JPS5846796B2 - 3トランジスタスタテイツク記憶素子 - Google Patents
3トランジスタスタテイツク記憶素子Info
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- JPS5846796B2 JPS5846796B2 JP51049787A JP4978776A JPS5846796B2 JP S5846796 B2 JPS5846796 B2 JP S5846796B2 JP 51049787 A JP51049787 A JP 51049787A JP 4978776 A JP4978776 A JP 4978776A JP S5846796 B2 JPS5846796 B2 JP S5846796B2
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 101001043821 Homo sapiens Interleukin-31 Proteins 0.000 description 1
- 102100021596 Interleukin-31 Human genes 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/353—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/356—Bistable circuits
- H03K3/3565—Bistables with hysteresis, e.g. Schmitt trigger
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/412—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は3トランジスタスタテイツク記憶素子に関する
ものである。
ものである。
スタティック記憶素子は、クロック電圧が全く必要とさ
れないという利点をもっている。
れないという利点をもっている。
然しなからスタティック記憶素子は比較的大きな面積を
必要とするから、集積度の大きな装置、即ち1024ビ
ツト以上の容量をもつ記憶装置に対しては著しく不適当
である。
必要とするから、集積度の大きな装置、即ち1024ビ
ツト以上の容量をもつ記憶装置に対しては著しく不適当
である。
従って本発明は、公知のスタティック記憶装置に対して
特に所要面積の少ない3トランジスタ記憶素子を示すこ
とを目的とする。
特に所要面積の少ない3トランジスタ記憶素子を示すこ
とを目的とする。
この目的は本発明によれば、第1の負荷素子と第2の負
荷素子及び第1のトランジスタが互に直列に接続され、
その際第1の負荷素子の一つの端子は給電電圧に印加す
るための第1の端子と接続され、第1の負荷素子の他の
端子は記憶素子の第1の節点と接続され、第1のトラン
ジスタのドレイン(ソース)端子は第1の節点と接続さ
れまた第1のトランジスタのソース(ドレイン)端子ハ
第2の節点において第2の負荷素子の一つの端子と接続
されており、また第2の負荷素子の他の端子は給電電圧
を印加するための第2の端子と接続されていること、第
2のトランジスタのドレイン(ソース)端子は第1の端
子と接続されていること、第2のトランジスタのソース
(ドレイン)端子は第2の負荷素子および第1のトラン
ジスタが互に接続されている第2の節点と接続されてい
ること、第2のトランジスタのゲート端子は第1の節点
と接続されていること、第2の節点はアドレストランジ
スタを介してビット線と接続されていること、またアド
レストランジスタのゲート端子はワード線と歩続されて
いることを特徴とする3トランジスタ記憶素子によって
達成される。
荷素子及び第1のトランジスタが互に直列に接続され、
その際第1の負荷素子の一つの端子は給電電圧に印加す
るための第1の端子と接続され、第1の負荷素子の他の
端子は記憶素子の第1の節点と接続され、第1のトラン
ジスタのドレイン(ソース)端子は第1の節点と接続さ
れまた第1のトランジスタのソース(ドレイン)端子ハ
第2の節点において第2の負荷素子の一つの端子と接続
されており、また第2の負荷素子の他の端子は給電電圧
を印加するための第2の端子と接続されていること、第
2のトランジスタのドレイン(ソース)端子は第1の端
子と接続されていること、第2のトランジスタのソース
(ドレイン)端子は第2の負荷素子および第1のトラン
ジスタが互に接続されている第2の節点と接続されてい
ること、第2のトランジスタのゲート端子は第1の節点
と接続されていること、第2の節点はアドレストランジ
スタを介してビット線と接続されていること、またアド
レストランジスタのゲート端子はワード線と歩続されて
