JPS5848399A - Ｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置Info
- Publication number
- JPS5848399A JPS5848399A JP56145801A JP14580181A JPS5848399A JP S5848399 A JPS5848399 A JP S5848399A JP 56145801 A JP56145801 A JP 56145801A JP 14580181 A JP14580181 A JP 14580181A JP S5848399 A JPS5848399 A JP S5848399A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray tube
- filament
- tube
- conditions
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は被検者Ｏ体格、撮影部位などの条件中Ｘｌｌ′
ＩｌＯ定格などに応じ、最良のｘＩＩ写真を撮影するこ
とのできるようｋしたＸ線装置に関するものである。
ＩｌＯ定格などに応じ、最良のｘＩＩ写真を撮影するこ
とのできるようｋしたＸ線装置に関するものである。
Ｘ線診断装置の撮影条件を決めるものＫは次のようなも
のがある。
のがある。
■ 被検者の検査部位
■ 被検者の性別０年令０体格
■ Ｘ＠管と被検者、フィル＾と０距離■ 使用フィル
ム、増感紙のＳ＊ ■ 使用散九線防止格子等付属品 このうち、０項、０項については装置が決まれげ、自動
的に定まるものなので、その分あらかじめ、条件設定し
ておけばよい。また０項のうち、ＸＭ管とフィルムの距
離も装置が決まれば決まる値である。
ム、増感紙のＳ＊ ■ 使用散九線防止格子等付属品 このうち、０項、０項については装置が決まれげ、自動
的に定まるものなので、その分あらかじめ、条件設定し
ておけばよい。また０項のうち、ＸＭ管とフィルムの距
離も装置が決まれば決まる値である。
従って、撮影条件を自動化するＫは、上記以外の条件を
自動的に設定できるようにすればよい。被写体である被
検者の検査部位＃′ｉあらかじめ胸部、腹部、腰部、脚
部等と部位別に区分され、それに応じたＸ１ｉＩ管電圧
を選定するようになった押しブタンを設け、これを選定
することによりＸ線線質を決定する。
自動的に設定できるようにすればよい。被写体である被
検者の検査部位＃′ｉあらかじめ胸部、腹部、腰部、脚
部等と部位別に区分され、それに応じたＸ１ｉＩ管電圧
を選定するようになった押しブタンを設け、これを選定
することによりＸ線線質を決定する。
被検者の性別０年令０体格もこれを選定する押しがタン
を設ける。年令は５才以下、１０才以下、１５才以下、
２５才以下、５０才以下、６０オ以下、６０才以上の如
き区分とし、それに応じて撮影条件が変更されるように
する。
を設ける。年令は５才以下、１０才以下、１５才以下、
２５才以下、５０才以下、６０オ以下、６０才以上の如
き区分とし、それに応じて撮影条件が変更されるように
する。
体格は正常値より太っている、普通、やせているの三項
目の一つを入力する。
目の一つを入力する。
また、Ｘ線管と被検者の間の距離は、超音波距離測定装
置をＸ線管の放射口部に取プ付け、間を計測して算出す
る。この計測方法は超音波以外に光を用いる方法等もあ
るがζζでは省略する。
置をＸ線管の放射口部に取プ付け、間を計測して算出す
る。この計測方法は超音波以外に光を用いる方法等もあ
るがζζでは省略する。
以上の入力条件ａＸ線照射条件を規定するものであり、
これらＫよ）、必要とするＸ＠管電圧−ＸＩＩ管電流、
陽射時間が決定される。このうち、Ｘ線管電流−と曝射
時間…とを乗じたものを−Ｓ（マス値）と称してｉるＯ
Ｘ＠管電圧が一定ならばｍＡｇ値が同じときはＸ＠量は
同じである。
これらＫよ）、必要とするＸ＠管電圧−ＸＩＩ管電流、
陽射時間が決定される。このうち、Ｘ線管電流−と曝射
時間…とを乗じたものを−Ｓ（マス値）と称してｉるＯ
Ｘ＠管電圧が一定ならばｍＡｇ値が同じときはＸ＠量は
同じである。
とζろで、Ｘ１ｍ写真の解像度を決めるものの一つＫＸ
