形成している・イオン
感応膜−はポリ塩化ビニル(PVO)等の基質に、イオ
ン感応物質を含有させて構成している。例えば虻電極用
のイオン感応物質としてはパリノマイシンが用いられて
いる。このようなイオン感応膜参を形成するには、pv
cを基質としイオン感応物質をアジピン酸ジオクチル(
DOA)の可塑剤と共にテトラヒドロフラン(THF)
の溶媒に溶かしたイオン交換体の溶液中に、電気良導体
3および外筒コの先端を数回浸潤させて、あ2る一定の
雰囲気の中で乾燥させている、また、同軸ケーブルより
成る信号lIjの芯[4を外筒コを通して電気良導体3
に半田あるいは導電性ペースト7を介して接続する。さ
らに信号@Sは高絶縁性部材で形成したキャップlによ
り外筒lの上端部に緊密に嵌合して固定されている。こ
のような構成のイオン選択性電極lは第2図に示すよう
に、例えば血液等の試料9の中に参照電極IOと共に浸
漬し、両電極に生じる電位差を比較することにより特定
イオン、例えばカリウムイオンの濃度を測定することが
できる。特定イオンは、イオン感応展参にて選択的に感
応され、このイオン感応膜参と試料tとの界面に特定イ
オン濃度に応じた相界電位を発生させる。この相界電位
は電気良導体3を通じて信号練りを介し、参照電極10
の信号線//に発生する電位と共に電位差検出装置12
の高入力インピーダンス増幅器13に印加され高入力イ
ンピーダンス増幅器/Jの出力を表示装置l#に印加す
ることにより、両電極間に生ずる電位差をイオン濃度値
へ換算して表示するようになっている。
しかし、このような構成の従来のイオン選択性電極では
、イオン感応膜参と電気良導体3との接着強度が弱く従
って長時間の使用に耐えがたいという問題があった。そ
こでイオン感応展参と電気良導体Jとの接着力を高める
ため、両者の間にシランカップリング剤を用いることが
考えられる。
、イオン感応膜参と電気良導体3との接着強度が弱く従
って長時間の使用に耐えがたいという問題があった。そ
こでイオン感応展参と電気良導体Jとの接着力を高める
ため、両者の間にシランカップリング剤を用いることが
考えられる。
シランカップリング剤はR’5i(OR)3で示される
ようにその分子中に無機質の材料Cガラス、金属等)と
化学結合して強力な結合の手を結ぶ反応基(メトキシ基
、シラノール基等)および有機質材料(各種合成樹脂)
と化学結合する反応基Cビニール基。
ようにその分子中に無機質の材料Cガラス、金属等)と
化学結合して強力な結合の手を結ぶ反応基(メトキシ基
、シラノール基等)および有機質材料(各種合成樹脂)
と化学結合する反応基Cビニール基。
エポキシ基、メタアクリル基、アミノ基等)の2個以上
の異なった反応基を持つものである。従ってシランカッ
プリング剤は有機質材料と無機質材料との仲介役として
働くことになり、有機質であるイオン感応膜ダと無機質
である電気良導体3との接着力を高めることとなる。
の異なった反応基を持つものである。従ってシランカッ
プリング剤は有機質材料と無機質材料との仲介役として
働くことになり、有機質であるイオン感応膜ダと無機質
である電気良導体3との接着力を高めることとなる。
一方、電気良導体Jの材質としては、一般的に銅、真鍮
、アルl−ラム等の金属が使用され、特に信号線jの芯
線≦と半田付けするために銅を用いることが多い。しか
しながらこれらの材質は化学的に活性なため酸化等の化
学反応を起しやすし5これら材質に化学的に安定な貴金
属(例えば金、銀、白金等)を使用することもできるが
これら材質は非常に高価である。従って電気良導体Jは
第3図に示すように鋼等の安価な金属/jの表面に貴金
属のコーティング層14を被着して化学的に不活性とな
るように構成することも提案されている。
、アルl−ラム等の金属が使用され、特に信号線jの芯
線≦と半田付けするために銅を用いることが多い。しか
しながらこれらの材質は化学的に活性なため酸化等の化
学反応を起しやすし5これら材質に化学的に安定な貴金
属(例えば金、銀、白金等)を使用することもできるが
これら材質は非常に高価である。従って電気良導体Jは
第3図に示すように鋼等の安価な金属/jの表面に貴金
属のコーティング層14を被着して化学的に不活性とな
るように構成することも提案されている。
しかし、このように貴金属のコーティング層/≦の上に
シランカップリング剤nを塗付すると、フーティング層