いることを特徴とする3トランジスタ記憶素子によって
達成される。
本発明の利点は、本発明によるスタティック記憶素子が
アルミニウムゲート技術において実現可能であるという
点にある。
アルミニウムゲート技術において実現可能であるという
点にある。
本発明の別の大きな利点は、記憶素子の実現の際唯1個
の接触孔部しか必要とされずまた3個のトランジスタが
共通なゲートの下に配置されることができるという点に
ある。
の接触孔部しか必要とされずまた3個のトランジスタが
共通なゲートの下に配置されることができるという点に
ある。
次に本発明を図面に示された実施例により詳細に説明す
る。
る。
第1図に示した本発明によるスタティック記憶素子は、
3個のトランジスタ1,2及び5と負荷素子30及び4
0より成る。
3個のトランジスタ1,2及び5と負荷素子30及び4
0より成る。
その際負荷素子40、トランジスタ2及び負荷素子30
は第1図より明らかなように直列に接続されている。
は第1図より明らかなように直列に接続されている。
負荷素子40は一方では第1の給電電圧端子11と接続
されまた他方では記憶素子の節点23と接続されている
。
されまた他方では記憶素子の節点23と接続されている
。
トランジスタ2のソース(ドレイン)端子は同様に節点
23と接続されている。
23と接続されている。
このトランジスタ2のドレイン(ソース)端子は節点2
2において負荷素子30の一つの端子と接続されている
。
2において負荷素子30の一つの端子と接続されている
。
この負荷素子30の他の端子は、特に地気に接続されて
いる第2の給電電圧端子31と接続されている。
いる第2の給電電圧端子31と接続されている。
トランジスタ1のゲート端子は同様に節点23と接続さ
れている。
れている。
このトランジスタのソース(ドレイン)端子は節点22
と接続されまたドレイン(ソース)端子は第1の給電電
圧端子11と接続されている。
と接続されまたドレイン(ソース)端子は第1の給電電
圧端子11と接続されている。
節点22はアドレストランジスタ5を介してビット線5
2と接続されている。
2と接続されている。
アドレストランジスタ5は、このためにそのゲート端子
と接続されているワード線51を介して制御される。
と接続されているワード線51を介して制御される。
トランジスタ2のゲート端子21には基準電圧URが印
加可能である。
加可能である。
トランジスタ1及び2と負荷素子30及び40の本発明
による配線によって、以下に述べられる機能をもつ双安
定性の装置が生ずる。
による配線によって、以下に述べられる機能をもつ双安
定性の装置が生ずる。
その際トランジスタ1,2及び5はエンハンスメント型
nチャンネルMO8)ランジスタであるものとする。
nチャンネルMO8)ランジスタであるものとする。
然しなからpチャンネルMOSトランジスタによる実現
も同様に可能であり、その際は反対極性の電位のみが印
加される。
も同様に可能であり、その際は反対極性の電位のみが印
加される。
第1図による回路は二つ静止状態をとることができる。
この状態の一つが存在する時は、トランジスタ1は阻止
しまたトランジスタ2は導通する。
しまたトランジスタ2は導通する。
即ち電流は11=Oである。
他の状態が存在する時は、トランジスタ2は阻止しまた
トランジスタ1は導通する。
トランジスタ1は導通する。
即ち電流は12−0である。この場合(12−O)には
節点23は給電電圧電位UDDに引込まれる。
節点23は給電電圧電位UDDに引込まれる。
これによってトランジスタ1は開放され、またこのトラ
ンジスタを介して流れる電流11 は節点22において
、電位UP−UDD UTを発生し、これがトランジ
スタ2を阻止する。
ンジスタを介して流れる電流11 は節点22において
、電位UP−UDD UTを発生し、これがトランジ
スタ2を阻止する。
なぜなら、UP>(UR−UT)であるからである。
この式において、URはトランジスタ2のゲート端子2
1に印加されている基準電圧、またUTはトランジスタ
2のしきい値電圧を示す。
1に印加されている基準電圧、またUTはトランジスタ
2のしきい値電圧を示す。
他ノ静止状態(il=0)においてはトランジスタ1は
阻止する。
阻止する。
更にトランジスタ1のソース端子及びゲート端子間の電
圧UGSは値UGS(UN−UP)<UTをもたなけれ
ばならない。
圧UGSは値UGS(UN−UP)<UTをもたなけれ
ばならない。
その際電圧UGS は式
抵抗及び給電電圧UDDO比より決定される。
この式においてrは導通トランジスタ2の抵抗、R30
は負荷素子30の抵抗、R40は負荷素子40の抵抗ま
たUNは節点23における電位を示す。
は負荷素子30の抵抗、R40は負荷素子40の抵抗ま
たUNは節点23における電位を示す。