ａ管Ｏ焦点がある。今、Ｍ１図でｆ；Ｘ線管の焦点 ／、：Ｘ線管焦点と被写体との距離 ｊ、： Ｘ線管焦点と受像系（フィルム等）との距離 ｓｅｘｇ管焦点によるがケ とすれば ８＝／（ｍ−１）ｉた、ｍ−４（拡大率）と表わすこと
ができる。したがって上式よりＸ線管の焦点／Ｆ！小さ
いほどＳが小さくな）、焦点による一ヶが小さく、尖鋭
な写真が撮れることがわかる。
ａ管Ｏ焦点がある。今、Ｍ１図でｆ；Ｘ線管の焦点 ／、：Ｘ線管焦点と被写体との距離 ｊ、： Ｘ線管焦点と受像系（フィルム等）との距離 ｓｅｘｇ管焦点によるがケ とすれば ８＝／（ｍ−１）ｉた、ｍ−４（拡大率）と表わすこと
ができる。したがって上式よりＸ線管の焦点／Ｆ！小さ
いほどＳが小さくな）、焦点による一ヶが小さく、尖鋭
な写真が撮れることがわかる。
一方、動きのある被写体と撮影するときは曝射時間が短
い方が動きによる一ケが少なく、失鋭な写真が撮れる・ しかし所定のｍＡｓ値が必要であることから曝射時間を
短くすることはＸ線管電流を大きくすることが必要とな
る。
い方が動きによる一ケが少なく、失鋭な写真が撮れる・ しかし所定のｍＡｓ値が必要であることから曝射時間を
短くすることはＸ線管電流を大きくすることが必要とな
る。
Ｘ線管におけるＸ線管電流とはその陰極と陽極との間を
流れる電流であり、陰極から放射された電子ビームが陽
極上に衝突することＫよりここに焦点を結び、この焦点
にてＸ線Ｋｌｌ換されてＸｌｓ曝射が成される仕組みと
なっている。
流れる電流であり、陰極から放射された電子ビームが陽
極上に衝突することＫよりここに焦点を結び、この焦点
にてＸ線Ｋｌｌ換されてＸｌｓ曝射が成される仕組みと
なっている。
従って、陽極の焦点形成部は電子ビームの衝突によって
赤熱されることになるため、陽極が溶解しないように陽
極は円□錐台形状のものを回転させ、一点のみ加熱され
るようなことのないよう回転構造としである◇ しかし加熱による溶解の危険がある丸め、Ｘ線管におけ
るＸ線管電流の最大許容値はｘＩｓ管の焦点にようて制
限されておシ、ＸＩＩ管の焦点が小さいはど、最大許容
Ｘ線管電流は小さく奄ゐ。
赤熱されることになるため、陽極が溶解しないように陽
極は円□錐台形状のものを回転させ、一点のみ加熱され
るようなことのないよう回転構造としである◇ しかし加熱による溶解の危険がある丸め、Ｘ線管におけ
るＸ線管電流の最大許容値はｘＩｓ管の焦点にようて制
限されておシ、ＸＩＩ管の焦点が小さいはど、最大許容
Ｘ線管電流は小さく奄ゐ。
この様子を第２図に示す。
第２図は三相余波整流出力を用い陽極の回転数は３００
０ ｔ、ｐ−ｘｍで陽極電圧を８０ ｋＶ一定としたと
きの陽射時間と最大許容ＸＩＩ管電流との関係を・Ｘ線
管の焦点をΔラメータとして示したものである・実際に
Ｆｉこの図の値で得られる電流値０９０１ｊ！程度で使
うのがよいとされている〇九とえは人体の背部を撮影す
るとき社、８０ｋＶで１５ ｍＡ８必要であるとされて
いるが、これを５０ ｗ＠ｅで撮るときは３００ｉ必要
であり、１００ｍｍ・Ｃで撮るときＦｉ １５０ ｒｍ
でよい。前者のときはＸ線管焦点の大きさは１．２ ｗ
ｒ １−要し、後者のとき鉱０．８■でよい。前者の場
合被検体の体格が小さく １２ ｍＡ８でよいときは２
４０ｍＡでよくＸ線管焦点＃Ｊｉｉ、 ｏ■でよいこと
に＆る◎通常の背部撮影には胃の動きによる両像のがケ
を防ぐため５０ｍｍ・Ｃでの撮影を必要とするが、前部
麻酔剤を注射したときは胃の動きが停止するので１００
ｗｏｅで撮影し、むしろ、Ｘ線管焦点を小さくして、
焦点による一ケを少なくするのがよい。
０ ｔ、ｐ−ｘｍで陽極電圧を８０ ｋＶ一定としたと
きの陽射時間と最大許容ＸＩＩ管電流との関係を・Ｘ線
管の焦点をΔラメータとして示したものである・実際に
Ｆｉこの図の値で得られる電流値０９０１ｊ！程度で使
うのがよいとされている〇九とえは人体の背部を撮影す
るとき社、８０ｋＶで１５ ｍＡ８必要であるとされて
いるが、これを５０ ｗ＠ｅで撮るときは３００ｉ必要
であり、１００ｍｍ・Ｃで撮るときＦｉ １５０ ｒｍ
でよい。前者のときはＸ線管焦点の大きさは１．２ ｗ
ｒ １−要し、後者のとき鉱０．８■でよい。前者の場
合被検体の体格が小さく １２ ｍＡ８でよいときは２
４０ｍＡでよくＸ線管焦点＃Ｊｉｉ、 ｏ■でよいこと
に＆る◎通常の背部撮影には胃の動きによる両像のがケ
