JPS5843399B2 - プロゲステロンカラユウドウサレルシンキナハプテンノ セイゾウホウ オヨビ ソレラノ コウゲンノチヨウセイヘノシヨウ - Google Patents
プロゲステロンカラユウドウサレルシンキナハプテンノ セイゾウホウ オヨビ ソレラノ コウゲンノチヨウセイヘノシヨウInfo
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J7/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms
- C07J7/0005—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms not substituted in position 21
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- C07J7/0015—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms not substituted in position 21 substituted in position 20 by a keto group not substituted in position 17 alfa
- C07J7/002—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms not substituted in position 21 substituted in position 20 by a keto group not substituted in position 17 alfa not substituted in position 16
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- C07J41/0005—Normal steroids containing one or more nitrogen atoms not belonging to a hetero ring the nitrogen atom being directly linked to the cyclopenta(a)hydro phenanthrene skeleton
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次の一般式I
〔ここでXはα又はβ位置にあるヘミテレフタ/H
ロイルオキシ基を表わし、Yは・、 基を表わす〕H
の新規なハプテンの製造法を主題とする。
一般式■の化合物の中でも、特に、11Ct−ヘミテレ
フタロイルオキシプレグナ−4−エン−3゜20−ジオ
ン及び11β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4
−エン−3,20−ジオンを例示し得る。
フタロイルオキシプレグナ−4−エン−3゜20−ジオ
ン及び11β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4
−エン−3,20−ジオンを例示し得る。
また、本発明は、前記の一般式Iの化合物をハロぎ酸ア
ルキルと反応させ、混成無水物を得、これを牛血清アル
ブミンと縮合させることを特徴とする、一般式Iの化合
物を抗原の調製に使用することを主題とする。
ルキルと反応させ、混成無水物を得、これを牛血清アル
ブミンと縮合させることを特徴とする、一般式Iの化合
物を抗原の調製に使用することを主題とする。
このような抗原は標準的方法、特にErlangerの
方法(J、 Biol、 Chem、 228.713
)に従い、これらの抗原より出発して抗体を産生させる
ことが可能である。
方法(J、 Biol、 Chem、 228.713
)に従い、これらの抗原より出発して抗体を産生させる
ことが可能である。
このようにして得られた抗体は、プロゲステロンに対し
て特異的である。
て特異的である。
この特異性は、標準的方法、特に平衡状態における透析
法により立証される。
法により立証される。
この特異性は、そのようにして得られた抗体をプロゲス
テロンの調節剤として有用ならしめるもので、この調節
が治療学士で有する重要性は聞知である。
テロンの調節剤として有用ならしめるもので、この調節
が治療学士で有する重要性は聞知である。
また5本発明は、11α−ヒドロキシプレグナ−4−エ
ン−3,20−ジオン又は11β−ヒドロキシプレグナ
−4−エン−3,20−ジオンに次の一般式 (ここでalc、は1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次式 の化合物を得、これにけん北側を作用させて、使用した
出発物質にしたがって所望の11α−又は11β−化合
物を得ることを特徴とする、11αヘミテレフタロイル
オキシプレグナ−4−エン−3,20−ジオン及び11
β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エン−3
,20−ジオンの製造法を主題とする。
ン−3,20−ジオン又は11β−ヒドロキシプレグナ
−4−エン−3,20−ジオンに次の一般式 (ここでalc、は1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次式 の化合物を得、これにけん北側を作用させて、使用した
