JPS5849407A - 乾燥半透膜の製造方法 - Google Patents
乾燥半透膜の製造方法Info
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- JPS5849407A JPS5849407A JP14595481A JP14595481A JPS5849407A JP S5849407 A JPS5849407 A JP S5849407A JP 14595481 A JP14595481 A JP 14595481A JP 14595481 A JP14595481 A JP 14595481A JP S5849407 A JPS5849407 A JP S5849407A
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- Japan
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- semipermeable membrane
- dry
- producing
- membrane
- membrane according
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は乾燥半透膜の製造方法に関し、詳しくはM澗半
透誤から*L廟半透膜を製造する方法において、得られ
る乾燥膜が再湿潤化後、当初の湿潤膜よりも小さい分−
分子量を有するようにした乾燥半透膜の製造方法に関す
る。
透誤から*L廟半透膜を製造する方法において、得られ
る乾燥膜が再湿潤化後、当初の湿潤膜よりも小さい分−
分子量を有するようにした乾燥半透膜の製造方法に関す
る。
一般に逆浸透膜や限外濾過膜等の半透膜において、4I
#除し得る溶質の分子量は膜の孔径に依存し、この膜の
孔径は、膜素材の重合体の溶液、即ち、製膜液の調製か
ら凝固に至るm膜の条件により定まる。しかしながら、
非常に多くの要因を含む鋏鋏条件を、必要とする膜孔径
に応じて選定することは実際t、非常に困難であって、
多大の労力と時間を要する。
#除し得る溶質の分子量は膜の孔径に依存し、この膜の
孔径は、膜素材の重合体の溶液、即ち、製膜液の調製か
ら凝固に至るm膜の条件により定まる。しかしながら、
非常に多くの要因を含む鋏鋏条件を、必要とする膜孔径
に応じて選定することは実際t、非常に困難であって、
多大の労力と時間を要する。
本発明者らは1紀に鑑みて鋭意研究した結果、湿amを
多価アルコール又はそのm導体の水溶液で処理した後、
乾燥して得られる乾燥膜は、これを再湿潤すると当初の
湿潤膜よりも小さい分−分子量を有せしめることができ
ることを見出して本発明に至ったものである。
多価アルコール又はそのm導体の水溶液で処理した後、
乾燥して得られる乾燥膜は、これを再湿潤すると当初の
湿潤膜よりも小さい分−分子量を有せしめることができ
ることを見出して本発明に至ったものである。
従って、本発明の目的は、潟澗膜から乾燥膜を製造する
方法に詔いて、得られる乾燥膜に再温澗後、当初の湿潤
膜よりも小さも゛1分−分子量を有せしめた乾燥半透膜
の製造方法を提供することであり、別な観点に立てば、
半透膜の分画分子量を制御する。詳しくは、半透膜が既
に有する定まった分画分子量を小さくする方法を提供す
ることである。
方法に詔いて、得られる乾燥膜に再温澗後、当初の湿潤
膜よりも小さも゛1分−分子量を有せしめた乾燥半透膜
の製造方法を提供することであり、別な観点に立てば、
半透膜の分画分子量を制御する。詳しくは、半透膜が既
に有する定まった分画分子量を小さくする方法を提供す
ることである。
本発明は、ポリアミF、ボリイ、ミド及びポリスルホン
から選ばれる重合体からなる湿潤半透膜から乾燥半透膜
を製造する方法に禽いて、湿潤半透膜を訳素数2〜16
の多価アルコール及び/又はその誘導体の2〜50重鳳
−重水−液で処理した後、室温乃至60℃の温度で乾燥
し、かくして得る乾燥膜に、再湿潤化後、当初の湿潤膜
よりも小さい分画分子量を有せしめることを特徴とする
。
から選ばれる重合体からなる湿潤半透膜から乾燥半透膜
を製造する方法に禽いて、湿潤半透膜を訳素数2〜16
の多価アルコール及び/又はその誘導体の2〜50重鳳
−重水−液で処理した後、室温乃至60℃の温度で乾燥
し、かくして得る乾燥膜に、再湿潤化後、当初の湿潤膜
よりも小さい分画分子量を有せしめることを特徴とする
。
本発明において、半透膜の分−分子量とは、その躾があ
る分子量の溶質に対して9(lの排除率を有するとき、
その溶質の分子量をいう。
る分子量の溶質に対して9(lの排除率を有するとき、