を防ぐため５０ｍｍ・Ｃでの撮影を必要とするが、前部
麻酔剤を注射したときは胃の動きが停止するので１００
ｗｏｅで撮影し、むしろ、Ｘ線管焦点を小さくして、
焦点による一ケを少なくするのがよい。
被検体Ｏ体格、部位によシ常に動きによる一ヶ、焦点に
よる♂ケを少なくし、最適の組み合せＫするためＫｔｉ
Ｘ線管の焦点が可変ｍになりていることが必要となる。
よる♂ケを少なくし、最適の組み合せＫするためＫｔｉ
Ｘ線管の焦点が可変ｍになりていることが必要となる。
現在のＸ線管は焦点が１．２箇と０．６■、１．０−と
０．３箇の如く、比較的大きく異なる二つの焦点を持っ
ている。これ社主として、伏きい方の焦点が撮影用、小
さい方の焦点がｘ ＠ ’ｒｖ透視用になっていて細か
な目的別の焦点寸法を全く考えていないためである。
０．３箇の如く、比較的大きく異なる二つの焦点を持っ
ている。これ社主として、伏きい方の焦点が撮影用、小
さい方の焦点がｘ ＠ ’ｒｖ透視用になっていて細か
な目的別の焦点寸法を全く考えていないためである。
Ｘ線管は陰極から放射された電子♂−ムがター４’、
） （陽極）に嶺り、この当った部分て、ＸｍＫ変換さ
れることによシＸ線を曝射するものでありＸ線管の焦点
は第３図に示す如＜Ｘｍ管Ｌ：ｂ陰極３１より出た電子
ビーム３２がタングステンの如き重金属でできた陽極で
あるいわゆるターゲットｓｓＫ＊突する部分の厘積３４
によって決まる。すなわち、電子ビームＪ２の断面積を
決定する陰極の構造によりて焦点の大きさは決まるとい
うことができる。
） （陽極）に嶺り、この当った部分て、ＸｍＫ変換さ
れることによシＸ線を曝射するものでありＸ線管の焦点
は第３図に示す如＜Ｘｍ管Ｌ：ｂ陰極３１より出た電子
ビーム３２がタングステンの如き重金属でできた陽極で
あるいわゆるターゲットｓｓＫ＊突する部分の厘積３４
によって決まる。すなわち、電子ビームＪ２の断面積を
決定する陰極の構造によりて焦点の大きさは決まるとい
うことができる。
陰極杜Ｍ４図に示す如く、フィラメント４１とこのフィ
ラメントの周囲を囲むように設ゆられた電子ビーム集束
用の外部構体４２とよりなり、それぞれの形状およびそ
の相対位置にようて電子ビームの形状が決ま〕、結果的
に焦点の大きさが決まる。
ラメントの周囲を囲むように設ゆられた電子ビーム集束
用の外部構体４２とよりなり、それぞれの形状およびそ
の相対位置にようて電子ビームの形状が決ま〕、結果的
に焦点の大きさが決まる。
ヒの構造の陰極において、焦点との関係を考えてみると
、まず第１Ｋフイラメント４１と外部構体４２との位置
および外部構体Ｏ形状を工夫する辷とによって、ｔた、
外部構体４２とフィラメント４１とは同電位とするのが
普通であるが、とＯＭＫフィラメント側を正とするよう
な電位差を持たせ為ことによ）、電界が生じフィラメン
トより放出される電子をより集束させるようＫなる九め
、この電位差を制御することにようて集束度を変えるこ
とが可能で、これＫより電子ビームの形状を変えること
ができる・特にこの電位差を連続的に変化させればこの
電位差による電界の作用によって電子ビームの集束状態
も変わり、従って電子ビームの形状も連続的に変化し、
ＸＩＩ管の焦点形状を連続的に可変させるととが可能と
なる。
、まず第１Ｋフイラメント４１と外部構体４２との位置
および外部構体Ｏ形状を工夫する辷とによって、ｔた、
外部構体４２とフィラメント４１とは同電位とするのが
普通であるが、とＯＭＫフィラメント側を正とするよう
な電位差を持たせ為ことによ）、電界が生じフィラメン
トより放出される電子をより集束させるようＫなる九め
、この電位差を制御することにようて集束度を変えるこ
とが可能で、これＫより電子ビームの形状を変えること
ができる・特にこの電位差を連続的に変化させればこの
電位差による電界の作用によって電子ビームの集束状態
も変わり、従って電子ビームの形状も連続的に変化し、
ＸＩＩ管の焦点形状を連続的に可変させるととが可能と
なる。
本発明は上記事情に鑑みて成されたもので、フィラメン
トを電子ビーム集束用の外部構体で包囲し九構造の陰極
を持つＸ線管を用い、前記陰極のフィラメントと外部構
体との間に電位差を与えると共にこの電位差を可変制御
することができるように構成することにより、ｘ＃管の
焦点を可変できるようＫＬ、目的に応じた焦点寸法とす
