JPS5845352A - 打抜性の優れたセミプロセス電磁鋼板とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、打抜性の優れた七磯プｐ七ス電磁鋼板とその
製造方法に関し、すなわち本発明は、打抜後歪取焼鈍処
理を施して用いる打抜性の優れた冷間圧延無方向性セミ
プロセス電磁鋼板とその製造方法に関するものである。

無方向性電磁鋼板は、通常打抜いて使用される場合が多
いが、方向性電磁鋼板に比して８１含有量が低いものが
多く使われ、この場合には硬度が低くて材質が軟かく、
打抜性が悪いので、従来主として絶縁被膜処理あるいは
加工硬化処理を施すことによって打抜性の改善が計られ
てきた。

ところで、低珪素鋼板や純鉄系電磁鋼板では、その材質
の軟かさのため、打抜時に、力エリが発生しやすい。ま
た、この力エリの発生した板は、そのままでは積層でき
ないので、通常力エリ取りと呼ばれる力エリを削り取る
作業が施されるが、材質が軟かいと力エリがだれてしま
い、カエリ取りが困難である。ビッカース硬度が１００
以下の場合、この問題のため著しく打抜性が劣化するが
、ビッカース硬度が１３０以上であれば力エリが発生し
がたくなり、また、力エリが発生してちカエリ取りが容
易である。

従来ビッカース硬度が７３０以上の打抜性の良い電磁鋼
板を製造するためには、熱延板を冷却し、次に焼鈍した
後、再びに％以下の軽い冷延を施して出荷されている。

この場合、コ回目の軽圧延のため、加工硬化し、硬度は
高くなるので、打抜性の良いものが得られる。しかし、
コ回も冷延することは、コスト高となり、また、コ回目
の軽圧延により、導入された歪応力は、打抜後の焼鈍に
よって解放されるが、この時、板の形状がしばしば変形
する。これは圧延による歪の導入のされがたが均一でな
く、板厚方向や板面方向で差があるためと推定される。

例えば、真円に打抜いた板を焼鈍すると、楕円となった
り、反ったりすることがある。このため、後工程での組
立て時にトラブルが発生する。したがって、コストや打
抜後の焼鈍時の変形の点を考慮すると、未だ十分な製品
とはいいがたい。

また、絶縁被膜中に有機物を混入して、打抜性を改善す
る方法が従来知られているが、この方法では、有機物混
入によるコスト高が大きい。さらにｉ打抜性は向上する
が、材質は、本質的に軟かいため力エリが一度発生した
ものは前述のように、カエリ取りが困難であるという欠
点を有する。

本発明は、従来のセミプロセス醸磁銅板の有する前記諸
欠点を除ｔｉ−９改善したれ抜性の優れたセミプロセス
電磁鋼板とその製造方法を提供することを目的とするも
のであり、特許請求の範囲記載の電磁鋼板とその製造方
法を提供することによって前記目的を達成することがで
きる。すなわち本発明は、ビッカース硬ｆｉｌ　１３０
以上の打抜性の優れたセミプロセス電磁鋼板とその製造
方法を提供しようとするものである。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明者らは、電磁鋼板中の微細炭化物の析出状態を制
御することによって、材質の硬度を制御することができ
ることを新規に知見して、本発明を完成した。

電磁鋼板には、打抜後、そのまま使用されるフルプロ七
ス電磁鋼板と、打抜後、所定の焼鈍を施した後使用され
るセミプロセス鋼板がある。７％以下の８１含有社で、
セミプロセス鋼板として用いる場合、焼鈍後のビッカー
ス硬度が／３０以下となり打抜性が悪いため主として、
冷間圧延後に打抜き、歪取焼鈍を施して用いられる。し
かし、これでは前述のように、コスト高や、打抜後の焼
鈍の変形などをもたらすので、セミプロセス鋼板も冷延
後、焼鈍したままで製品とすることが望ましとして析出
させることにより、七電プロ七ス電磁鋼板の特性を損な
うことなく、ビッカース硬度を１３０以上とし、打抜性
を向上せしめつる方法を見出した。炭化物を組織中に微
細に分散９析出させると硬度が増加することは知られて
いる。しかし、電磁鋼板において、Ｃは電磁特性を著し
く損なったり、電気器機として、使用中に、磁気時効を
おこし特性を劣化させるため、０含有輩はできるだけ低
くすることが一般的である。