その溶質の分子量をいう。
本発明において用いる#j1m半透膜はポリアミド、ポ
リイミド又はポリスルホンからなる膜である。
リイミド又はポリスルホンからなる膜である。
ポリアミド半透膜は好ましくは2式
なる繰返し単位を有し、特に好ましくはフェニレン基の
うち、m−フェニレン基が70モル−以上。
うち、m−フェニレン基が70モル−以上。
残りがp−フェニレン基である芳香族ポリアミドからな
る半透膜であり、このような半透膜は、既に知られてい
るように(例えば、特開昭56−g804号等)、芳香
族ポリアミドと塩化リチクムのような無機塩添加剤をN
、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等
の有機溶剤に溶解して製膜液とし、これをガラス板その
他の適宜の支持基材に流通塗布後、水中に浸漬、凝固さ
せることによって得られる。
る半透膜であり、このような半透膜は、既に知られてい
るように(例えば、特開昭56−g804号等)、芳香
族ポリアミドと塩化リチクムのような無機塩添加剤をN
、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等
の有機溶剤に溶解して製膜液とし、これをガラス板その
他の適宜の支持基材に流通塗布後、水中に浸漬、凝固さ
せることによって得られる。
本発明において好ましく用い得るポリイミドは。
l
で表わされる繰返し本位を有し、好ましくはRが芳香族
基又は−CH,−、−C(CHI)意−m 0−1−8
1ムム−(但し、ム及びム はアルキル基又はシクロー
ルキル基を示す。)等の3価の結合基で結合されている
芳香族基であるポリイミドからなる半透膜であり、この
ような半透膜も、既に知られているように(例えば、特
開昭5i−15!507号)、ポリイミドとジエチレン
グリコールのような添加剤とを含む製膜液から、上記芳
香族ボアルキレン基、酸素、スルホン基、硫黄等で結合
べ!Σ〔8夛X等である。
基又は−CH,−、−C(CHI)意−m 0−1−8
1ムム−(但し、ム及びム はアルキル基又はシクロー
ルキル基を示す。)等の3価の結合基で結合されている
芳香族基であるポリイミドからなる半透膜であり、この
ような半透膜も、既に知られているように(例えば、特
開昭5i−15!507号)、ポリイミドとジエチレン
グリコールのような添加剤とを含む製膜液から、上記芳
香族ボアルキレン基、酸素、スルホン基、硫黄等で結合
べ!Σ〔8夛X等である。
次に、本発明にふいて好ましく用い得るポリスルボン半
透膜は1式 %式%() 又は、式 [−〇■戸o2()] ぼ)で表わされる繰
返し単位を有するポリスルホン重合体からなる半透膜で
あり、@記した半透膜と同様にして製造される〔例えば
、米国特許第3,615.024号、米l;III特許
第4.051,800号、特開昭49−28188号等
〕。
透膜は1式 %式%() 又は、式 [−〇■戸o2()] ぼ)で表わされる繰
返し単位を有するポリスルホン重合体からなる半透膜で
あり、@記した半透膜と同様にして製造される〔例えば
、米国特許第3,615.024号、米l;III特許
第4.051,800号、特開昭49−28188号等
〕。
本発゛明において処理する湿潤半透膜は、その分画分子
量において特に制限されないが、1000〜g0000
0程度の分画分子量を有する限外濾過膜である場合に好
適な結果が得られる。
量において特に制限されないが、1000〜g0000
0程度の分画分子量を有する限外濾過膜である場合に好
適な結果が得られる。
本発明の方法にふいて用いる炭素数2〜16の多価アル
コール及びそのm導体の一つは、水溶性であって、一般
式 %式%() (但し、 R” 、 R”及びR4はそれぞれ独立に水
素、メチル基又はエチル基を示し、nは、Rが水素の雪
9ゞ゛ とき1−6の整数を、Rはメチル基又はエチル基のとき
1〜8の整数を示す。) で表わされるグリコール及びこれらの七ノー若しくはジ
低級アルキルエーテルてあり、好ましくは。
コール及びそのm導体の一つは、水溶性であって、一般
式 %式%() (但し、 R” 、 R”及びR4はそれぞれ独立に水
素、メチル基又はエチル基を示し、nは、Rが水素の雪
9ゞ゛ とき1−6の整数を、Rはメチル基又はエチル基のとき
1〜8の整数を示す。) で表わされるグリコール及びこれらの七ノー若しくはジ
低級アルキルエーテルてあり、好ましくは。
nは、R2が水素のとき2又は3の整数であり、R1が
メチル基又はエチル基のときl又は念の整数である。こ
れらの具体例としては、エチレングリコ−7し一ジエチ