ることがてきて、最適なＸ線診断情報の得ることができ
るようにしたＸ線装置を提供することを目的とする・ 以下、本発明の一実施例について第４図、第５図を参照
しながら説明する。
トを電子ビーム集束用の外部構体で包囲し九構造の陰極
を持つＸ線管を用い、前記陰極のフィラメントと外部構
体との間に電位差を与えると共にこの電位差を可変制御
することができるように構成することにより、ｘ＃管の
焦点を可変できるようＫＬ、目的に応じた焦点寸法とす
ることがてきて、最適なＸ線診断情報の得ることができ
るようにしたＸ線装置を提供することを目的とする・ 以下、本発明の一実施例について第４図、第５図を参照
しながら説明する。
本装置においてはＸ線管としてその陰極構造が第４図に
示す如くフィラメント４１のまわりをその電子ビーム放
射方向側を除いて外部構体４２で囲み電子ビームの集束
を蝶かる構造としたものを用いるものとする。そして、
この外部構体４２とフィラメント４１との間はフィラメ
ント４１何が正となるような電位差を４えることができ
る構成とし、しかも、この電位差は所るものとする０ このような焦点可変ｍｘｍ管を用い、撮影部位に適した
、ＸＩＩ管焦点焦点影時間、Ｘ線管電流を選定すること
Ｋよｉ最も良好なＸＩＩ写真をとるようにする仁とがで
きる。
示す如くフィラメント４１のまわりをその電子ビーム放
射方向側を除いて外部構体４２で囲み電子ビームの集束
を蝶かる構造としたものを用いるものとする。そして、
この外部構体４２とフィラメント４１との間はフィラメ
ント４１何が正となるような電位差を４えることができ
る構成とし、しかも、この電位差は所るものとする０ このような焦点可変ｍｘｍ管を用い、撮影部位に適した
、ＸＩＩ管焦点焦点影時間、Ｘ線管電流を選定すること
Ｋよｉ最も良好なＸＩＩ写真をとるようにする仁とがで
きる。
すがわち、第５図に示すように被検者の性別年令・体格
１撮影部位使用フィルム、使用装置、等の条件によ１、
Ｘ線管電圧および必要ｍＡｓが選定されるようこれら各
項目別条件を入力するための入力装置ｓ１を設け、これ
ら入力条件をもとＫＸ線管電圧や１８を求める中央演算
処理装置５２を設けて外部或いは内部の記憶装置５３に
データの記憶および処理をさせ構成とする。中央演算処
理装置５２の記憶装置ｓｓＫ記図の特性＃′ｉ、Ｘ線管
の種類によりまた、陽極の回転数（多くは３．００ Ｏ
ｒ、ｐ、ｍあるい＃ｉ９．００ Ｏｒ、ｐ、ｍのいずれ
か）、陽極電源の種類、（単相全波整流、三相全波整流
等の別）等でも異る。これらを中央演算処理装置５２に
記憶させておき、与えられた条件下での最適条件を算出
し、所定の値に電圧等を設定する０５４は中央演算処理
装置５２の出力する算出条件に基づいてＸ線管陽極電圧
、曝射時間、バイアス電圧、フィラメント電圧等の設定
を行なう設定装置である〇このような焦点可変型Ｘ線管
を用いた本装置は入力装置５１より被検者の性別、年令
、体格、撮影部位、使用フィルム、Ｘａ管、・フィルム
間距離、Ｘ線管、被検者間、距離、グリッドの種類、Ｘ
線管の種類など使用装置条件等の各種条件を入力する。
１撮影部位使用フィルム、使用装置、等の条件によ１、
Ｘ線管電圧および必要ｍＡｓが選定されるようこれら各
項目別条件を入力するための入力装置ｓ１を設け、これ
ら入力条件をもとＫＸ線管電圧や１８を求める中央演算
処理装置５２を設けて外部或いは内部の記憶装置５３に
データの記憶および処理をさせ構成とする。中央演算処
理装置５２の記憶装置ｓｓＫ記図の特性＃′ｉ、Ｘ線管
の種類によりまた、陽極の回転数（多くは３．００ Ｏ
ｒ、ｐ、ｍあるい＃ｉ９．００ Ｏｒ、ｐ、ｍのいずれ
か）、陽極電源の種類、（単相全波整流、三相全波整流
等の別）等でも異る。これらを中央演算処理装置５２に
記憶させておき、与えられた条件下での最適条件を算出
し、所定の値に電圧等を設定する０５４は中央演算処理
装置５２の出力する算出条件に基づいてＸ線管陽極電圧
、曝射時間、バイアス電圧、フィラメント電圧等の設定
を行なう設定装置である〇このような焦点可変型Ｘ線管
を用いた本装置は入力装置５１より被検者の性別、年令
、体格、撮影部位、使用フィルム、Ｘａ管、・フィルム
間距離、Ｘ線管、被検者間、距離、グリッドの種類、Ｘ
線管の種類など使用装置条件等の各種条件を入力する。
するとこれら各種データはＸ線管電圧および必９ ｍＡ