ところで、セミプロセス鋼板鋼板にあっては、打抜後に
歪取焼鈍が施されるが、この焼鈍は通常り３０℃で一時
間程度であり、この間同時に脱炭も進行する。この焼鈍
後の０含有量が０．０？）１％以下であれば１Ｇによる
電磁特性の劣化の影響は実用上問題とならないことが知
られている。

次に本発明を実験デー嚢について説明する。

各種成分の０．４！ｔ−の厚さの試料を歪取焼鈍で一般
的に用いられるＤＩガガス組成Ｈ２寡／コ弧。

００　：　ｔ　％　ｅ　Ｃ０２：！ｒ％−露点コ７℃、
残余Ｎｇ　）中７１０°Ｃの温度で２時間焼鈍した。こ
の場合の焼鈍前後のＯ分析値を第１表に示す。

第１表 第１表より、素材の０が０．０？％以下であれ番！。

打抜後の歪取焼鈍によって、実用上さしつかえないＯ量
である０、００に≦以下に脱炭することができることが
わかる。

凍に硬度について試験した結果について述べる。

Ｓｌ　ｔ　　ｏ、ｏａ　　襲　ｔ　　Ｏ：　　０．０！
　　％　−Ｍ司　：　０．コヂ　襲　ｔム１１０．０１
−の熱延板を大気中で焼鈍し、焼鈍時間を変えて咎試料
の０量をそれぞれ０．００１　％　ｅ　Ｏ，０／　％（
分析値０．０ｌｌ％）　、　０．０コ弧（分析値０．０
−０％）−０，０３％　（分析値０．０Ｊデー）會ｏ、
ｏｔｉ％（分析値ｏ、ｏ４Ｉｉ≦）に調整し、酸洗後Ｑ
０ｇ　ｍ１ｌｌの厚さに冷間圧延し、通常の連続焼鈍で
７７０℃で一分間焼鈍した後、冷却速度をダ００　”Ｑ
／ｍｉｘ　ｖ　１００℃／ｗａ　１ｎ　＋　４００”Ｃ
／！Ｅｌｉｎ　　＊　　ＥＯＯ℃／ｗｉｎ　　ｔ　　１
００θ’（／ｍｉｘ　　ｔ　　コｏｏｏ℃／ｍｌ　ｉ　
ｎ　ｐ３０００℃ｌ／ｗｒＬ＊　ｅ　！０００℃／ｍｉ
ｘにとり、室温まで冷却した。冷却後のビッカース硬度
はいずれもｌＪＯ以下であり、このままでは打抜性は悪
い。次に、すべての試料に１１０℃で一分間の時効析出
処理を施したところ、第７図に示されるように、０含有
量が０．０コ弧以上で、冷却速度がｔｏｏ℃／ｍｉｍ以
上の場合にビッカース硬度ｉｓｏ以上の値が得られるこ
とがわかった。

次に時効後の試料を電子顕微鏡（Ｘ　１００００　）で
観察したところ、第一図のように′、硬度が高い試料に
は微細な炭化物が多数析出していることが認められた。

そこで、析出物量平均距離とビツカースＩｉ［の関係を
調べた。これによれば第３図に示すように、析出物量平
均距離が０３ｐｖａ以下であればビッカース硬度が１３
０以上となることが確実であることがわかった。

このように、時効硬化に対して冷却速度が大きい場合に
効果が現れる理由は、急冷によって過飽和の固溶Ｏ量を
増やし、時効処理で、粒内に生ずる微細炭化物の量を増
加させるためであることがわかった。

次に、前出の試料中、Ｃ量を０．０参襲に調整したもの
を用い、酸洗後Ｑ、１ｍに冷間圧延し、通常の連続焼鈍
でｔ７Ｏ℃で１分間焼鈍した後、冷却速度をりＯθ”Ｃ
／ｗｉｎにとり、室温まで冷却した。次に、ｉｏｏ℃か
ら３００℃の温度で１０秒から１時間３０分の間時効処
理を施し、各々の硬度を調べたところ、第参図に示され
るように、／！０−コ！θ℃の間では、ｌＯ〜／ｌＯｓ
ｅａまでならばビッカース硬度／ＪＯ以上が得られるこ
と、また、７００℃前後では〃分間以上の保持によって
硬度が増していきビッカース硬度１３０以上が得られる
ことがわかった。

