JPS5845566A - 生化学自動分析装置における洗浄装置 - Google Patents
生化学自動分析装置における洗浄装置Info
- Publication number
- JPS5845566A JPS5845566A JP56142471A JP14247181A JPS5845566A JP S5845566 A JPS5845566 A JP S5845566A JP 56142471 A JP56142471 A JP 56142471A JP 14247181 A JP14247181 A JP 14247181A JP S5845566 A JPS5845566 A JP S5845566A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- vessel
- liquid
- cleaning
- reaction vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L13/00—Cleaning or rinsing apparatus
- B01L13/02—Cleaning or rinsing apparatus for receptacle or instruments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
- B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
- B01L3/508—Rigid containers without fluid transport within
- B01L3/5082—Test tubes per se
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は生化学自動分析装置における洗浄装置に関する
ものである。
ものである。
生化学自動分析装置とは、例えば多数の愈清試料會履次
1つづつ反応容器に分注した後、そとに分析対象とする
化学成分0灰応試薬を注入して反応を進め、その反応し
た試料を光に当てることによ)透過光量を測定して分析
を行なう装置である・とζろでこれに使用された反応容
器管洗浄する洗浄装置KToって杜、従来洗浄水を反応
容器に供給して洗浄がなされるように構成されてい九〇
しかしながら、ζOslの洗浄装置にあっては、水を使
用するため洗浄及び乾燥に比較的時間を要し、ひいては
生化学自動分析装置による分析及び洗浄の処理サイクル
の効率を低下させるという欠点があった◇ 本発明は上記事情に基づいてなされたものであ)、反応
容器の洗浄及び乾燥を効率的に行なうことができる生化
学自動分析装置における洗浄装置を提供することを目的
とするものである0本発明は、揮発性洗浄液(例えばメ
タノール。
1つづつ反応容器に分注した後、そとに分析対象とする
化学成分0灰応試薬を注入して反応を進め、その反応し
た試料を光に当てることによ)透過光量を測定して分析
を行なう装置である・とζろでこれに使用された反応容
器管洗浄する洗浄装置KToって杜、従来洗浄水を反応
容器に供給して洗浄がなされるように構成されてい九〇
しかしながら、ζOslの洗浄装置にあっては、水を使
用するため洗浄及び乾燥に比較的時間を要し、ひいては
生化学自動分析装置による分析及び洗浄の処理サイクル
の効率を低下させるという欠点があった◇ 本発明は上記事情に基づいてなされたものであ)、反応
容器の洗浄及び乾燥を効率的に行なうことができる生化
学自動分析装置における洗浄装置を提供することを目的
とするものである0本発明は、揮発性洗浄液(例えばメ
タノール。
メタノール水溶液、エタノール等)を使用するとともに
、この揮発性洗浄液及びその蒸気が広範に飛散及び充満
しないようKして上記目的を達成しようとするものであ
る0 次に本発明を図面に示す実施側管参照しながら説明する
。
、この揮発性洗浄液及びその蒸気が広範に飛散及び充満
しないようKして上記目的を達成しようとするものであ
る0 次に本発明を図面に示す実施側管参照しながら説明する
。
第1図は本発明装置の一実施例を示す概略説明図であシ
、第2図は同装置の要部を示す斜視図である。図におい
て1は複数の反応容器2を所定ピッチで配置した反応容