Ｂが演算選定できるよう中央演算処理装置５１に送られ
中央演算処理装置５１祉これらデータを記憶する。
Ｂが演算選定できるよう中央演算処理装置５１に送られ
中央演算処理装置５１祉これらデータを記憶する。
一方、記憶装置５１１にはＸａ管の特性や被写体部位別
のＸ線陽射条件などが記憶されており、中央演算処理装
置５１は前記入力条件のデータをもとにこの記憶装置５
Ｓの情報を参照しつつ演算処理を行ないＸ線管電圧の選
定、Ｘ線管陰極のバイアス電圧０遺定（これよりＸＩＩ
管焦点焦点まる）、Ｘ線管フィラメント電流の選定（こ
れＫよりＸ線管電流が定まる）および曝射時間の選定を
行なう。
のＸ線陽射条件などが記憶されており、中央演算処理装
置５１は前記入力条件のデータをもとにこの記憶装置５
Ｓの情報を参照しつつ演算処理を行ないＸ線管電圧の選
定、Ｘ線管陰極のバイアス電圧０遺定（これよりＸＩＩ
管焦点焦点まる）、Ｘ線管フィラメント電流の選定（こ
れＫよりＸ線管電流が定まる）および曝射時間の選定を
行なう。
この選定された条件は設定装置１４に出力され設定装置
５４はこの選定された各々の条件に従った条件設定を行
なう。例えば胃の撮影において８０ ｋＶ Ｉ Ｓ ｒ
ａＡｌｉで撮影すれば曳いと算出されればＸ線管理陽極
電圧は８０ ｋＶに設定される。
５４はこの選定された各々の条件に従った条件設定を行
なう。例えば胃の撮影において８０ ｋＶ Ｉ Ｓ ｒ
ａＡｌｉで撮影すれば曳いと算出されればＸ線管理陽極
電圧は８０ ｋＶに設定される。
１５ ｒａＡ８と出れ社ｉ被検者に背部運動停止剤を与
えていない場合は５０ ｍｓの曝射時間となり、このと
き必要な電流３００ｍＡを得られる最低の焦点は１．０
１−程度であるので設定装置５４ｄＸ線管の焦点が１０
１鱈になるようなバイアス電圧をフイ、ラメント４１と
外部構体４２の間に印加するように設定し、該バイアス
電圧を与えるよう圧する。しかる後フィラメント電圧を
印加し、Ｘｌｓの曝射が行なわれる。本方式によれば、
常ＫＸ＃管焦点はその条件下で必要奈最小限の値となり
、その焦点くおける最大出力でＸ線管を動作させるとと
Ｋなる。
えていない場合は５０ ｍｓの曝射時間となり、このと
き必要な電流３００ｍＡを得られる最低の焦点は１．０
１−程度であるので設定装置５４ｄＸ線管の焦点が１０
１鱈になるようなバイアス電圧をフイ、ラメント４１と
外部構体４２の間に印加するように設定し、該バイアス
電圧を与えるよう圧する。しかる後フィラメント電圧を
印加し、Ｘｌｓの曝射が行なわれる。本方式によれば、
常ＫＸ＃管焦点はその条件下で必要奈最小限の値となり
、その焦点くおける最大出力でＸ線管を動作させるとと
Ｋなる。
その結果、得られた画像はＸ線管の焦点？ケ、被写体の
運動などによるがケなどを最小限に抑えた、尖鋭な写真
となる口 ところで、Ｘ線管の焦点を可変するには第４図の構成の
陰極においてフィラメント４１と外部構体４２の間に負
電圧をかけることで行なえるが、横長の陰極の構造から
みて、フィラメント４１０幅方向（横断方向）はフィラ
メント幅が狭いため、電界の作用する力がどこでもほぼ
同じで該方向に対する集束形状はバイアス電圧によりて
容易に所望のとう〕変化させ得るが、長手方向に対して
はフィラメント４１０両端側の外部構体４２側壁とフィ
ラメント４１の各位置との距離が異なるため、必ずしも
制御容易とは言い難い０ξれに対して第６図に示すよう
に、フィラメント４１０両端側の外部構、体４２側壁開
口部端に鍔状の集電電極４３ｍ、４３ｂをせり出させて
設は長手方向制御用の電極とし、とζにもフィラメント
−外部構体間の電圧とは別の電圧を加えれば、Ｘ、Ｙ両
軸方向からそれぞれ異なる電界を与えることになるので
、集束を行ないやすくな）、焦点形状の一層良好な制御
が行なえる。第６図は焦点形状の一層良好な制御を行な
うための電極取付方法の一例を示したものであシ、他の
形状をとることは勿論差し支えない。
運動などによるがケなどを最小限に抑えた、尖鋭な写真
となる口 ところで、Ｘ線管の焦点を可変するには第４図の構成の
陰極においてフィラメント４１と外部構体４２の間に負
電圧をかけることで行なえるが、横長の陰極の構造から
みて、フィラメント４１０幅方向（横断方向）はフィラ
メント幅が狭いため、電界の作用する力がどこでもほぼ