め、前出の試料中、０量を０．０ダ％に調整したものを
用い、酸洗後０．！−に冷間圧延し、通常の連続焼鈍で
ククθ℃で１分間焼鈍した後、冷却速度を７０θ℃／Ｅ
ｌ　ｉｎにとり、室温まで冷却した。次に、テンシロン
レベラーを用い歪量Ｏ１θ、コ、　ｏ、ｚ　、　１．０
外の加工処理を施した。歪量の計算は（ｊ−Ｊｏ）＋　
１６　Ｘ　／ＤＯ（剣で行った。但し、ここでｌｏ　ル
ペツー加工前の試料の長さ、Ｉ；レペラー加工後の試料
の長さである。レベラー加工後、２００℃の温度で１２
０ｇ＠６焼鈍し、レペラー加工の影響を調べた。

その結果を第−表に示す。同表で認められるように、レ
ペラー加工を施すことによって硬度は増々高まることが
わかり、歪付与の効果が認められた。

第１表 次に、本発明の成分の限定理由について述べる。

Ｓｌが１％を越える場合は、比較的容易にビッカース硬
度／３０以上が得られるので、Ｓｉは１％以下を対象と
する。Ａｊは電磁特性を向上させる元素であるが、この
クラスでは通常０．５％以下であるので、Ａ）はＯ，Ｓ
％以下を対象とする。Ｍｕは熱間脆性を改善するために
は、０．７％以上添加するかθ、ｊ　％を越えると時効
硬化が起こりにくくなるので、０．１〜Ｏ，Ｓ％の範囲
内Ｃ限定する。０は０．０１％以上ないと硬度１３０以
上を得がたいので、０．０−一以上とするが、ｏ、ｏｒ
％を越えると、前述のように、打抜後の歪取焼鈍で脱炭
不良を起こし、磁気特性を損うので、０．θコ〜Ｏ，Ｏ
Ｓ％の範囲内に限定する。Ｐは硬度を高める元素である
が、固溶状態で存在するため硬度増加には大きな寄与は
ない。但し、Ｏ６／−を越えると冷間加工性を損うので
、Ｐは０．７％以下に限定する０ 次に、本発明の製造条件を限定する理由を述べる。時効
硬化を効果的に起こすためには、第１図に示されるよう
に、冷却速度は６０θ”（／ｍｉｎ以上でなければなら
ない。但し、３００℃以下の温度については、第４Ｉ図
に示されるように、１５０−コｇ。

’Ｃテ１０〜／ｌＯｓｅａ　保持される必要があるので
、コｊＯ℃まで冷却後、ｌθθ”Ｃ／ｒｎｉｎ以下の冷
却速度で徐冷してもよいし、一度ｙｏｏ″Ｃ以下の一定
温度まで冷却し、再びｉｓｏ　〜コｓｏ℃で１０〜ｌｔ
Ｏｓｅａ間の時効処理を行ってもよい。また、このとき
、／５Ｏ−１３０℃の時効処理は、７５０〜８０℃で１
０〜／ｌＯｓｅａのコーティング焼付熱処理に置きかえ
ても同じ効果を有する。

第９図から判るように、２００℃から／θＯ℃近辺では
、長時間かけて徐冷しても硬度が高まるので６００℃／
ｗｍ　ｉ　ｍ以上の速度で冷却したコイルを、Ｊ００℃
〜１０℃の間の温度で巻き取りコイルの自己保熱を利用
して徐冷を行っても良い。巻取温度がｔ０℃未満では時
効硬化に時間がかかり過ぎ、実用的でないので、除外し
た。コイル巻取の後、コイルの冷却速度を制御する意味
で、重量の小さいコイルや温度の低いコイルについては
保熱カバーをつけることは有利である。従来、コイル巻
取温度はテンパーカラーの発生を抑えるために低い程良
いとされ、ｔＯ℃以下であるのが通例であり、前述のよ
うな本発明による処置はなされていない。