器搬送部材例えば無端チェーンである。この無端チェー
ン1は、所定ピッチととに折曲部3・を有する複数のリ
ンクプレート3が取付けられ、各リンクプレート3の折
曲部3aにはホルダ4の一端部が回転自在に枢支されて
構成されてお〕、このホルダ4の中間部Ka反応容器2
の外周部と嵌合して反応容器2を装着できる装着部4−
が設けられているとともに、ホルダ4の他端部には第1
の保合部例えば平担面を有する凸部4hが設けられてい
る0このようにして構成された無端チェー/1は駆動部
5を介して図示矢印入方向に所定ピッチで間欠的に回転
駆動されるようになっている。なお反応容器10所定休
止位置においては、図示しない生化学自動分析装置に内
蔵されている分注装置2分析装置、試料回収装置勢によ
)順次前記反応容器1への試料の分注1分析。
、第2図は同装置の要部を示す斜視図である。図におい
て1は複数の反応容器2を所定ピッチで配置した反応容
器搬送部材例えば無端チェーンである。この無端チェー
ン1は、所定ピッチととに折曲部3・を有する複数のリ
ンクプレート3が取付けられ、各リンクプレート3の折
曲部3aにはホルダ4の一端部が回転自在に枢支されて
構成されてお〕、このホルダ4の中間部Ka反応容器2
の外周部と嵌合して反応容器2を装着できる装着部4−
が設けられているとともに、ホルダ4の他端部には第1
の保合部例えば平担面を有する凸部4hが設けられてい
る0このようにして構成された無端チェー/1は駆動部
5を介して図示矢印入方向に所定ピッチで間欠的に回転
駆動されるようになっている。なお反応容器10所定休
止位置においては、図示しない生化学自動分析装置に内
蔵されている分注装置2分析装置、試料回収装置勢によ
)順次前記反応容器1への試料の分注1分析。
反応容器1よシの試料の回収等がなされるようになって
いる◎そしてこの図示しない試料回収装置O後には試料
の回収された反応容器1を内部に収客して洗浄する洗浄
室6が設けられている0この洗浄室6は反応容器2の搬
送経路に沿って入口61と出口6&とが般社られている
とともに、この入口。
いる◎そしてこの図示しない試料回収装置O後には試料
の回収された反応容器1を内部に収客して洗浄する洗浄
室6が設けられている0この洗浄室6は反応容器2の搬
送経路に沿って入口61と出口6&とが般社られている
とともに、この入口。
6畠から向って第2図示右壁面には前記ホルダ4を逃げ
るための逃げ切欠6oが入口6aから出口6bK至るま
で連通して設けられ、その他の部分はほぼ壁面にFMす
れている(なお第2図においては天井の一部を切欠して
図示しである)。そして前記入口66と出口6hと逃げ
切欠6cとには遅閉部材例えば入口6Gには第2図示B
、 B’力方向スライド可能な入ロ遮閉板7必が設け
られ、出口6bには第2図示c 、 c’方向にスライ
ド可能な出口迩閉板7hが設けられ、逃げ切欠6aKは
ホルダ40基端部の通過に支障のないシリ;ンゴムシー
ル(図示せず)が設けられている0このように洗浄室6
の内部は外部とほぼ線断されるように構成されているO
そしてこの洗浄室6の天井Kd揮発性洗浄箪例えばメタ
ノール管噴射するノズル8藝とこOノズ#8藝にメタノ
ールを供給する供給管8&とが堆付けられ、床両には前
記ノズル86から噴射されたメタノール等を廃液処理装
置9番に回収するための回収管9暴が取付けられている
0またこの洗浄室60入口66から−向って第2図示左
壁面にはプレーキトモータ10のモータ軸10−が洗浄
室6内部に挿入されるようにして配置されてシシ、この
モータ軸10−の先端には前記ホルダ4の凸部4&に係
合する落2の保合部例えば凹部11mを有するジヨイン
ト11が取付けられている。なお前記ホルダ4に装着さ
れている反応容器2を略鉛直に保持するために前記ホル
ダ4の凸部4&の下面と係合するガイドレイル12が前
記無端チェーン1に沿って洗浄室6外部に張設され、さ
らにホルダ4の凸部4hを前記ジヨイント11の凹部1
1a K確実に導入するために洗浄室6内部にはガイド
チップ15が配置されているOまた前記洗浄室6の出口
6条先方には反応容器2内に付着して残存して−る試料
及びメタノール等の液分!拭き取るためO拭取部材例え
にスポンジ棒14が第2図示り、D’方向に往復動可能
に設けられている0そして前記入口遮閉収7Gと出ロ迩
閉板7番とスポンジ棒14と0駆動源として例えば入口
