JPS5847263Y2 - 再生型低温ポンプ - Google Patents
再生型低温ポンプInfo
- Publication number
- JPS5847263Y2 JPS5847263Y2 JP1976111343U JP11134376U JPS5847263Y2 JP S5847263 Y2 JPS5847263 Y2 JP S5847263Y2 JP 1976111343 U JP1976111343 U JP 1976111343U JP 11134376 U JP11134376 U JP 11134376U JP S5847263 Y2 JPS5847263 Y2 JP S5847263Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- duct
- housing
- wall
- cryogenic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S417/00—Pumps
- Y10S417/901—Cryogenic pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S55/00—Gas separation
- Y10S55/15—Cold traps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、ポンプダクトを含み、かつ凝縮昇華を行う
ハウジングを有する型の再生型低温ポンプに関するもの
であり、この低温ポンプにおいて前記ダクトは、囲い体
を排気するためダクトを囲い体に連結するフランジを有
し、また応用できる場合には、気体を低温にして捕える
ための吸着および吸着したものを吐出する装置を有する
。
ハウジングを有する型の再生型低温ポンプに関するもの
であり、この低温ポンプにおいて前記ダクトは、囲い体
を排気するためダクトを囲い体に連結するフランジを有
し、また応用できる場合には、気体を低温にして捕える
ための吸着および吸着したものを吐出する装置を有する
。
このような低温ポンプはポンプダクトのフランジと排気
される囲い体との間に挿入される弁を組合せて用いられ
る。
される囲い体との間に挿入される弁を組合せて用いられ
る。
この弁の目的は、ポンプが再生されているとき特に完全
に孤立させておくためのものであり、この再生作業は、
周知のように、低温ポンプのトラップ装置を加熱して凝
縮または吸着付着物として捕えられた気体を、気体の状
態に戻した後補助ポンプで引出すことである。
に孤立させておくためのものであり、この再生作業は、
周知のように、低温ポンプのトラップ装置を加熱して凝
縮または吸着付着物として捕えられた気体を、気体の状
態に戻した後補助ポンプで引出すことである。
高真空に対して密封される弁は特に複雑で高価である。
なぜならば弁は約500℃の温度まで過熱され得るよう
に造られ、しかも従来の密封リングの使用ができなくな
らないようにすべきだからである。
に造られ、しかも従来の密封リングの使用ができなくな
らないようにすべきだからである。
超高真空用の成る設計の低温ポンプにおいて、排気され
る囲い体から出てくる気体がトラップ装置に最大に接近
し得るようにするために、ポンプダクトを特に大きく、
例えば500rrrrnまたはそれ以上に大きくするこ
とが重要である。
る囲い体から出てくる気体がトラップ装置に最大に接近
し得るようにするために、ポンプダクトを特に大きく、
例えば500rrrrnまたはそれ以上に大きくするこ
とが重要である。
トラップ装置は前記のポンプダクトと同心の環状構造体
の形をなし、この環状トラップ構造体はそのひろがり全
体に対して気体に接近できるように中央に幅広い開口部
を有する。
の形をなし、この環状トラップ構造体はそのひろがり全
体に対して気体に接近できるように中央に幅広い開口部
を有する。
特にこの型の設計の実施に当り、弁は孤立させる機能ば
かりでなく可なり大きくなげればならない重要な点を有
する成分である。
かりでなく可なり大きくなげればならない重要な点を有
する成分である。
またこの大きさの点から低温ポンプと排気される囲い体
との間に弁を位置させると、小さいけれども圧力損失が
生じ、その結果ポンプ効率を低下させることになる。
との間に弁を位置させると、小さいけれども圧力損失が
生じ、その結果ポンプ効率を低下させることになる。
この考案の目的は、500℃の温度まで加熱できしかも
密封を十分にし、排気される囲い体内にて到達する真空
レベルに重大な影響を与えることなく低温ポンプを再生