出発物質にしたがって所望の11α−又は11β−化合
物を得ることを特徴とする、11αヘミテレフタロイル
オキシプレグナ−4−エン−3,20−ジオン及び11
β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エン−3
,20−ジオンの製造法を主題とする。
p−アルコキシカルボニル安息香酸無水物としては、p
−メトキシカルボニル安息香酸無水物又はp−エトキシ
カルボニル安息香酸無水物が好ましくは使用される。
−メトキシカルボニル安息香酸無水物又はp−エトキシ
カルボニル安息香酸無水物が好ましくは使用される。
使用されるけん北側は好ましくは、水酸化ナトリウム又
はカリウム、ナトリウムアミド、カリウムt−ブチラー
ド又はエチレンジアミン中のりチウムアセチリドのよう
なアルカリ塩基であり、モしてけん化反応は好ましくは
メタノール又はエタノールのような低級アルコール中で
行なわれる。
はカリウム、ナトリウムアミド、カリウムt−ブチラー
ド又はエチレンジアミン中のりチウムアセチリドのよう
なアルカリ塩基であり、モしてけん化反応は好ましくは
メタノール又はエタノールのような低級アルコール中で
行なわれる。
また1本発明は、プレグナ−4−エン−3,11゜20
−トリオンにその3及び20位置のケトン官能基をブロ
ッキングする試剤を作用させて次の一般式 (ここでKはケトン保護基を表わす) の化合物を得、得られた化合物に還元剤を作用させて次
の一般式 の化合物を得、このようにして得られた化合物に次の一
般式 (ここでalclは1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次の一般式 の化合物を得、この化合物にけん北側を作用させて次の
一般式 の化合物を得、この化合物にケトン基を遊離させ得る酸
加水分解剤を作用させることを特徴とする、11β−へ
ミテレフタロイルオキシプレグナ−4−工ン−3,20
−ジオンの製造法を主題とする。
−トリオンにその3及び20位置のケトン官能基をブロ
ッキングする試剤を作用させて次の一般式 (ここでKはケトン保護基を表わす) の化合物を得、得られた化合物に還元剤を作用させて次
の一般式 の化合物を得、このようにして得られた化合物に次の一
般式 (ここでalclは1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次の一般式 の化合物を得、この化合物にけん北側を作用させて次の
一般式 の化合物を得、この化合物にケトン基を遊離させ得る酸
加水分解剤を作用させることを特徴とする、11β−へ
ミテレフタロイルオキシプレグナ−4−工ン−3,20
−ジオンの製造法を主題とする。
3及び20位置のケトン官能基をブロックするための試
剤は、例えば、O−メチルヒドロキシルアミンのような
O−(低級アルキル)ヒドロキシルアミンである。
剤は、例えば、O−メチルヒドロキシルアミンのような
O−(低級アルキル)ヒドロキシルアミンである。
また、低級アルカノール、低級アルキレングリコール又
はジオキソランであってよい。
はジオキソランであってよい。
使用される還元剤は、好ましくは、はう水素化ナトリウ
ム、リチウム又はカリウムのようなアルカリはう水素化
物である。
ム、リチウム又はカリウムのようなアルカリはう水素化
物である。
使用されるp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物は
、好ましくはp−メトキシカルボニル安息香酸無水物又
はp−エトキシカルボニル安息香酸無水物である。
、好ましくはp−メトキシカルボニル安息香酸無水物又
はp−エトキシカルボニル安息香酸無水物である。
使用されるけん北側は、前述したものの一つである。
酸加水分解剤は、好ましくは、塩酸、硫酸、酢酸、くえ
ん酸又はp−トルエンスルホン酸であり、そして作業は
好ましくはメタノール、エタノール又はイソプロパツー
ルのような1種又はそれ以上の溶媒中で行なわれる。
ん酸又はp−トルエンスルホン酸であり、そして作業は
好ましくはメタノール、エタノール又はイソプロパツー
ルのような1種又はそれ以上の溶媒中で行なわれる。
3 、11 、20−トリオキソプレグナ−4−エンは
知られた化合物であって、これは例えば米国特許第2,
403,683号に記載の方法により製造することがで
きる。
知られた化合物であって、これは例えば米国特許第2,
403,683号に記載の方法により製造することがで
きる。
ここで本発明の実施例を挙げるが、本発明を伺ら制限す
るものではない。
るものではない。
例1:
11α−へミテレフタロイルオキシプレグナ4−エン−
3,20−ジオン 工程 A: 11α−(p−メトキシカルボニル)ベンゾイルオキシ
プレグナ−4−エン−3,20−ジオン 1.652gの11α−ヒドロキシプレグナ−4エン−
3,20−ジオンと2,50(Bi’のp−メトキシカ
ルボニル安息香酸無水物を5ccのピリジンに導入する
。
3,20−ジオン 工程 A: 11α−(p−メトキシカルボニル)ベンゾイルオキシ
プレグナ−4−エン−3,20−ジオン 1.652gの11α−ヒドロキシプレグナ−4エン−
3,20−ジオンと2,50(Bi’のp−メトキシカ
ルボニル安息香酸無水物を5ccのピリジンに導入する
。
このようにして得られた混合物を100〜105℃で3
時間加熱する。
時間加熱する。
生じた溶液を水と氷の浴に注入する。
全体を塩化メチレンで抽出し、可溶部分を水洗し、減圧