纏閉板用シリンダニニット15−と出ロ値閉板用シリン
ダ:S−エツト15&とスポンジ棒用シリンダ^ニット
15#とが設けられ、さらにメタノール貯蔵タンタ16
よシ前記供給管8&にメタノールを供給するためO供給
ポンプ17が設けられているOこれらシリンダユニット
156〜15aと供給ポンプ17とは、前記無端チェー
ン1の駆動部5とプレーキトそ一タ10とと%に中央制
御部18によ〕作動タイミングが制御されるようになっ
ているGすなわち中央制御部18よシの制御信号81に
より駆動部5を介して前記無端チェーン1が間欠的に回
転駆動され、この無端チェーン10回転駆動時において
は、無端チェーン1によ〕搬送されてくる反応容器2を
前記洗浄室AKrfL容すべく中央制御部18よ)の制
御信号8sKよシ入口迩閉板用シリンダニエツト15・
が駆動されるとともに、洗浄室6内に収容されている反
応容器2を送出するため中央制御部18よシの制御信号
SsKよシ出ロ迩閉板用シリンダユニット15&が駆動
されて両速閉板7・。
るための逃げ切欠6oが入口6aから出口6bK至るま
で連通して設けられ、その他の部分はほぼ壁面にFMす
れている(なお第2図においては天井の一部を切欠して
図示しである)。そして前記入口66と出口6hと逃げ
切欠6cとには遅閉部材例えば入口6Gには第2図示B
、 B’力方向スライド可能な入ロ遮閉板7必が設け
られ、出口6bには第2図示c 、 c’方向にスライ
ド可能な出口迩閉板7hが設けられ、逃げ切欠6aKは
ホルダ40基端部の通過に支障のないシリ;ンゴムシー
ル(図示せず)が設けられている0このように洗浄室6
の内部は外部とほぼ線断されるように構成されているO
そしてこの洗浄室6の天井Kd揮発性洗浄箪例えばメタ
ノール管噴射するノズル8藝とこOノズ#8藝にメタノ
ールを供給する供給管8&とが堆付けられ、床両には前
記ノズル86から噴射されたメタノール等を廃液処理装
置9番に回収するための回収管9暴が取付けられている
0またこの洗浄室60入口66から−向って第2図示左
壁面にはプレーキトモータ10のモータ軸10−が洗浄
室6内部に挿入されるようにして配置されてシシ、この
モータ軸10−の先端には前記ホルダ4の凸部4&に係
合する落2の保合部例えば凹部11mを有するジヨイン
ト11が取付けられている。なお前記ホルダ4に装着さ
れている反応容器2を略鉛直に保持するために前記ホル
ダ4の凸部4&の下面と係合するガイドレイル12が前
記無端チェーン1に沿って洗浄室6外部に張設され、さ
らにホルダ4の凸部4hを前記ジヨイント11の凹部1
1a K確実に導入するために洗浄室6内部にはガイド
チップ15が配置されているOまた前記洗浄室6の出口
6条先方には反応容器2内に付着して残存して−る試料
及びメタノール等の液分!拭き取るためO拭取部材例え
にスポンジ棒14が第2図示り、D’方向に往復動可能
に設けられている0そして前記入口遮閉収7Gと出ロ迩
閉板7番とスポンジ棒14と0駆動源として例えば入口
纏閉板用シリンダニニット15−と出ロ値閉板用シリン
ダ:S−エツト15&とスポンジ棒用シリンダ^ニット
15#とが設けられ、さらにメタノール貯蔵タンタ16
よシ前記供給管8&にメタノールを供給するためO供給
ポンプ17が設けられているOこれらシリンダユニット
156〜15aと供給ポンプ17とは、前記無端チェー
ン1の駆動部5とプレーキトそ一タ10とと%に中央制
御部18によ〕作動タイミングが制御されるようになっ
ているGすなわち中央制御部18よシの制御信号81に
より駆動部5を介して前記無端チェーン1が間欠的に回
転駆動され、この無端チェーン10回転駆動時において
は、無端チェーン1によ〕搬送されてくる反応容器2を
前記洗浄室AKrfL容すべく中央制御部18よ)の制
御信号8sKよシ入口迩閉板用シリンダニエツト15・
が駆動されるとともに、洗浄室6内に収容されている反
応容器2を送出するため中央制御部18よシの制御信号
SsKよシ出ロ迩閉板用シリンダユニット15&が駆動
されて両速閉板7・。
7kが開閉されるようになって訃〕、またこの無端チェ
ーン1の休止時においては、中央制御部18よりの制御
信号84によシ前記供給ポンプ17が作動されるととも
に、制御信号Smによシ前記プレー午ドモータ10が1