その際節点22にあるのはUp=i2Raoの電位テあ
る。
る。
アドレストランジスタ5によって記憶素子は一つの静止
状態または他の静止状態へ転換されることができる。
状態または他の静止状態へ転換されることができる。
これは、トランジスタ5がワード線51を介して導通接
続されることによって行なわれ、これにより異った電圧
の形でビット線52にあるデジタル情報は節点22に達
す。
続されることによって行なわれ、これにより異った電圧
の形でビット線52にあるデジタル情報は節点22に達
す。
節点22がその際電位UDD に移される時は、装置は
静止状態12−Oをとる。
静止状態12−Oをとる。
これに反して節点22が地気電位におかれる時は、静止
状態11−0が設定される。
状態11−0が設定される。
アドレストランジスタ5がワード線51を介して続いて
導通接続されない時は、記憶素子に書込まれた状態が持
続する。
導通接続されない時は、記憶素子に書込まれた状態が持
続する。
記憶素子から情報乃至状態を読取る際はアドレストラン
ジスタ5はワード線51を介して導通接続される。
ジスタ5はワード線51を介して導通接続される。
その際には節点22にある電位はピット線52に達し、
ここで該電位は公知の判定装置によって読取られること
ができる。
ここで該電位は公知の判定装置によって読取られること
ができる。
節点22にある電位を判定するための判定回路は例えば
刊行物「IEEE Journal of 5ol
id 5tateCircuits J 1972年
10月号における5tein。
刊行物「IEEE Journal of 5ol
id 5tateCircuits J 1972年
10月号における5tein。
Sihling及びD oer ing氏の論文「S
torageArray and 5ense R
efresh C1rcuit forSingle
Transistor Memory Ce11s
Jに述べられている。
torageArray and 5ense R
efresh C1rcuit forSingle
Transistor Memory Ce11s
Jに述べられている。
第2図は第1図による回路の変形を示すもので、これに
おいてはトランジスタ1及び5はエンハンスメント型で
ありまたトランジスタ2はディプレッション型である。
おいてはトランジスタ1及び5はエンハンスメント型で
ありまたトランジスタ2はディプレッション型である。
第1図では抵抗である負荷素子3G及び40はディプレ
ッション型のMOSトランジスタ3及び4によって代え
られている。
ッション型のMOSトランジスタ3及び4によって代え
られている。
その際トランジスタ4のゲート端子は節点23と接続さ
れまたトランジスタ3のゲート端子は端子31と接続さ
れている。
れまたトランジスタ3のゲート端子は端子31と接続さ
れている。
負荷素子としてディプレッション型のMOS)ランジス
タを使用することは、装置が比較的容易に集積可能であ
りまた基準電圧URが不要になるという利点をもつ。
タを使用することは、装置が比較的容易に集積可能であ
りまた基準電圧URが不要になるという利点をもつ。
これは、ゲート端子21が地気電位にある時は、トラン
ジスタ2が導通することができるということに基因する
ものである。
ジスタ2が導通することができるということに基因する
ものである。
トランジスタ1及び5がエンハンスメント型でありまた
トランジスタ2,3及び4がディプレッション型である
ような第3図による回路変形では、トランジスタ2のゲ
ート端子並びにアドレストランジスタ5のゲート端子は
ワード線51と接続されている。
トランジスタ2,3及び4がディプレッション型である
ような第3図による回路変形では、トランジスタ2のゲ
ート端子並びにアドレストランジスタ5のゲート端子は
ワード線51と接続されている。
第4図の回路変形は第3図による回路と、トランジスタ
3のゲートもワード線51と接続されている点で異って
いる。
3のゲートもワード線51と接続されている点で異って
いる。
第3図及び第4図による回路変形は、設計が共通なゲー
ト結線、従って回路の集積によって更に簡易化されるこ
とができるという利点をもっている。
ト結線、従って回路の集積によって更に簡易化されるこ
とができるという利点をもっている。
第2図乃至第4図による回路の動作様式は、既に第1図
に関連して述べた動作様式に対応する。
に関連して述べた動作様式に対応する。
第5図に示すものは、第4図に示された回路装置のアル
ミニウムゲート技術によるレイアウトである。
ミニウムゲート技術によるレイアウトである。
既に他の図と関連して述べられた第5図の部分は同じ符
号をもっている。
号をもっている。
半導体材料中に配置された拡散路乃至拡散領域は線形を