できるプソイド(Pseudo)弁を備えた低温ポンプ
を提供することである。
密封を十分にし、排気される囲い体内にて到達する真空
レベルに重大な影響を与えることなく低温ポンプを再生
できるプソイド(Pseudo)弁を備えた低温ポンプ
を提供することである。
この考案の他の目的は、簡単な装置で欠点のない密封を
行いしかも150℃程度の適当な高温にまで過熱できる
型の低温ポンプを提供することである。
行いしかも150℃程度の適当な高温にまで過熱できる
型の低温ポンプを提供することである。
この考案の他の目的は、排気される囲い体の上部または
低部の何れかに連結できるプソイド弁を備えている型の
低温ポンプを提供することである。
低部の何れかに連結できるプソイド弁を備えている型の
低温ポンプを提供することである。
この発明は前述の型の再生ポンプに関するものであり、
この再生型低温ポンプの主な特徴は、作動中外部に通ず
る1つのダクトを有し前記弁部材が、閉じた状態から開
いた状態へ軸方向へ摺動し、閉じた状態において、前記
の1つのダクトに取付けられた弁座と共働し、開いた状
態において、ハウジングの一方の端壁の方へ軸方向に引
出され、この位置において環状トラッA苛造体全体が前
記のポンプダクトから直接接近できるようになっている
ことである。
この再生型低温ポンプの主な特徴は、作動中外部に通ず
る1つのダクトを有し前記弁部材が、閉じた状態から開
いた状態へ軸方向へ摺動し、閉じた状態において、前記
の1つのダクトに取付けられた弁座と共働し、開いた状
態において、ハウジングの一方の端壁の方へ軸方向に引
出され、この位置において環状トラッA苛造体全体が前
記のポンプダクトから直接接近できるようになっている
ことである。
この特徴によって、排気される囲い体から環状トラップ
構造体へ抽出される気体に対して前述のように最も有利
に接近し得るばかりでなく、環状トラップ構造体の中央
開口部に軸方向に可動な弁部材を取付け、この弁部材が
ポンプダクトに適当に取付けられた弁座と共働して、例
えば再生過程中には低温ポンプを排気される囲い体から
孤立させ、またポンプ作用中にはトランプ構造体にうま
く接近させて軸方向に引出し得る利点がある。
構造体へ抽出される気体に対して前述のように最も有利
に接近し得るばかりでなく、環状トラップ構造体の中央
開口部に軸方向に可動な弁部材を取付け、この弁部材が
ポンプダクトに適当に取付けられた弁座と共働して、例
えば再生過程中には低温ポンプを排気される囲い体から
孤立させ、またポンプ作用中にはトランプ構造体にうま
く接近させて軸方向に引出し得る利点がある。
この考案の特徴は、添附図面についてなされるつぎの説
明を熟読すれば分るであろう。
明を熟読すれば分るであろう。
図面について説明すれば、第1,2図は再生型低温ポン
プを示す。
プを示す。
この低温ポンプはハウジング1とトラップ装置5とを有
し、ハウジング1は形状が大きな円筒状であり、側壁2
と、下端壁3と上端壁4とを有する。
し、ハウジング1は形状が大きな円筒状であり、側壁2
と、下端壁3と上端壁4とを有する。
トラップ装置5は本質的には環状じゃま板壁6で形成さ
れ、その内側に山形羽根7を有する。
れ、その内側に山形羽根7を有する。
羽根7から僅かに離れて液体ヘリウム用のタンク8があ
り、このタンクは、充填管9でもって、上端壁4に設げ
られた取付ドーム10に取付けられる。
り、このタンクは、充填管9でもって、上端壁4に設げ
られた取付ドーム10に取付けられる。
液体ヘリウムタンク8の上に位置する環状タンク11は
液体窒素用タンクであり、これもまた充填管12でもっ
て、上端壁4に形成された外方ドーム13に取付げられ
る。
液体窒素用タンクであり、これもまた充填管12でもっ
て、上端壁4に形成された外方ドーム13に取付げられ
る。
従来の形のものでは、液体ヘリウム用タンク8は、銅製
の熱しゃへい体18でもって、側面15、下端16およ
び上端17を囲われており、前記の熱しゃへい体18は
、液体窒素用タンク11内に延びる盲ら壁19の内側に
ある充填管9に適当に固定される。
の熱しゃへい体18でもって、側面15、下端16およ
び上端17を囲われており、前記の熱しゃへい体18は
、液体窒素用タンク11内に延びる盲ら壁19の内側に
ある充填管9に適当に固定される。
その場合熱しゃへい体18は壁19内へ半分程度延び、
従って充填管9から出ていくヘリウム蒸気でもって冷却
される。
従って充填管9から出ていくヘリウム蒸気でもって冷却
される。
液体窒素用タンク11は、熱伝導性のしゃへい壁20を
有し、このしやへい壁は、21で示すように、環状液体