回転駆動され、これと同時に制御信号Ssによシ前記ス
ポンジ棒用シリンダニエツト15gが作動されるように
タイきングが制御されている。なお前記説明した部材中
メタノール等の揮発性洗浄液に触れる部材例えば洗浄室
6等を構成している材料はメタノール等に侵されない材
料例えばアクリル樹脂以外のスチレン樹脂又はポリエチ
レン樹脂等からできている。
ーン1の休止時においては、中央制御部18よりの制御
信号84によシ前記供給ポンプ17が作動されるととも
に、制御信号Smによシ前記プレー午ドモータ10が1
回転駆動され、これと同時に制御信号Ssによシ前記ス
ポンジ棒用シリンダニエツト15gが作動されるように
タイきングが制御されている。なお前記説明した部材中
メタノール等の揮発性洗浄液に触れる部材例えば洗浄室
6等を構成している材料はメタノール等に侵されない材
料例えばアクリル樹脂以外のスチレン樹脂又はポリエチ
レン樹脂等からできている。
次に上記洗浄装置の動作について説明する。前記中央制
御部18よシ制御信号S1が出力されると駆動部5を介
して前記無端チェーン1が図示矢印A方向に所定ピッチ
で間欠的に回転駆動され、無端チェーン10回転駆動時
においては制御信号8.e8sが出力され、無端チェー
ン1の休止時においては制御信号84〜S・が出力され
、各反応容器2は一定ナイクルで順次洗浄がなされるこ
ととなる。そこで例えば洗浄室6手前の最も近い反応容
器2の洗浄作用を搬送経路に沿りて具体的に説明すると
、先ず中央制御部18から前記入口迩閉板用シリンダニ
ニット15−へ制御信号Smが出力され、入ロ迩閉板7
畠が第2図示C方向に移動して入口6mが開かれて反応
容器2が洗浄室6に収容され、その後第2図示C方向に
移動して入口6偲が閉じられる。
御部18よシ制御信号S1が出力されると駆動部5を介
して前記無端チェーン1が図示矢印A方向に所定ピッチ
で間欠的に回転駆動され、無端チェーン10回転駆動時
においては制御信号8.e8sが出力され、無端チェー
ン1の休止時においては制御信号84〜S・が出力され
、各反応容器2は一定ナイクルで順次洗浄がなされるこ
ととなる。そこで例えば洗浄室6手前の最も近い反応容
器2の洗浄作用を搬送経路に沿りて具体的に説明すると
、先ず中央制御部18から前記入口迩閉板用シリンダニ
ニット15−へ制御信号Smが出力され、入ロ迩閉板7
畠が第2図示C方向に移動して入口6mが開かれて反応
容器2が洗浄室6に収容され、その後第2図示C方向に
移動して入口6偲が閉じられる。
なおこのとき反応容器2を保持しているホルダ40基端
部は洗浄室に設けられている前記逃げ切欠6#を通過す
ることとなる。そしてこのようにして洗浄室6に収容さ
れた反応容I)2は無端チェーン1の休止にともなって
搬送が停止される。搬送が停止された反応容器2社前記
ノズル8−の下に位置するとともに1反応容・Ii2を
保持しているホルダ4に設けられた凸部4hが前記ジ璽
インド11の凹部11−に係合する0このとき前記中央
制御部18よ)供給ポンプ17へ制御信号S4が出力さ
れて前記ノズル8・よジメタツールが所定時間噴射され
、反応容器2の洗浄がなされる0その後制御信号T。
部は洗浄室に設けられている前記逃げ切欠6#を通過す
ることとなる。そしてこのようにして洗浄室6に収容さ
れた反応容I)2は無端チェーン1の休止にともなって
搬送が停止される。搬送が停止された反応容器2社前記
ノズル8−の下に位置するとともに1反応容・Ii2を
保持しているホルダ4に設けられた凸部4hが前記ジ璽
インド11の凹部11−に係合する0このとき前記中央
制御部18よ)供給ポンプ17へ制御信号S4が出力さ
れて前記ノズル8・よジメタツールが所定時間噴射され
、反応容器2の洗浄がなされる0その後制御信号T。
が前記プレーキトそ一夕10に出力されると、前記リン
クプレー)3に回転自在に枢支されているホルダ4が反
応容器2f:保持したtま1回転され、反応容器2内に
溜ったメタノール等の廃液が流し落とされて前記廃液処
理装置9aK送られることとなる口そして再び前記無端
チェーン1が駆動されると前記中央制御部18よ〕出口
迩閉板用シリンダユニット154に制御信号SSが出力
され、出口鐘閉板ハが第2図示C方向に移動して出口6
&が開かれて反応容器2が洗浄室6外部に運び出され、
その後第2図示C方向に移動して出口6&が閉じられる