14は化学的に不活性なためシランカップリング剤17
との反応が弱くなり、電気良導体とイオン感応層との接
着強度をあまり向上できないためイオン選択性電極とし
ての長期間の使用に耐えないという欠点がある。
シランカップリング剤nを塗付すると、フーティング層
14は化学的に不活性なためシランカップリング剤17
との反応が弱くなり、電気良導体とイオン感応層との接
着強度をあまり向上できないためイオン選択性電極とし
ての長期間の使用に耐えないという欠点がある。
本発明の目的は上述した欠点を除去し、電気良導体とイ
オン感応層との接合強度が高く、シたがって耐久性に優
れ、しかも製造が容易なイオン選択性電極を提供するこ
とにある。
オン感応層との接合強度が高く、シたがって耐久性に優
れ、しかも製造が容易なイオン選択性電極を提供するこ
とにある。
本発明は特定イオンに選択的に感応するイオン感応層を
電気良導体の上に被着したイオン選択性電極において、
前記イオン感応層をシランカップリング剤を塗布したシ
リコンウェハ基板上に形成したことを特徴とするもので
ある。
電気良導体の上に被着したイオン選択性電極において、
前記イオン感応層をシランカップリング剤を塗布したシ
リコンウェハ基板上に形成したことを特徴とするもので
ある。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第q図は本発明によるイオン選択性電極の一例の構成を
示す断面図である。プラスチック等の電気絶縁体からな
る細径の外筒Xの一端面に、シリコンウェハ基板Iを熱
融着または接着等により固定する。このシリコンウェハ
基板Iの一表面にはシランカップリング剤nを予じめ塗
布しておく。
示す断面図である。プラスチック等の電気絶縁体からな
る細径の外筒Xの一端面に、シリコンウェハ基板Iを熱
融着または接着等により固定する。このシリコンウェハ
基板Iの一表面にはシランカップリング剤nを予じめ塗
布しておく。
このシリコンウェハ基板Iをシランカップリング剤nが
外筒Xの外側に露出するように外筒〃に固定する。外筒
がガラス製である場合この固定は一般的には熱融着によ
って行なうので、外筒〃とシリコンウェハ基板Uとの熱
膨張率の相違によってシリコンウェハ基板に割れが生じ
ないように、シリコンウェハ基板とほぼ同程度の熱膨張
係数を有するガラスを素材として選定するようにする。
外筒Xの外側に露出するように外筒〃に固定する。外筒
がガラス製である場合この固定は一般的には熱融着によ
って行なうので、外筒〃とシリコンウェハ基板Uとの熱
膨張率の相違によってシリコンウェハ基板に割れが生じ
ないように、シリコンウェハ基板とほぼ同程度の熱膨張
係数を有するガラスを素材として選定するようにする。
また、外flIdがプラスチック製である場合、両者の
固定は接着により行なう。接着側には高絶縁性かつ耐水
性に優れたものが好適であり、例えば信越シリコン社製
のシリコンR’ffがある。ざらに外筒〃にポリ塩化ビ
ニル(PVO)を使用すれば、後述するように外筒Xの
先端にイオン感応PvO膜を形成する際に、イオン交換
体に含まれているテトラヒドロフラン(THF)によっ
て外筒〃のPvOが若干溶融されるためイオン感応Pv
O展と外筒とを一体化することができ、非常に耐久性の
優れた接着面を得ることができる。
固定は接着により行なう。接着側には高絶縁性かつ耐水
性に優れたものが好適であり、例えば信越シリコン社製
のシリコンR’ffがある。ざらに外筒〃にポリ塩化ビ
ニル(PVO)を使用すれば、後述するように外筒Xの
先端にイオン感応PvO膜を形成する際に、イオン交換
体に含まれているテトラヒドロフラン(THF)によっ
て外筒〃のPvOが若干溶融されるためイオン感応Pv
O展と外筒とを一体化することができ、非常に耐久性の
優れた接着面を得ることができる。
このような外筒Xおよびシリコンウェハ基板のシランカ
ップリング剤nの表面に、Tlff、 PVO。
ップリング剤nの表面に、Tlff、 PVO。
DOAさらに所定のイオン感応物質を含むイオン交換体
を塗布するかまたは前記表面部分をイオン交換体中に浸
漬して乾燥させる。溶剤であるTHFは蒸発するのでシ
リコンウェハの表面にはイオン感応PVO膜Bが形成さ
れる。このイオン感応PvO膜Jはシランカップリング
剤nを介してシリコンウェハ基板Iと強力に化学結合さ