ヘリウムタンク8の外周面のまわりをこれから僅かに離
れて延び、また22で示すように、同タンク8の外端壁
16のまわりに同様にこれから僅かに離れて延びる。
有し、このしやへい壁は、21で示すように、環状液体
ヘリウムタンク8の外周面のまわりをこれから僅かに離
れて延び、また22で示すように、同タンク8の外端壁
16のまわりに同様にこれから僅かに離れて延びる。
この環状じゃま板壁6はその上縁23を液体窒素タンク
11の下方内縁に溶接され、またじゃま板壁の下縁23
′は壁20の再入部分22の端に溶接される。
11の下方内縁に溶接され、またじゃま板壁の下縁23
′は壁20の再入部分22の端に溶接される。
図面から分るように、環状構造のトラップ装置5は軸方
向の開口部を有し、この開口部の直径dはポンプダクト
24の直径と同じであり、このポンプダクトは上壁4を
通過しまたハウジング1内に実質的に延び、液体窒素タ
ンク11でもってその軸方向長さの一部分を囲われてい
る。
向の開口部を有し、この開口部の直径dはポンプダクト
24の直径と同じであり、このポンプダクトは上壁4を
通過しまたハウジング1内に実質的に延び、液体窒素タ
ンク11でもってその軸方向長さの一部分を囲われてい
る。
液体窒素用タンク11およびこれに熱的に組合わされて
いる壁20は、タンク11および壁20の周囲全体に僅
かに離して配置された熱しゃへい体25を有し、この熱
しゃへい体25はまた液体窒素用タンク11およびポン
プダクト24間の間隙内に延びる。
いる壁20は、タンク11および壁20の周囲全体に僅
かに離して配置された熱しゃへい体25を有し、この熱
しゃへい体25はまた液体窒素用タンク11およびポン
プダクト24間の間隙内に延びる。
外端24′のところにポンプダクト24はフランジ26
を有し、このフランジは図示されていない排気すべき囲
い体に結合される。
を有し、このフランジは図示されていない排気すべき囲
い体に結合される。
ハウジング4の内側にある端のところに、ポンプダクト
24は環状の金属弁座27を支持し、この金属弁座の有
するテーパ作用面28は、弁部材30の周囲部分29と
共働するようになっている。
24は環状の金属弁座27を支持し、この金属弁座の有
するテーパ作用面28は、弁部材30の周囲部分29と
共働するようになっている。
弁部材30は円錐形をなし、その頂点31はポンプダク
ト24内にある。
ト24内にある。
この弁部材30は液体窒素と同じ温度にある壁22に対
して熱伝動性の編みひも32になるべく結合される。
して熱伝動性の編みひも32になるべく結合される。
弁部材30は弁棒33に取付けられ、この弁棒は内端壁
3から外方へ延びている壁34内に摺動できるように取
付けられる。
3から外方へ延びている壁34内に摺動できるように取
付けられる。
この弁棒34は軸受35,36に取付けられ、その自由
端には磁気部分37を有し、この磁気部分は壁34の外
側に沿って摺動する磁化された環状作動部材38と共働
する。
端には磁気部分37を有し、この磁気部分は壁34の外
側に沿って摺動する磁化された環状作動部材38と共働
する。
前述の低温ポンプの作用はつぎのとうりである。
低温ポンプがそのフランジ26でもって排気される囲い
体(図示されていない)に直接連結されると、低温液体
は連続的に液体窒素タンク11内に導入され、つぎに液
体ヘリウムタンク8内へ導入され、ポンプがその冷たい
温度にまで下げられる。
体(図示されていない)に直接連結されると、低温液体
は連続的に液体窒素タンク11内に導入され、つぎに液
体ヘリウムタンク8内へ導入され、ポンプがその冷たい
温度にまで下げられる。
この作業中には弁は閉じた状態にあり、即ち破線30′
で示された状態にある。
で示された状態にある。
弁部材30と弁座21の面28との間は成るレベルで密
封される。
封される。
低温ポンプがその低温に低下すると、弁部材30は磁気
リング38が弁棒33に取付けられた磁石3Tを伴って
下方へ摺動して開いた状態になる。
リング38が弁棒33に取付けられた磁石3Tを伴って
下方へ摺動して開いた状態になる。
弁棒33のこの運動は軸方向に適当な成る距離だけ起り
、じゃま板壁6全体をなるべく露出させ、ポンプダクト
24を通る気体に自由に接近できるようにする。
、じゃま板壁6全体をなるべく露出させ、ポンプダクト
24を通る気体に自由に接近できるようにする。
従来の方法では、気体はじゃま板壁6.21,22のよ
うな他の壁に連続的につぎに液体ヘリウム温度にあるタ
ンク8によって捕えられる。
うな他の壁に連続的につぎに液体ヘリウム温度にあるタ
ンク8によって捕えられる。
弁部材300円錐形には重要な作用がある。即ちポンプ