下に蒸留乾固させる。
下に蒸留乾固させる。
3,050,9の生成物を得、次いでシリカでクロマト
グラフィーする(溶離液は5:5ベンゼン/酢酸エチル
)。
グラフィーする(溶離液は5:5ベンゼン/酢酸エチル
)。
Rfo、45の生成物を単離する。
190℃で融解する2gの11α−(p−メトキシカル
ボニル)ベンゾイルオキシプレグナ−4−エン−3,2
0−ジオンが得られる。
ボニル)ベンゾイルオキシプレグナ−4−エン−3,2
0−ジオンが得られる。
工程 B:
11α−へミテレフタロイルオキシプレグナー4−エン
−3,20−ジオン 工程Aで得られた0、098gの生成物を5ccのエタ
ノールと数滴の塩化メチレンを含有する溶液に溶解する
。
−3,20−ジオン 工程Aで得られた0、098gの生成物を5ccのエタ
ノールと数滴の塩化メチレンを含有する溶液に溶解する
。
次いで0.37 CCのINソーダ溶液を添加する。
全体を攪拌りながら2時間保持し、10滴の水を添加す
る。
る。
全体を攪拌しながら1時間保持し、脱色するまで酢酸で
酸性化し、水と氷の浴に注入し、塩化メチレンで洗浄し
、水洗する。
酸性化し、水と氷の浴に注入し、塩化メチレンで洗浄し
、水洗する。
0.10’lの生成物を得、これを塩化メチレン/イソ
プロピルエーテル混合物から再結晶する。
プロピルエーテル混合物から再結晶する。
かくて11α−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4
−17−3、20−ジオンカ約220 ℃で融解する無
定形生成物として得られる。
−17−3、20−ジオンカ約220 ℃で融解する無
定形生成物として得られる。
例2:
11β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エン
−3,20−ジオン 工程 A: 3.20−ビスメチルオキシム−11−オキソ−プレグ
ナ−4−エン 6.56gの3.11.20−トリオキソプレグナ−4
−エンを50CCのメタノールに攪拌しながら導入する
。
−3,20−ジオン 工程 A: 3.20−ビスメチルオキシム−11−オキソ−プレグ
ナ−4−エン 6.56gの3.11.20−トリオキソプレグナ−4
−エンを50CCのメタノールに攪拌しながら導入する
。
7.2gの無水酢酸ナトリウムと6.529のO−メチ
ルヒドロキシルアミン塩酸塩を添加する。
ルヒドロキシルアミン塩酸塩を添加する。
このようにして得られた混合物を周囲温度で18時間攪
拌し続け、500ccの水に注入し、得られた混合物を
真空1過し、洗浄し、脱水する。
拌し続け、500ccの水に注入し、得られた混合物を
真空1過し、洗浄し、脱水する。
かくて、140℃で融解する7、589の3.20−ビ
スメチルオキシム−11−オキソプレグナ−4−エンが
得られる。
スメチルオキシム−11−オキソプレグナ−4−エンが
得られる。
工程 B:
3.20−ビスメチルオキシム−11β−ヒドロキシプ
レグナ−4−エン 5.7gの工程Aで得られた生成物を60CCのテトラ
ヒドロフラン、30ccの水及び3ccの0.1N水酸
化ナトリウム溶液を含有する溶液に導入する。
レグナ−4−エン 5.7gの工程Aで得られた生成物を60CCのテトラ
ヒドロフラン、30ccの水及び3ccの0.1N水酸
化ナトリウム溶液を含有する溶液に導入する。
次いで1.8gの水素化はう素カリウムを導入する。
得られた混合物を45±2℃の温度に18時間保持し、
次いで0.9gの水素化はう素カリウムを添加する。
次いで0.9gの水素化はう素カリウムを添加する。
この混合物を45℃±2℃の温度で再び攪拌し続ける。
この混合物を周囲温度に冷却し、5.5CCの50饅酢
酸水溶液を添加し、全体を濃縮する。
酸水溶液を添加し、全体を濃縮する。
次いで水と氷の混合物を添加する。生じた沈殿を真空濾
過し、洗浄し、乾燥する。
過し、洗浄し、乾燥する。
かくて5.4gの白色粉末を得、これをシリカでクロマ
トグラフィーL、85:15ベンゼン/酢酸エチル混合
物で溶離する。
トグラフィーL、85:15ベンゼン/酢酸エチル混合
物で溶離する。
RfO,37の生成物を単離する。
かくて、184℃で融解する4gの3,2゜−ビスメチ
ルオキシムー11β−ヒドロキシプレグナ−4−エン(
3位置bsE形)が得られる。
ルオキシムー11β−ヒドロキシプレグナ−4−エン(
3位置bsE形)が得られる。
また、RfO,20の生成物を単離する。
かくて、158℃で融解する0、69の3,2o−ビス
メチルオキシム−11β−ヒドロキシプレグt−4−エ
ン(3位置がZ形)が得られる。
メチルオキシム−11β−ヒドロキシプレグt−4−エ
ン(3位置がZ形)が得られる。
工程 C:
3.20−ビスメチルオキシム−11β−(pメトキシ
カルボニル)ベンゾイルオキシプレグナ−4−エン(E
形) 2.8gの工程Bで得られた化合物(E形)を82cc
の塩化メチレンに攪拌りながら導入する。
カルボニル)ベンゾイルオキシプレグナ−4−エン(E
形) 2.8gの工程Bで得られた化合物(E形)を82cc
の塩化メチレンに攪拌りながら導入する。
次いで8.49のp−メトキシカルボニル安息香酸無水
物、4.1ccのトリエチルアミン及び2.9gの4−
ジメチルアミノピリジンを添加する。
物、4.1ccのトリエチルアミン及び2.9gの4−
ジメチルアミノピリジンを添加する。
このようにして得られた混合物を還流させる。