同じで該方向に対する集束形状はバイアス電圧によりて
容易に所望のとう〕変化させ得るが、長手方向に対して
はフィラメント４１０両端側の外部構体４２側壁とフィ
ラメント４１の各位置との距離が異なるため、必ずしも
制御容易とは言い難い０ξれに対して第６図に示すよう
に、フィラメント４１０両端側の外部構、体４２側壁開
口部端に鍔状の集電電極４３ｍ、４３ｂをせり出させて
設は長手方向制御用の電極とし、とζにもフィラメント
−外部構体間の電圧とは別の電圧を加えれば、Ｘ、Ｙ両
軸方向からそれぞれ異なる電界を与えることになるので
、集束を行ないやすくな）、焦点形状の一層良好な制御
が行なえる。第６図は焦点形状の一層良好な制御を行な
うための電極取付方法の一例を示したものであシ、他の
形状をとることは勿論差し支えない。
また、第５図に示した本装置において、被写体に示した
本装置において、被写体の体格を入力すること、あるい
はＸｌｓ管、被写体間距離の算出を自動的に行なうよう
Ｋすることもできる。
本装置において、被写体の体格を入力すること、あるい
はＸｌｓ管、被写体間距離の算出を自動的に行なうよう
Ｋすることもできる。
即ち、Ｘ線管のｘ！Ｉ放射口の近傍に超音波発生源を設
置し、これより超音波を発生させ、被写体表面にて反射
され戻ってくるまでの時間を計測して距離を算出し、こ
れをもとに上述の体格及びＸ線管、被写体間距離データ
として中央演算処理装置ｓｚＫ与えれば良い。これによ
り上以上述べたように本発明はフィラメントを電子ビー
ム集束用の外部構体で囲み前記フィラメントから陽極に
向は放射される電子ビームの集束を行ない易くした陰極
構造のＸｇ管を用い、フィラメントと外部構体との間に
所望の電位差を与えるように構成したので、この電位差
を調整することＫよりＸ線管の陽極上に形成される焦点
の大きさを可変することができ、従って、撮影時間を短
かくするときはｎＩＡＳ値に応じ九大きな寸法の焦点、
ま六撮影時間を長くしても良い場合などではｍＡｓ値に
応じ九小さい焦点とするなどの撮影対象部位や撮影時の
状況或いはＸ線管の定格などに応じた最適な焦点寸法を
種々選択設定で色、最良のＸ線撮影ができるなど、優れ
た特徴を有するＸ線装置を提供することができる。
置し、これより超音波を発生させ、被写体表面にて反射
され戻ってくるまでの時間を計測して距離を算出し、こ
れをもとに上述の体格及びＸ線管、被写体間距離データ
として中央演算処理装置ｓｚＫ与えれば良い。これによ
り上以上述べたように本発明はフィラメントを電子ビー
ム集束用の外部構体で囲み前記フィラメントから陽極に
向は放射される電子ビームの集束を行ない易くした陰極
構造のＸｇ管を用い、フィラメントと外部構体との間に
所望の電位差を与えるように構成したので、この電位差
を調整することＫよりＸ線管の陽極上に形成される焦点
の大きさを可変することができ、従って、撮影時間を短
かくするときはｎＩＡＳ値に応じ九大きな寸法の焦点、
ま六撮影時間を長くしても良い場合などではｍＡｓ値に
応じ九小さい焦点とするなどの撮影対象部位や撮影時の
状況或いはＸ線管の定格などに応じた最適な焦点寸法を
種々選択設定で色、最良のＸ線撮影ができるなど、優れ
た特徴を有するＸ線装置を提供することができる。
ｆａ１図は焦点による一ヶを示す図、第２図はＸａ管の
焦点による特性の変化を示す図、第３図はＸ線管の陰極
と陽極の関係を示す図、第４図はＸ線管の陰極の構造を
示す図、第５図は中央演算処理装置の機能を示す図、第
６図は可変焦点形Ｘ線管の変形例を示す図である。 ３ノ・−陰極、３３・・・ｌｉＩ極、４１・・・フィラ
メント・ ４２・・・外部構体・ ５１・・・入力装置
、５２・・・中央演算処理装置、５３・・・記憶装置、
５４・・・設定装置。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第５図 第６図
焦点による特性の変化を示す図、第３図はＸ線管の陰極
と陽極の関係を示す図、第４図はＸ線管の陰極の構造を
示す図、第５図は中央演算処理装置の機能を示す図、第
６図は可変焦点形Ｘ線管の変形例を示す図である。 ３ノ・−陰極、３３・・・ｌｉＩ極、４１・・・フィラ
メント・ ４２・・・外部構体・ ５１・・・入力装置
、５２・・・中央演算処理装置、５３・・・記憶装置、