作用中円錐形の弁部材に当る分子はすべて、その傾斜角
がどのようであれ、じゃま板壁6の方へ著しく転向させ
られ、これはもちろんポンプ作用をよくする。
作用中円錐形の弁部材に当る分子はすべて、その傾斜角
がどのようであれ、じゃま板壁6の方へ著しく転向させ
られ、これはもちろんポンプ作用をよくする。
比較的長い間でもよいが成る期間経過すると、低温ポン
プは凝縮した気体または吸収された気体でもって飽和さ
れたと考えられ、再生する必要がある。
プは凝縮した気体または吸収された気体でもって飽和さ
れたと考えられ、再生する必要がある。
この目的のために、弁部材30は作動リング38の磁気
的な引ぼり作用により再び閉じた状態30′に戻り、再
生ダクト40は、開閉弁41でもって再生ポンプ(図示
されていない)に連結され、ポンプが上昇すると同時に
図示されていない従来の装置でもって熱い再生温度に加
熱される。
的な引ぼり作用により再び閉じた状態30′に戻り、再
生ダクト40は、開閉弁41でもって再生ポンプ(図示
されていない)に連結され、ポンプが上昇すると同時に
図示されていない従来の装置でもって熱い再生温度に加
熱される。
この過程中において、凝縮および吸収された気体は、一
般に昇華し、または液体相を通過するならば蒸発し、低
温ポンプの・・ウジング4から排出する。
般に昇華し、または液体相を通過するならば蒸発し、低
温ポンプの・・ウジング4から排出する。
再生が完了すると、低温ポンプは、低温流体を液体窒素
タンク11内におよび液体ヘリウムタンク8内へ前述の
ように導入して再び冷却され、低温ポンプがその冷たい
温度に達すると、弁部材30は開いた状態に戻り、ポン
プ作用が再びはじまる。
タンク11内におよび液体ヘリウムタンク8内へ前述の
ように導入して再び冷却され、低温ポンプがその冷たい
温度に達すると、弁部材30は開いた状態に戻り、ポン
プ作用が再びはじまる。
この低温ポンプを排気すべき囲い体に組合せて用いるこ
とができ、この場合、弁面28のところで漏れが必然的
に起り、この漏れで排気された囲い体内の圧力が上昇す
ることになる。
とができ、この場合、弁面28のところで漏れが必然的
に起り、この漏れで排気された囲い体内の圧力が上昇す
ることになる。
この場合に生ずる圧力上昇には不利な作用があってはな
らない。
らない。
圧力上昇が十分に大きいならば、一次真空を生ずるため
に通常低温ポンプに組合わされている一次(主)ポンプ
装置を作動させる点で有利である。
に通常低温ポンプに組合わされている一次(主)ポンプ
装置を作動させる点で有利である。
他方においてもし何かの圧力上昇が囲い体を満足に排気
させるのに対して不利であるならば、排気すべき1つの
囲い体に2個の低温ポンプを連結して使用し、2個の低
温ポンプを同時に作動させることがもちろん必要である
。
させるのに対して不利であるならば、排気すべき1つの
囲い体に2個の低温ポンプを連結して使用し、2個の低
温ポンプを同時に作動させることがもちろん必要である
。
この場合、他方のポンプを再生しているとき一方のポン
プを作動させて再生相は時間的に間を置いて行う必要が
あるだけである。
プを作動させて再生相は時間的に間を置いて行う必要が
あるだけである。
このような場合には、安全ポンプと呼ばれる一方のポン
プはもちろんサイズが同じである。
プはもちろんサイズが同じである。
第3,4図を参照すれば、第1,2図について説明され
た型の低温ポンプ45が下方端壁3を備え、この下方端
壁はポンプダクト24のフランジ26と同じ第二ハウジ
ング7ランジ46に取りはずしできるように取付ゆられ
る。
た型の低温ポンプ45が下方端壁3を備え、この下方端
壁はポンプダクト24のフランジ26と同じ第二ハウジ
ング7ランジ46に取りはずしできるように取付ゆられ
る。
このフランジ46は第二のポンプダクト47に組合わさ
れ、このポンプダクト47は第一のポンプダクト24と
直径が同じであり、第二の弁座48を備えている。
れ、このポンプダクト47は第一のポンプダクト24と
直径が同じであり、第二の弁座48を備えている。
この方法で、再生ダクト40、弁41を有するハウジン
グ端壁3は第3図に示すように底にまたは第4図に示す
ように上部にその何れかに取付けられてもよい。
グ端壁3は第3図に示すように底にまたは第4図に示す
ように上部にその何れかに取付けられてもよい。
底に取付ける場合は低温ポンプは排気される囲い体の下
に位置され、上部に取付ける場合には低温ポンプは排気
される囲い体の上に位置される。
に位置され、上部に取付ける場合には低温ポンプは排気
される囲い体の上に位置される。