。このようにして運び出された反応容器2は無端チェー
ン1の次の休止にともなって再び搬送が停止され、前記
スポンジ棒14の下に位置することとなる。このとき中
央制御部18よシ前記スポンジ棒用シリンダヱニット1
5#へ制御信号拗が出力され、このスポンジ棒14が第
2図示C方向に移動して反応容1)2内に挿入され、反
応容器2内に残存している試料等の液分の拭き取りがな
されることとなる0そしてこのスポンジ棒14が第2図
示り方向に抜き取られ、洗浄作用のワンサイクルを終了
することとな之@このように反応容器2にメタノールを
噴射するとともにスポンジ棒14によって拭き取〕がな
されるので反応容器の洗浄及び乾燥を極めて効率的に行
なうことができるとともに、滅菌効果を得ることもでき
、しかもメタノールの噴射は洗浄室6内で行なわれるの
でメタノールの飛散を防止することも可能となる・上記
実施例においては、無端チェーンを水平面内で間欠枢動
できるようにして構成したが、これに限定されるもので
紘なく、開口部を上方に向けて反応容器管取付けた無端
チェーンt−鉛直面内で間欠回転駆動できるようにする
とともに、無端チェーンの反転にともなって反応容器が
倒立されて反応容器の開口部が下方に向けられるようK
し、倒立された反応容器を洗浄及び乾燥できる位置に洗
浄室と拭取部材とを配置して構成することも可能である
◎なおこの場合には反応容器を保持する前記ホルダを回
転自在に枢支する必要もなく、さらに前記プレーキトモ
ータ勢も設ける必要がなくなるOtた反応容器を複数列
設け、一度に複数本の反応容器を洗浄できるように洗浄
室を構成することも可能で1り、その他事発明の要旨の
範囲内において種々の変形実施が可能であることは言う
までもない。
クプレー)3に回転自在に枢支されているホルダ4が反
応容器2f:保持したtま1回転され、反応容器2内に
溜ったメタノール等の廃液が流し落とされて前記廃液処
理装置9aK送られることとなる口そして再び前記無端
チェーン1が駆動されると前記中央制御部18よ〕出口
迩閉板用シリンダユニット154に制御信号SSが出力
され、出口鐘閉板ハが第2図示C方向に移動して出口6
&が開かれて反応容器2が洗浄室6外部に運び出され、
その後第2図示C方向に移動して出口6&が閉じられる
。このようにして運び出された反応容器2は無端チェー
ン1の次の休止にともなって再び搬送が停止され、前記
スポンジ棒14の下に位置することとなる。このとき中
央制御部18よシ前記スポンジ棒用シリンダヱニット1
5#へ制御信号拗が出力され、このスポンジ棒14が第
2図示C方向に移動して反応容1)2内に挿入され、反
応容器2内に残存している試料等の液分の拭き取りがな
されることとなる0そしてこのスポンジ棒14が第2図
示り方向に抜き取られ、洗浄作用のワンサイクルを終了
することとな之@このように反応容器2にメタノールを
噴射するとともにスポンジ棒14によって拭き取〕がな
されるので反応容器の洗浄及び乾燥を極めて効率的に行
なうことができるとともに、滅菌効果を得ることもでき
、しかもメタノールの噴射は洗浄室6内で行なわれるの
でメタノールの飛散を防止することも可能となる・上記
実施例においては、無端チェーンを水平面内で間欠枢動
できるようにして構成したが、これに限定されるもので
紘なく、開口部を上方に向けて反応容器管取付けた無端
チェーンt−鉛直面内で間欠回転駆動できるようにする
とともに、無端チェーンの反転にともなって反応容器が
倒立されて反応容器の開口部が下方に向けられるようK
し、倒立された反応容器を洗浄及び乾燥できる位置に洗
浄室と拭取部材とを配置して構成することも可能である
◎なおこの場合には反応容器を保持する前記ホルダを回
転自在に枢支する必要もなく、さらに前記プレーキトモ
ータ勢も設ける必要がなくなるOtた反応容器を複数列
設け、一度に複数本の反応容器を洗浄できるように洗浄
室を構成することも可能で1り、その他事発明の要旨の
範囲内において種々の変形実施が可能であることは言う
までもない。
以上の説明から明らかなように本発明の生化学自動分析
装置における洗浄装置[4つては、反応容器の洗浄及び
乾燥を効率的に行なうことができるなどの優れた効果を
有するものである。
装置における洗浄装置[4つては、反応容器の洗浄及び
乾燥を効率的に行なうことができるなどの優れた効果を