れているためイオン選択性電極のイオン感応層の耐久性
を向上させることができる。同軸ケーブルより成る信号
IiIムの芯線Iを外筒〃を通してシリコンウェハ基板
Iに接続する。この接続は半田付けあるいは導電性樹脂
の接着剤(例えば銀ペースト)等により行なう。半田付
けする場合にはシリコンウェハ基板Iと芯l1I27と
な直接接続することができないので、第5図に示すよう
にシリコンウェハ基板Iのイオン感応PvC膜Bとは反
対の側にムlを蒸着し、さらに0rOuを蒸着して電極
膜1を形成すれば、芯線lを電極膜dに半田付けするこ
とができる。信号ll1luは、その芯1Iiilをシ
リコンウェハ基板Iに接続すると共に高絶縁性部材で形
成されたキャップJで固定し、このキャップjを外筒〃
のイオン感応膜とは反対側の端に緊密に嵌合して固定す
る1このような構成のイオン選択性電極によれば、第一
図と同様に参照電極と共に試料液中にイオン選択性電極
を浸漬し、イオン感応pva*Bにより選択的に感応さ
れた特定イオンの濃度によりイオン感応PVO膜Bと試
料との界面に発生した相界電位を、シリコンウェハ基板
Vおよび信号IIuを通して参照電極の電位と共に電位
差検出装置に大刀することにより所定のイオンの濃度値
を知ることができる。
を塗布するかまたは前記表面部分をイオン交換体中に浸
漬して乾燥させる。溶剤であるTHFは蒸発するのでシ
リコンウェハの表面にはイオン感応PVO膜Bが形成さ
れる。このイオン感応PvO膜Jはシランカップリング
剤nを介してシリコンウェハ基板Iと強力に化学結合さ
れているためイオン選択性電極のイオン感応層の耐久性
を向上させることができる。同軸ケーブルより成る信号
IiIムの芯線Iを外筒〃を通してシリコンウェハ基板
Iに接続する。この接続は半田付けあるいは導電性樹脂
の接着剤(例えば銀ペースト)等により行なう。半田付
けする場合にはシリコンウェハ基板Iと芯l1I27と
な直接接続することができないので、第5図に示すよう
にシリコンウェハ基板Iのイオン感応PvC膜Bとは反
対の側にムlを蒸着し、さらに0rOuを蒸着して電極
膜1を形成すれば、芯線lを電極膜dに半田付けするこ
とができる。信号ll1luは、その芯1Iiilをシ
リコンウェハ基板Iに接続すると共に高絶縁性部材で形
成されたキャップJで固定し、このキャップjを外筒〃
のイオン感応膜とは反対側の端に緊密に嵌合して固定す
る1このような構成のイオン選択性電極によれば、第一
図と同様に参照電極と共に試料液中にイオン選択性電極
を浸漬し、イオン感応pva*Bにより選択的に感応さ
れた特定イオンの濃度によりイオン感応PVO膜Bと試
料との界面に発生した相界電位を、シリコンウェハ基板
Vおよび信号IIuを通して参照電極の電位と共に電位
差検出装置に大刀することにより所定のイオンの濃度値
を知ることができる。
本発明において電気良導体として使用するシリコンウェ
ハは半導体産業で一般的に使用されているものであり、
安価であり熱に強く、化学的に安定で1かつ、エツチン
グ等によりその表面は極めて凹凸の少ない鏡面仕上げが
可能であり、イオン電極に用いるのにきわめて優れた特
徴を′有している。シリコンウェハ基板はイオン感応膜
Bの基板となると共に、イオン感応膜Bに生じた相界電
位を信号線にの芯lI27に伝える役目をしている、従
ってこの場合、シリコンウェハ2/岐はp型あるいはN
型基板のいずれでもよく、また、単結晶性または多結晶
性のいずれのものでもよい。
ハは半導体産業で一般的に使用されているものであり、
安価であり熱に強く、化学的に安定で1かつ、エツチン
グ等によりその表面は極めて凹凸の少ない鏡面仕上げが
可能であり、イオン電極に用いるのにきわめて優れた特
徴を′有している。シリコンウェハ基板はイオン感応膜
Bの基板となると共に、イオン感応膜Bに生じた相界電
位を信号線にの芯lI27に伝える役目をしている、従
ってこの場合、シリコンウェハ2/岐はp型あるいはN
型基板のいずれでもよく、また、単結晶性または多結晶
性のいずれのものでもよい。
以上の説明から明らかなように、本発明によるイオン選
択性電極によれば、イオン感応物質を含有するイオン感
応膜をシランカップリング剤を介してシリコンウェハ基
板上に固定するようにしたため、イオン感応膜を強固に
保持することができ、耐久性の優れたイオン選択性電極