つげた面によって示されている。
つげた面によって示されている。
線形のついていない太線で囲まれた面はその上に配置さ
れたアルミニウム導電路乃至アルミニウム範囲を示す。
れたアルミニウム導電路乃至アルミニウム範囲を示す。
アルミニウム及び半導体基板間に配置された絶縁層は簡
単にするため示されていない。
単にするため示されていない。
黒い点のついた範囲はアルミニウム導電路乃至アルミニ
ウム範囲及び半導体基板における拡散領域間の接触孔部
を示す。
ウム範囲及び半導体基板における拡散領域間の接触孔部
を示す。
ディプレッション型トランジスタは小さい十字符号を備
えた面によって示されている。
えた面によって示されている。
エンノ・ンスメント型トランジスタ&χ小さい同符号を
備えた面によって示されている。
備えた面によって示されている。
pチャンネルトランジスタの使用の際は線形のついてい
る範囲はp型ドーピングされ、線形のついていない半導
体基板8はn型ドーピングされている。
る範囲はp型ドーピングされ、線形のついていない半導
体基板8はn型ドーピングされている。
第1図は本発明による3トランジスタ記憶素子の回路図
、第2図は第1図に示された回路の変形、第3図は第2
図に示された回路の変形、第4図は第2図に示された回
路の別の変形、第5図は第4図による回路装置のレイア
ウトを示す。 1.2,3,4,5・・・・・・トランジスタ、8・・
・・・・半導体基板、IL31・・・・・・給電電圧端
子、21・・・・・・ゲート端子、22,23・・・・
・・節点、30゜40・・・・・・負荷素子、51・・
・・・・ワード線、52・・・・・・ビット線。
、第2図は第1図に示された回路の変形、第3図は第2
図に示された回路の変形、第4図は第2図に示された回
路の別の変形、第5図は第4図による回路装置のレイア
ウトを示す。 1.2,3,4,5・・・・・・トランジスタ、8・・
・・・・半導体基板、IL31・・・・・・給電電圧端
子、21・・・・・・ゲート端子、22,23・・・・
・・節点、30゜40・・・・・・負荷素子、51・・
・・・・ワード線、52・・・・・・ビット線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 第1負荷素子40と第2負荷素子30及び第1のト
ランジスタ2は互に直列に接続され、その除温1の負荷
素子40の一つの端子は給電電圧を印加するための第」
の端子11と接続され、第1の負荷素子40の他の端子
は記憶素子の第1の節点23と接続され、第1のトラン
ジスタ2のドレイン(ソース)端子は第1の節点23と
接続されまた第1のトランジスタ2のソース(ドレイン
)端子は第2の節点22において第2の負荷素子30の
一つの端子と接続されており、また第2の負荷素子30
の他の端子は給電電圧を印加するための第2の端子31
と接続されていること、第2のトランジスタ1のドレイ
ン(ソース)端子は第1の端子11と接続されているこ
と、第2のトランジスタ1のソース(ドレイン)端子は
第2の負荷素子30および第1のトランジスタ2とが互
に接続されている第2の節点22と接続されていること
、第2のトランジスタ1のゲート端子は第1の節点23
と接続されていること、第2の節点22はアドレストラ
ンジスタ5を介してビット線52と接続されていること
、またアドレストランジスタのゲート端子はワード線5
1と接続されていることを特徴とする3トランジスタス
タテイツク記憶素子。 2 負荷素子30,40として抵抗が使用されること、
第1のトランジスタ2、第2のトランジスタ1及びアド
レストランジスタ5はエンハンスメント型であること、
第1のトランジスタ2のゲート端子に基準電位が印加可
能であること、またアドレストランジスタ5は第2の節
点22と接続されていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の記憶素子。 3 負荷素子30,40としてディプレッション型電界
効果トランジスタ3,4が使用されており、その際この
電界効果トランジスタのゲート端子はそれのドレイン(
ソース)端子と接続されていること、また第2のトラン
ジスタ1およびアドレストランジスタ5はエンハンスメ
ント型であり、第■のトランジスタ2はディプレッショ
ン型であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の記憶素子。 4 アドレストランジスタ5は一方ではビット線52と
また他方では第2の節点22と接続されていること、ま
たワード線51はアドレストランジスタ5のゲート端子
および第1のトランジスタ2のゲート端子と接続されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の記憶