装置42は弁部材30をその作動棒33から取りはずす
ことができ、従って2つの弁座47,4Bがあって弁部
材を全部引出すことができないから、低温ポンプ内で手
で弁部材30を反対に向ければ1つのポンプ状態から他
のポンプ状態へ変えることができる。
ことができ、従って2つの弁座47,4Bがあって弁部
材を全部引出すことができないから、低温ポンプ内で手
で弁部材30を反対に向ければ1つのポンプ状態から他
のポンプ状態へ変えることができる。
第5図に示された実施例において、第1図に示された型
の低温ポンプは密封リングを有する弁部材50を有し、
この密封リングは例えばビトン(VITON、登録商標
名)で造られ、弁棒15には公知の作動装置が組合わさ
れ、この作動装置はハウジング4の端壁を通る密封され
た通路を有し、また図示されていない閉じた状態に固定
する公知の装置を有する。
の低温ポンプは密封リングを有する弁部材50を有し、
この密封リングは例えばビトン(VITON、登録商標
名)で造られ、弁棒15には公知の作動装置が組合わさ
れ、この作動装置はハウジング4の端壁を通る密封され
た通路を有し、また図示されていない閉じた状態に固定
する公知の装置を有する。
この固定装置は、排気されるべき囲い体がまだ加圧下に
あって低温ポンプが真空下にあるとき、弁部材50を閉
じた状態に保つことができる。
あって低温ポンプが真空下にあるとき、弁部材50を閉
じた状態に保つことができる。
この考案は特に超高真空を生ずるポンプに応用できる。
第1図は、この考案による低温ポンプの一実施例の軸方
向断面図であり、第2図は、第1図の■−n線で取られ
た断面図であり、第3,4図は、対向する2個のポンプ
ダクトを有しその1つだけが使用できるようになってい
るポンプ変形実施例の概略図であり、第5図はこの考案
による低温ポンプの他の変形実施例を示す。 図中1はハウジングを、5は環状トランプ構造体即ちト
ランプ装置を、24はポンプダクトを、26は連結フラ
ングを、27は弁座を、30は弁部材を示す。
向断面図であり、第2図は、第1図の■−n線で取られ
た断面図であり、第3,4図は、対向する2個のポンプ
ダクトを有しその1つだけが使用できるようになってい
るポンプ変形実施例の概略図であり、第5図はこの考案
による低温ポンプの他の変形実施例を示す。 図中1はハウジングを、5は環状トランプ構造体即ちト
ランプ装置を、24はポンプダクトを、26は連結フラ
ングを、27は弁座を、30は弁部材を示す。
Claims (1)
- 1.ハウジングと、前記ハウジング内にあって外部に通
じているポンプダクトと、前記ポンプダクトの連結フラ
ンジと、環状トランプ構造体内に前記ポンプダクトと同
心に配置された低温トランプ装置とを有し、前記環状ト
ラップ構造体の中央開口部の半径方向のひろがりが前記
ポンプダクトの半径方向のひろがりに少くとも等しく、
概ね半径方向に延びる前記ポンプダクト内の弁部材が前
記トラップ構造体の前記の開口部に軸方向に摺動自在に
取付けられている低温ポンプにおいて、作動中外部に通
ずる1つのダクトを有し、前記弁部材が、閉じた状態か
ら開いた状態へ軸方向へ摺動し、閉じた状態において、
前記の1つのダクトに取付けられた弁座と共働し、開い
た状態において、ハウジングの一方の端壁の方へ軸方向
に引出され、この位置において環状トランプ構造体全体
が前記ポンプダクトから直接接近できるようになってい
ることを特徴とする低温ポンプ。 2 再生するポンプに連結するため、再生ダクトがポン
プダクトの通過するハウジングの壁と反対側の・・ウジ
ング壁に配置されていることを特徴とする実用新案登録
請求の範囲第1項記載の低温ポンプ。 3、ポンプダクトが通過する前記ハウジング壁と反対側
のハウジング壁が取り外し得るようになっていて、また
前記ポンプダクトの7ランジと同じ第二のハウジングフ
ランジに取付けられ、前記ハウジングが前記の第二〇ノ
・ウジング7ランジ区域に位置しかつハウジングに取付
けられた第二のポンプダクトとを有し、この第二ダクト
カ第二の弁座に適合するようになっていることを特徴と
する実用新案登録請求の範囲第1項記載の低温ポンプ。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7525970A FR2321609A1 (fr) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | Cryopompe a regeneration |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5244405U JPS5244405U (ja) | 1977-03-29 |