300ccのベンゼンを添加し、次いで酸性硫酸カリウ
ムをpH1〜2となるまでゆっくりと添加する。
ムをpH1〜2となるまでゆっくりと添加する。
全体を水洗し、重炭酸ソーダ溶液で洗浄し、次いで中性
となるまで再び水洗する。
となるまで再び水洗する。
これを脱水し、蒸発させる。
かくて6.99.9の生成物を得、これをシリカでクロ
マトグラフィーする(溶離液は90:10ベンゼン/酢
酸エチル)。
マトグラフィーする(溶離液は90:10ベンゼン/酢
酸エチル)。
最も易動性の生成物を単離し、酢酸エチルで溶解し、か
くて90℃テ融解する3、20−ビスメチルオキシム−
11β−(p−メトキシカルボニル)ベンジルオキシプ
レグナ−4−エン(E形)が得られる。
くて90℃テ融解する3、20−ビスメチルオキシム−
11β−(p−メトキシカルボニル)ベンジルオキシプ
レグナ−4−エン(E形)が得られる。
工程 D:
3.20−ビスメチルオキシム−11β−へミテレフタ
ロイルオキシプレグナ−4−エン(E形) 1681rI9の工程Cで得られた化合物を4ccのエ
タノールに導入する。
ロイルオキシプレグナ−4−エン(E形) 1681rI9の工程Cで得られた化合物を4ccのエ
タノールに導入する。
4ccの0.5Nソーダ水溶液を過熱を避けて1滴ずつ
添加する。
添加する。
0.5時間攪拌後に8CCの水性エタノールを添加する
。
。
全体を溶解がほとんど完了するまで攪拌し続ける。
59ccの水を添加し、全体をエーテルで抽出する。
水性部分を1過し、pH1〜2となす。
沈殿が得られる。
生じた沈殿を真空1過し、水洗し、脱水する。かくて1
39■の生成物を得て酢酸エチルより再結晶し、かくて
250℃で融解する3、2o−ビスメチルオキシム−1
1β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エンが
得られる。
39■の生成物を得て酢酸エチルより再結晶し、かくて
250℃で融解する3、2o−ビスメチルオキシム−1
1β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エンが
得られる。
工程 E:
11β−へミテレフタロイルオキシプレグナ−4−エン
−3,20−ジオン 88■の工程りで得られた生成物を8ccの2N塩酸溶
液と8CCのアセトンに導入する。
−3,20−ジオン 88■の工程りで得られた生成物を8ccの2N塩酸溶
液と8CCのアセトンに導入する。
完全に加水分解し、アセトンを除去し、真空f過した後
、108℃で融解する50■の11β−へミテレフタロ
イルオキシプレグナ−4−エン−3,20−ジオンが得
られる。
、108℃で融解する50■の11β−へミテレフタロ
イルオキシプレグナ−4−エン−3,20−ジオンが得
られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式I 〔ここでXはα又はβ位置にあるヘミテレフタくH ロイルオキシ基を表わし、Yは 基を表わす〕の新規
なハプテンを製造するにあたり、次式(ここで波線はα
又はβ位置にあるヒドロキシル基を表わす) の11α−ヒドロキシプレグナ−4−エン−3,20−
ジオン又は11β−ヒドロキシプレグナ−4エン−3,
20−ジオンに次の一般式 (ここでalclは1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次式 の化合物を得、これにけん化剤を作用させて、使用した
出発物質にしたがって所望の11α−又は11β−化合
物を得ることを特徴とするハプテンの製造法。 2 次の一般式l 〔ここでXはβ位置にあるヘミテレフタロイル/H オキシ基を表わし、Yは\、 基を表わす〕H の新規なハプテンを製造するにあたり、次の一般式 (ここでKはケトン保護基を表わす) のケトン官能基をブロッキングした11β−ヒドロキシ
プレグナ−4−エン−3,20−ジオンに次の一般式 (ここでalclは1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす) のp−アルコキシカルボニル安息香酸無水物を作用させ
て次の一般式 の化合物を得、この化合物にけん化剤を作用させて次の
一般式 の化合物を得、この化合物にケトン基を遊離させ得る酸
加水分解剤を作用させて所望の化合物を得ることを特徴
とするハプテンの製造法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7423937A FR2277821A1 (fr) | 1974-07-10 | 1974-07-10 | Nouveaux haptenes derives de la progesterone, leur procede de preparation et leur application a la fabrication d'antigenes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5134145A JPS5134145A (ja) | 1976-03-23 |
| JPS5843399B2 true JPS5843399B2 (ja) | 1983-09-27 |
Family