素子。 5 負荷素子30,40としてディプレッション型の電
界効果トランジスタ3,4が使用され、その除温1の電
界効果トランジスタ4のゲート端子はそれのドレイン(
ソース)端子と接続されており、第2のトランジスタ1
とアドレストランジスタ5はエンハンスメント型であり
、第1のトランジスタ2はディプレッション型であるこ
と、またアドレストランジスタ5は一方ではビット線5
2とまた他方では第2の節点22と接続されていること
、また第1のトランジスタ2、第2の負荷素子としての
トランジスタ3およびアドレストランジスタ5のゲート
端子はワード線51と接続されていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の記憶素子。 6 トランジスタとしてMO8電界効果トランジスタが
使用されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
乃至第5項のいづれかに記載の記憶素子。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2519323A DE2519323C3 (de) | 1975-04-30 | 1975-04-30 | Statisches Drei-Transistoren-Speicherelement |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51134035A JPS51134035A (en) | 1976-11-20 |
| JPS5846796B2 true JPS5846796B2 (ja) | 1983-10-18 |
Family
ID=5945460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51049787A Expired JPS5846796B2 (ja) | 1975-04-30 | 1976-04-30 | 3トランジスタスタテイツク記憶素子 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4000427A (ja) |
| JP (1) | JPS5846796B2 (ja) |
| DE (1) | DE2519323C3 (ja) |
| FR (1) | FR2309952A1 (ja) |
| GB (1) | GB1550471A (ja) |
| IT (1) | IT1060025B (ja) |
| NL (1) | NL7604639A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4139785A (en) * | 1977-05-31 | 1979-02-13 | Texas Instruments Incorporated | Static memory cell with inverted field effect transistor |
| JPS5948567B2 (ja) * | 1979-12-29 | 1984-11-27 | 富士通株式会社 | シュミット・トリガ回路 |
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| US4615828A (en) * | 1984-05-07 | 1986-10-07 | Lockheed Corporation | Method and apparatus for detecting hydrocarbon fuel leaks |
| US5198994A (en) * | 1988-08-31 | 1993-03-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ferroelectric memory device |
| US6225655B1 (en) | 1996-10-25 | 2001-05-01 | Texas Instruments Incorporated | Ferroelectric transistors using thin film semiconductor gate electrodes |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| FR1473979A (fr) * | 1966-01-07 | 1967-03-24 | Cie Europ D Automatisme Electr | Perfectionnement aux cellules de mémoire |
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