第−表に示されるように、急冷固溶処理と析出時効処理
との間に軽度の歪を導入することは、材質の硬度を高め
る上で効果的である。この歪を付加する手段として、レ
ベラーによる曲げ加工と、テンションロールによる引張
加工と、圧延ロールによるスキンバス加工とがあるが、
要は所走の歪を導入できればよく、この３うのいずれの
手段でも、またこれらの複合された手段でもよい。歪量
の評価は、レペラー加工とテンシロン加工のｆｌｌｋ合
ンパス加工の場合は（ｔｏ−ｔ）＋ｔｏｘ　ｔｏ／　（
％）で行う。但し、ｎｏ、ｔｏは加工処理前の試料の長
さと厚みであり、Ｊ、ｔは加工処理後の試料の長さと厚
みである。

この歪量は０．１　％を越えると、材料の打抜き後前述
したような歪取焼鈍における形状不良をもたらすので好
ましくなく、付加する歪量は００３％以下に限定する。

第１表に示されるように、硬度を高める上からは歪は付
加した方が有利であるが、コストアップの要因となるの
で、材料の価格と、打抜特性に応じて、歪付加処理は選
択すればよい。

次に本発明を実施例について比較例と共に説明する。

実施例！ 第３表 第３表に示す試料記号ムｔ　Ｂ　＊　Ｏｅ　Ｄの組成を
有する厚さ２鴎の熱延板を酸洗し、１回の冷延で最終厚
さＱ、ｊ；　１１１１とし、７「０℃の乾燥水素雰囲気
中で３分間連続焼鈍し、３００℃までデ００　”Ｃ／　
！ｌｌ１ｎの冷ｔｌｉｔ速度で冷却し、続いてコＳθ℃
から／！０”Ｃの間をＳＯｏ（／ｌ１１ｉｎの速度で冷
却した。

比較列！ 第３表に示す試料記号に、Ｆ、Ｇ、Ｈの組成を有する厚
さＪ−の熱延板を酸洗し、冷延以降は実施例１と同様の
処理を施した。

比較例璽 第３表に示す試料記号ム―ＢｔｏｔＤの組成を有する厚
さ°コ■の熱延板を酸洗し、１回の冷延で最終厚さＯＪ
−とし、り「０℃の乾燥水素雰囲気中で２分間連続焼鈍
し、１００℃までＪＯＯ℃／ｗｉｎの冷却速度で冷却し
た。

実施例璽 第Ｊ褒に示す試料記号ム、Ｂ、Ｏ，Ｄの組成を有する厚
さ１■の熱延板を酸洗し、１回の冷延で最終厚さ０．３
−とし、りｒ０℃の乾燥水素雰囲気中で３分間連続焼鈍
し、３００℃までデ０θ℃／ｍ１！１の冷却速度で冷却
した後、−５０℃の温度で０．３≦のスキンパス圧延を
行い、速やかに保熱炉（コｊＯ℃設定）に戻して、コ！
Ｏ℃から７３０℃の間をｓｏ℃／ｍｕｍの速度で冷却し
た。

実施例Ｉ 第３表に示す試料記号Ｂｅｏと同一の組成を有する厚さ
１■の工場熱延コイルを酸洗工程、冷延工程を経て最終
厚さく７．ｊ　Ｗとした後、連続焼鈍を施した。連続焼
鈍の条件は、ｔｒｚｏ”ｃの乾燥窒素雰囲気中で３分間
通板後、９００℃／　ｗｉｎの冷却速度で６θ℃まで冷
却後、続いて、時効帯でＪｏｏ”ｃの温度で一分間の時
効処理をした。

実施例■ 第３表に示す試料記号Ｂｅ（３と同一の組成を有する厚
さ２簡の工場熱延コイルを酸洗工程、冷延工程を経て最
終厚さＯ，Ｓ■とした後、連続焼鈍炉において焼鈍した
。連続焼鈍の条件は、ｔｚｏ”ｃの乾燥窒素雰囲気中で
一分間通板後、９００℃／　ｗｉｍの冷却速度で６θ℃
まで冷却後、続いて、ルーバ一部でｏ、ｒ％の歪を付加
した後、時効帯でコｏＯ℃の温度で一分間の時効処理を
した。