を得ることができる。また、試料液とイオン感応層との
間に生じた相界電位を直接信号線に伝わるよう構成した
ため構造が簡単であり、小型化しやすい利点がある。
択性電極によれば、イオン感応物質を含有するイオン感
応膜をシランカップリング剤を介してシリコンウェハ基
板上に固定するようにしたため、イオン感応膜を強固に
保持することができ、耐久性の優れたイオン選択性電極
を得ることができる。また、試料液とイオン感応層との
間に生じた相界電位を直接信号線に伝わるよう構成した
ため構造が簡単であり、小型化しやすい利点がある。
第1図は従来のイオン選択性電極の一例の構成を示す断
面図、第2図は第1図のイオン選択性電極のイオン濃度
を表示する装置を示す線図、第3図は従来のイオン選択
性電極の電気良導体の一例の構成を示す断面図、1ll
y図は本発明によるイオン選択性電極の一例の構成を示
す断面図、第5図はイオン選択性電極のシリコンウェハ
基板を拡大して示す断面図である。 〃・・・外筒、I・・・シリコンウェハ基板、n・・・
シランカップリング剤、J・・・イオン感応層、ム・・
・信号線、l・・・芯線、d・・・電極膜。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第4図
面図、第2図は第1図のイオン選択性電極のイオン濃度
を表示する装置を示す線図、第3図は従来のイオン選択
性電極の電気良導体の一例の構成を示す断面図、1ll
y図は本発明によるイオン選択性電極の一例の構成を示
す断面図、第5図はイオン選択性電極のシリコンウェハ
基板を拡大して示す断面図である。 〃・・・外筒、I・・・シリコンウェハ基板、n・・・
シランカップリング剤、J・・・イオン感応層、ム・・
・信号線、l・・・芯線、d・・・電極膜。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- L 特定イオンに選択的に感応するイオン感応膜を電気
良導体の上に被着したイオン選択性電極において、前記
イオン感応膜をシランカップリング剤を塗布したシリコ
ンウェハ基板上に形成したことを特徴とするイオン選択
性電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56139752A JPS5841342A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | イオン選択性電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56139752A JPS5841342A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | イオン選択性電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5841342A true JPS5841342A (ja) | 1983-03-10 |
Family
ID=15252558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56139752A Pending JPS5841342A (ja) | 1981-09-07 | 1981-09-07 | イオン選択性電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5841342A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022554076A (ja) * | 2019-10-08 | 2022-12-28 | 11 ヘルス アンド テクノロジーズ リミテッド | 尿及び糞便を分析するためのシステム及び方法 |
-
1981
- 1981-09-07 JP JP56139752A patent/JPS5841342A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022554076A (ja) * | 2019-10-08 | 2022-12-28 | 11 ヘルス アンド テクノロジーズ リミテッド | 尿及び糞便を分析するためのシステム及び方法 |
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