| JPS5847263Y2 true JPS5847263Y2 (ja) | 1983-10-28 |
Family
ID=9159267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976111343U Expired JPS5847263Y2 (ja) | 1975-08-22 | 1976-08-21 | 再生型低温ポンプ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4072025A (ja) |
| JP (1) | JPS5847263Y2 (ja) |
| DE (1) | DE7626231U1 (ja) |
| FR (1) | FR2321609A1 (ja) |
| GB (1) | GB1548578A (ja) |
| IT (1) | IT1067997B (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2396879A1 (fr) * | 1977-07-05 | 1979-02-02 | Air Liquide | Cryopompe |
| US4275566A (en) * | 1980-04-01 | 1981-06-30 | Pennwalt Corporation | Cryopump apparatus |
| US4341079A (en) * | 1980-04-01 | 1982-07-27 | Cvi Incorporated | Cryopump apparatus |
| USRE31665E (en) * | 1980-04-01 | 1984-09-11 | Cvi Incorporated | Cryopump apparatus |
| JPS58160552A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-24 | Toyota Motor Corp | 内燃機関の点火時期制御方法 |
| US4438632A (en) * | 1982-07-06 | 1984-03-27 | Helix Technology Corporation | Means for periodic desorption of a cryopump |
| DE3364522D1 (en) * | 1982-08-27 | 1986-08-21 | Comptech Inc | Cryogenic pump having maximum aperture throttled port |
| JPS608480A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-17 | Arubatsuku Kuraio Kk | クライオポンプの再生方法 |
| US4551197A (en) * | 1984-07-26 | 1985-11-05 | Guilmette Joseph G | Method and apparatus for the recovery and recycling of condensable gas reactants |
| US4559787A (en) * | 1984-12-04 | 1985-12-24 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Vacuum pump apparatus |
| US4763483A (en) * | 1986-07-17 | 1988-08-16 | Helix Technology Corporation | Cryopump and method of starting the cryopump |
| US4722191A (en) * | 1986-09-17 | 1988-02-02 | Pennwalt Corporation | High vacuum pumping system |
| JPS6393606U (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-17 | ||
| US4907413A (en) * | 1988-06-02 | 1990-03-13 | Grumman Aerospace Corporation | Regenerable cryosorption pump with movable physical barrier and physical barrier thereof |