実施例■ 第３表に示す試料記号Ｂ、Ｏと同一の組成を有する厚さ
コ鋪の工場熱延フィルを酸洗工程、冷延工程を経て最終
厚さＯ，Ｓ−とした後、連続焼鈍を施した。連続焼鈍の
条件は、乾燥窒素雰囲気中、τ００″Ｃでコ分間通板後
、続いてデ００℃／ｗｉｎの冷却速度で急冷し、１００
℃の温度でコイルを巻き取ったＯ 実施例Ｖ 第３表に示す試料記号Ｂ、Ｏと同一の組成を有する厚さ
１−の工場の熱延コイルを陵洗工程−冷延工程を経て最
終厚さ０．ｊ　ｓｓにした後、連続焼鈍炉で焼鈍した。

連続焼鈍の条件は、乾燥窒素雰囲気中、ｔ００℃で一分
間通板後、続いてデ００℃／ｗｉｎの冷却速度で急冷し
、ルーバ一部で０．３弧の歪を付加した後、ｉｏｏ℃の
温度でコイルを巻き取った。

実施例貰 第３表に示す試料番号Ｂ、Ｏと同一の組成を有する厚さ
１−の工場熱延コイルを醗洗工程、冷延工程を経て最終
厚さ０．ｊ　１１１１とし、連続焼鈍炉で焼鈍した後、
コーティング焼付処理を施した。連続焼鈍の条件は、乾
燥窒素室囲気中、ｔｏθ℃で３分間通板後、デ００℃／
膳１鳳の冷却速度で冷却した。コーティング焼付処理の
５条件は板温、−００℃で１分間である。

実施例■ 第３表に示す試料記号Ｂ−Ｃと同一の組成を有する厚さ
一簡の工場熱延コイルを酸洗工程、冷延工程を経て最終
厚さＱ、ｊｆ　ｍ１Ｉｌｌとし、連続焼鈍炉で焼鈍シた
後、コーティング焼付処理を施した。連続焼鈍の条件は
、乾燥窒素雰囲気中、１００℃で３分間通板後、９００
℃／　ｗｉｎの冷却速度で冷却し〆後、ルーバ一部で０
３％の歪を付加した。コーティング焼付条件は板温コ０
０″Ｃで１分間である。

実施例１〜■、比較例Ｉ、、１の試料またはコイルは、
ビッカース硬度を測定した後、３０ｘコｔＯＷの大きさ
に剪断し、積層した後、７１０″Ｃの温度でコ時間ＤＸ
ガス（組成Ｈ２：　／Ｊ　％　ｔ　Ｃｏ　：　ｔ　％　
ｅＣ０２：　ｋ　％　ｅ露点コク℃、残余Ｈｚ　）中で
歪取焼鈍を行い、０分析をして脱炭性を調べた。以上の
結果を第９表に示す。

以上本発明の電磁鋼板は、従来のセミプロセス電磁鋼板
と興なり、鋼板の打抜き時にその結晶粒内に平均距離が
０．１１７ｍｍ以下の分散した微細炭化物からなる析出
物を有し、ビッカース硬度が７３０以上であるため打抜
性が優れており、また本発明時によれば、上記打抜性に
優れたセミプ田セス電磁ｉ７、／、、　ｎｉ、Ｄｓエヶ
っ明　　　　　　　　　　　　崖電磁鋼板の組織中の微
細炭化物の析出分散状態を示す亀子顕微鏡写真（ｘ　ｔ
ｏｏｏｏ　）　、第３図は析出炭化物間の平均距離とビ
ッカース硬度との関係を示す図、第４１図は鋼板の時効
温廣と時効時間とが硬度（Ｈマ）に及ぼす影響を示す図
である。