有するものである。
第1図は本発明装置の一実施例含水す概略説明図、第2
図は同装置の要部を示す斜視図である。 1・・・反応容器搬送部材(無端チェーン)、2・・・
反応容器、 6−・洗浄室4 8m・・・ノズル、14
・・・拭取部材(スポンジ棒)0
図は同装置の要部を示す斜視図である。 1・・・反応容器搬送部材(無端チェーン)、2・・・
反応容器、 6−・洗浄室4 8m・・・ノズル、14
・・・拭取部材(スポンジ棒)0
Claims (1)
- 反応試薬と分析試料とが注入される複数の反応容器を反
応容器搬送部材によ)順次搬送して反応容器の洗浄を行
なう生化学自動分析装置において、前記反応容器搬送部
材によ)搬送されてくる分析終了後の反応容器を収容す
るとともに、収容された反応容器に揮発性洗浄液を噴射
するノズルを備える洗浄室と、前記反応容器搬送部材に
よ)搬送されて前記洗浄室から送出された反応容器内の
液分を拭き取る拭取部材とを設け、前記洗浄室と拭取部
材とによ)反応容器の洗浄及び乾燥を行なう仁とを特徴
とする生化学自動分析装置における洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142471A JPS5845566A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 生化学自動分析装置における洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142471A JPS5845566A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 生化学自動分析装置における洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5845566A true JPS5845566A (ja) | 1983-03-16 |
| JPH0323870B2 JPH0323870B2 (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=15316084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56142471A Granted JPS5845566A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 生化学自動分析装置における洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5845566A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54178584U (ja) * | 1978-06-07 | 1979-12-17 | ||
| JPS5536769A (en) * | 1978-09-07 | 1980-03-14 | Nippon Tectron Co Ltd | Wipe-out device of residual liquid of reaction pipe bottom in automatic chemical analysis device |
-
1981
- 1981-09-11 JP JP56142471A patent/JPS5845566A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54178584U (ja) * | 1978-06-07 | 1979-12-17 | ||
| JPS5536769A (en) * | 1978-09-07 | 1980-03-14 | Nippon Tectron Co Ltd | Wipe-out device of residual liquid of reaction pipe bottom in automatic chemical analysis device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0323870B2 (ja) | 1991-03-29 |
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