５４・・・設定装置。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第５図 第６図
Claims (2)
- （１）７４ラメントを電子ビーム集束用の外部構体で囲
み前記フィラメントから陽極に向は放射される電子ビー
ムの集束を行なうよう和した陰極構造の１Ｍ管を用いた
ｘｌＩｍ装置において。 前記陰極におけるフィラメントと外部構体との間に所望
の電位差を与える装置を設け、前記電位差を調整するこ
とにより前配電子ビームの集束を可変できるよう°にし
た仁とを特徴とするＸ線装置。 - （２）フィラメントを電子ビーム集束用の外部構体で囲
み、前記フィラメントから陽極に向は放射される電子ビ
ームの集束を行なうようにした陰極構造のｘＩＩＩ管を
用い走Ｘａ装置において、前記陰極におけるフィラメン
トと外部術１体との間に所望の電位差を与える装置を設
け、ｔた被写体の条件及びＸ線管・被写体間距離及びＸ
＠菅・フィルム間Ｎ闇などの条件と予め４見られたＸ線
管特性及び被写体部位別のｘ！Ｉ陽射条件データをもと
に前記ＸＩ／ＩＷＫ与える電圧、電流、Ｘ線曝射時間、
Ｘ＠管の焦点の大きさを決める。 前記電位差をそれぞれ求める装置を設け、これら求めた
条件で前記Ｘ線管を制御することを特徴とするＸ！Ｉ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56145801A JPS5848399A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56145801A JPS5848399A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Ｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5848399A true JPS5848399A (ja) | 1983-03-22 |
Family
ID=15393461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56145801A Pending JPS5848399A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | Ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848399A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03190043A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-08-20 | General Electric Co <Ge> | Ｘ線管アノードのスポットサイズの光学的感知方式およびｘ線管 |
| WO2008006569A2 (de) | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Anordnung zur erzeugung elektromagnetischer strahlung und verfahren zum betreiben der anordnung |
-
1981
- 1981-09-16 JP JP56145801A patent/JPS5848399A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03190043A (ja) * | 1989-10-31 | 1991-08-20 | General Electric Co <Ge> | Ｘ線管アノードのスポットサイズの光学的感知方式およびｘ線管 |
| WO2008006569A2 (de) | 2006-07-11 | 2008-01-17 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Anordnung zur erzeugung elektromagnetischer strahlung und verfahren zum betreiben der anordnung |