| JP3123126B2 (ja) * | 1991-07-15 | 2001-01-09 | 株式会社日立製作所 | 冷却機付き真空容器 |
| CH686384A5 (de) * | 1992-07-21 | 1996-03-15 | Marcel Kohler | Kryopumpe. |
| US5520002A (en) * | 1995-02-01 | 1996-05-28 | Sony Corporation | High speed pump for a processing vacuum chamber |
| NL9500225A (nl) * | 1995-02-07 | 1996-09-02 | Hauzer Techno Coating Europ B | Werkwijze voor het regenereren van cryocondensatiepomppanelen in een vacuümkamer, vacuümkamer geschikt voor het uitvoeren van de werkwijze en een inrichting voor het coaten van produkten voorzien van een dergelijke vacuümkamer. |
| US20240337265A1 (en) * | 2023-04-06 | 2024-10-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cryogenic pump for semiconductor processing |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB751878A (en) * | 1953-02-28 | 1956-07-04 | Alois Vogt | Improvements in or relating to high vacuum diffusion pumps |
| US3019809A (en) * | 1960-09-13 | 1962-02-06 | Ipsen Ind Inc | Combined vacuum valve and cold trap |
| US3168819A (en) * | 1961-03-06 | 1965-02-09 | Gen Electric | Vacuum system |
| FR1565487A (ja) * | 1968-02-09 | 1969-05-02 | ||
| FR2048253A5 (ja) * | 1969-12-01 | 1971-03-19 | Air Liquide | |
| BE791888A (fr) * | 1971-11-26 | 1973-05-24 | Air Liquide | Dispositif de cryopompage |
-
1975
- 1975-08-22 FR FR7525970A patent/FR2321609A1/fr active Granted
-
1976
- 1976-08-05 GB GB32748/76A patent/GB1548578A/en not_active Expired
- 1976-08-06 IT IT26130/76A patent/IT1067997B/it active
- 1976-08-09 US US05/712,916 patent/US4072025A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-08-21 DE DE7626231U patent/DE7626231U1/de not_active Expired
- 1976-08-21 JP JP1976111343U patent/JPS5847263Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| IT1067997B (it) | 1985-03-21 |
| FR2321609A1 (fr) | 1977-03-18 |
| US4072025A (en) | 1978-02-07 |
| JPS5244405U (ja) | 1977-03-29 |
| DE7626231U1 (de) | 1976-12-09 |
| GB1548578A (en) | 1979-07-18 |
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