ID=9141099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50084016A Expired JPS5843399B2 (ja) | 1974-07-10 | 1975-07-10 | プロゲステロンカラユウドウサレルシンキナハプテンノ セイゾウホウ オヨビ ソレラノ コウゲンノチヨウセイヘノシヨウ |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3988356A (ja) |
| JP (1) | JPS5843399B2 (ja) |
| AU (1) | AU8287275A (ja) |
| BE (1) | BE831154A (ja) |
| BR (1) | BR7504331A (ja) |
| DE (1) | DE2530902A1 (ja) |
| DK (1) | DK309775A (ja) |
| ES (1) | ES439258A1 (ja) |
| FR (1) | FR2277821A1 (ja) |
| IT (1) | IT1040863B (ja) |
| LU (1) | LU72934A1 (ja) |
| NL (1) | NL7508235A (ja) |
| SE (1) | SE7507354L (ja) |
| ZA (1) | ZA754416B (ja) |
Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS6043614U (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-27 | 椿本メイフラン株式会社 | プツシユバ−タイプコンベヤ |
| JPS60132814A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-15 | Enomoto Kogyo Kk | チツプ搬送用コンベア |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2235949B1 (ja) * | 1973-06-18 | 1978-03-17 | Roussel Uclaf |
-
1974
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-
1975
- 1975-06-26 SE SE7507354A patent/SE7507354L/xx unknown
- 1975-07-07 US US05/593,268 patent/US3988356A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-07-08 IT IT50423/75A patent/IT1040863B/it active
- 1975-07-09 DK DK309775A patent/DK309775A/da unknown
- 1975-07-09 LU LU72934A patent/LU72934A1/xx unknown
- 1975-07-09 ES ES439258A patent/ES439258A1/es not_active Expired
- 1975-07-09 BR BR7504331*A patent/BR7504331A/pt unknown
- 1975-07-09 BE BE158112A patent/BE831154A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-09 AU AU82872/75A patent/AU8287275A/en not_active Expired
- 1975-07-10 NL NL7508235A patent/NL7508235A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-07-10 ZA ZA00754416A patent/ZA754416B/xx unknown
- 1975-07-10 JP JP50084016A patent/JPS5843399B2/ja not_active Expired
- 1975-07-10 DE DE19752530902 patent/DE2530902A1/de active Pending
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| IT1040863B (it) | 1979-12-20 |
| JPS5134145A (ja) | 1976-03-23 |
| DK309775A (da) | 1976-01-11 |
| NL7508235A (nl) | 1976-01-13 |
| BR7504331A (pt) | 1976-07-06 |
| BE831154A (fr) | 1976-01-09 |
| SE7507354L (sv) | 1976-01-12 |
| LU72934A1 (ja) | 1976-05-31 |
| FR2277821A1 (fr) | 1976-02-06 |
| ES439258A1 (es) | 1977-06-01 |
| ZA754416B (en) | 1976-08-25 |
| DE2530902A1 (de) | 1976-01-29 |
| US3988356A (en) | 1976-10-26 |
| FR2277821B1 (ja) | 1983-04-15 |
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