| WO2008006569A3 (de) * | 2006-07-11 | 2008-03-20 | Zeiss Ind Messtechnik Gmbh | Anordnung zur erzeugung elektromagnetischer strahlung und verfahren zum betreiben der anordnung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6977989B2 (en) | Method and device for X-ray exposure control | |
| Sorenson et al. | Scatter rejection by air gaps: an empirical model | |
| JP5460106B2 (ja) | Ｘ線撮影装置及びその制御方法、コンピュータプログラム | |
| CN101453952B (zh) | X射线ct装置 | |
| US5293312A (en) | Method and apparatus for computing tomographic scans | |
| JP6125126B1 (ja) | Ｘ線撮影条件補正方法、プログラム、及び、ｘ線システム | |
| US8848867B2 (en) | Method and apparatus for adaptive exposure in x-ray systems | |
| JP2004180715A (ja) | Ｘ線コンピュータ断層撮影装置 | |
| US5070519A (en) | Selective equalization radiography | |
| JP2009504221A (ja) | 動的デュアルエネルギーｘ線撮影のシステム及び方法 | |
| EP3858241B1 (en) | Computer-implemented method for determining at least one main acquisition parameter and method for acquiring a main x-ray image | |
| JP6670509B2 (ja) | コンピュータ断層撮像システムの造影方法 | |
| Tateno et al. | Low-dosage x-ray imaging system employing flying spot x-ray microbeam (dynamic scanner) | |
| JPS6337932Y2 (ja) | ||
| Franklin | Certain factors of aberration to be considered in clinical roentgenographic cephalometry | |
| JP2001137223A (ja) | Ｘ線透視撮影装置、ｘ線撮影方法およびｘ線透視撮影方法 | |
| JPS5848399A (ja) | Ｘ線装置 | |
| EP0608237B1 (en) | Method and apparatus for computing tomographic and panoramic scans | |
| US5845269A (en) | Fuzzy control system, particularly for dose rate control in an X-ray diagnostics apparatus | |
| US20080075379A1 (en) | Image processing device and image processing method | |
| JPH0426089Y2 (ja) | ||
| DE102021211885B4 (de) | Computerimplementiertes Verfahren zum Betrieb einer Röntgeneinrichtung, Röntgeneinrichtung, Computerprogramm und elektronisch lesbarer Datenträger | |
| JP4754812B2 (ja) | Ｘ線撮影装置 | |
| JPS6215800A (ja) | Ｘ線診断装置 | |
| JPH09238935A (ja) | Ｘ線ｃｔ装置および画像生成方法 |