特許出願人　川崎製鉄株式金社 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ｓｉ／％以下炉ムｌ　Ｏ，ｒ　％以下＋　Ｋｎθ、
   ／〜Ｏ，ｊ％、　Ｑ　Ｏ，０−〜θ、ｏｒ％ｒ　Ｐ　ｏ
   、ｔ％％以下残部実質的にＦｅよりなるセミプロセス電
   磁鋼板において、前記鋼板の打抜き時にその結晶粒内に
   平均距離が０６＃μ層以下の分散した微細炭化物からな
   る析出物を有し、ビッカース硬度が７３０以上であり、
   打抜き後歪取焼鈍処理を施して用いる打抜性の優れたセ
   ミプロセス電磁鋼板。 ２．８１／％以下＋　Ａｔ　ｏ−ｓ％％以下　Ｍｌｌ　
   Ｏ−／輸ｏ、ｔ％Ｉ　Ｏ０，０−〜０００５％−Ｐ　Ｏ
   ，／％以下。 残部実質的にＦｅよりなる熱延綱板に冷間圧延を施して
   最終板厚の冷延鋼板を得た後、この冷延鋼板に７００〜
   ９ま０℃で０．２〜ｊ　ｘｉ鳳の焼鈍を施し、引続いて
   ４００℃／＋ｍｉｎ以上の冷却速度で高くとも３００℃
   まで急冷し、次いで３００〜コ！θ℃の間で必要により
   ０．１　％以下の歪を付加させた後、１ｔＯ−１１０℃
   の間を１００’Ｃ／ｆｆ１ｉｎ以下の冷却速度で徐冷す
   ることを特徴とする結晶粒内に平均距離が０．４１ｐｍ
   以下の分散した微細炭化物からなる析出物を有し、ビッ
   カース硬度／３０以上である打抜性の優れたセミプロセ
   ス電磁鋼板の製造方法。 ３．８１／％以下ｔ　１４　ｏ、ｚ　％以下ｅ　Ｋｎ　
   Ｏ，１〜０．３％ｅ　ＯＯ，０２〜０．０！弧Ｉ　Ｐ　
   Ｏ，／％以下！残部実質的にｒｅよりなる熱延鋼板に冷
   間圧延を施して最終板厚の冷延鋼板を得た後、この冷延
   鋼板にりθθ〜ｔ！θ℃でθ、！〜ｊＩ！１１ｍの焼鈍
   を施し、引続いて４００℃／ｍ　ｉ＊以上の冷却連関で
   ３００〜２５０℃まで冷却し、この温度範囲内で必要に
   より０．に％以下の歪を付加させ、次いで１２０〜λＳ
   Ｏ℃で１０〜／１０　！ｌ＠６の時効処理を施すことを
   特許とする結畝粒内に平均距離が０．４１μ重以下の分
   散した微細炭化物からなる析出物を有し、ビッカース硬
   度／３０以上である打抜性の優れた七文プロセス電磁鋼
   板の製造方法。 ４．８１７％以下、　ＡＪ　Ｏ，ｒ　％以下ｅ　Ｍｕ　
   Ｏ，／　〜Ｏ０ｊ％ｅ　ＯＯ，０２〜０．０１％ｅ　Ｐ
   　Ｏ，／≦以下。 残部実質的にＦｓよりなる熱延鋼板に冷間圧延を施して
   最終板厚の冷延鋼板を得た後、この冷ｉ鋼＆にり００〜
   ９３０℃で００１４膳１ｎの焼鈍を施し、引続いて４０
   ０℃／　ｗｉｎ以上の冷却速度で２００℃まで急冷し、
   この急冷中の３０θ〜−００℃の間に必要によりＯ，Ｓ
   ％以下の歪を付加させ、引続いて一００〜ｔＯ℃の間で
   鋼板を巻きとることを特徴とする結晶粒内に平均距離が
   ０＊４’　／ＪＩＢ以下の分散した微細炭化物よりなる
   析出物を有し、ビッカース硬度／３０以上である打抜性
   の優れたセミプロセス電磁鋼板の製造方法。 ５、Ｓｉ／％以下ｔ　ＡＪ　Ｏ，、ｔ　％以下＊　Ｋｎ
   　Ｏ，／　〜０、！ｒ％＊　Ｏｏ−ｏλ〜０．０ｋ　％
   　＃　Ｐ　Ｏ，／　％以下。 残部実質的にＦｅよりなる熱延鋼板に冷間圧延を施して
   最終板厚の冷延鋼板を得た後、この冷延鋼板にり００〜
   ００℃で０．！〜！ｆ　ｗｉｎの焼鈍を施し、引続いて
   ４００℃／■ｉｍ以上の冷却速度で１ｋ０°Ｃまで急冷
   し、この急冷の間に必要により０．２−以下の歪を付加
   させ、引続いて／１０〜２１０℃の間でｌθ〜／ｌＯｓ
   ｅａのコーティング焼付処理を施すことを特徴とする結
   晶粒内に平均距離が０．ｆｐｍ以下の分散した微細炭化
   物よりなる析出物を有し、ビッカース硬度／３０以上で
   ある打抜性の優れたセミプロセス電磁鋼板の製造方法。