レングリコール、トリエチレンクリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル。
メチル基又はエチル基のときl又は念の整数である。こ
れらの具体例としては、エチレングリコ−7し一ジエチ
レングリコール、トリエチレンクリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル。
エチレンクリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリプールモノメチルエーテル等の(ポ
リ)エチレングリコール及びそのメチル−若しくはエチ
ルエーテル誘導体、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、フロピレンクリコール七ツメチルエーテ
ル。
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、ジエチレンクリコールジメチルエーテル
、トリエチレングリプールモノメチルエーテル等の(ポ
リ)エチレングリコール及びそのメチル−若しくはエチ
ルエーテル誘導体、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、フロピレンクリコール七ツメチルエーテ
ル。
ゾロビレングリコール七ノエチルエーテル等の(ポリ)
プロピレングリコール及びそのメチル−若しくはエチル
エーテルa導体を挙げることができる。
プロピレングリコール及びそのメチル−若しくはエチル
エーテルa導体を挙げることができる。
他の好ましい多価アルコールは、水溶性であって、一般
式 %式%() (但し、Rは縦素数8〜6の飽和脂肪族訳化水1g五を
示し1mは!i〜6の整数を示す。)で表わされる脂肪
族多価アルコールである。具体例として、グリセリン、
l、8−ゾロバンジオール。
式 %式%() (但し、Rは縦素数8〜6の飽和脂肪族訳化水1g五を
示し1mは!i〜6の整数を示す。)で表わされる脂肪
族多価アルコールである。具体例として、グリセリン、
l、8−ゾロバンジオール。
1.8−ブタンジオール、l、4−ブタンジオール、2
.8−ブタンジオール、l、L&4−ブタンテトクオー
ル、キジリント、ンルピット、ペンタエリスリトール等
を挙げることができる 本発明において特に好ましくは、グリセリン。
.8−ブタンジオール、l、L&4−ブタンテトクオー
ル、キジリント、ンルピット、ペンタエリスリトール等
を挙げることができる 本発明において特に好ましくは、グリセリン。
x f L/ンクリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール及びペン
タエリスリトールから選ばれる少なくともm−の多価ア
ルコールが用いられる。
リエチレングリコール、プロピレングリコール及びペン
タエリスリトールから選ばれる少なくともm−の多価ア
ルコールが用いられる。
本発明の方法は1通常、水中で製膜された前記湿潤半透
膜を上記多価アルコール及び/又はその誘導体の水溶液
で処理した後、穏和な条件て乾燥するものであるが、こ
の際に、水溶液の濃度は、当初の湿潤膜の分画分子量と
、必要とする乾燥族の再湿潤後の分画分子量に応じて、
8〜50重量−1好ましくは5〜sO重量−の範囲で選
ばれる。
膜を上記多価アルコール及び/又はその誘導体の水溶液
で処理した後、穏和な条件て乾燥するものであるが、こ
の際に、水溶液の濃度は、当初の湿潤膜の分画分子量と
、必要とする乾燥族の再湿潤後の分画分子量に応じて、
8〜50重量−1好ましくは5〜sO重量−の範囲で選
ばれる。
一般に半透膜は表面にスキン層と呼ばれる微孔を有する
緻密層と、これを一体的に支持する粗な多孔質層とから
形成されているが、本発明にふいては、湿潤膜を多価ア
ルコール及び/又はその11導体の水溶波で処理後、穏
和な条件で乾燥し、その際、特に緻密層に残存する多価
アルコール又はそのlII導体の鳳を調整することにょ
蜂、乾燥族の再湿潤後の分画分子量をstemする。即
ち、湿潤膜を乾燥するとき、膜の緻密層の微孔は縮小す
るが。
緻密層と、これを一体的に支持する粗な多孔質層とから
形成されているが、本発明にふいては、湿潤膜を多価ア
ルコール及び/又はその11導体の水溶波で処理後、穏
和な条件で乾燥し、その際、特に緻密層に残存する多価
アルコール又はそのlII導体の鳳を調整することにょ
蜂、乾燥族の再湿潤後の分画分子量をstemする。即
ち、湿潤膜を乾燥するとき、膜の緻密層の微孔は縮小す
るが。
この乾燥時に緻密層に残存する多価アルプール又はその
誘導体の鳳が多い程、緻密層の微孔孔径の縮小度合を小
さく抑えることができる。従って、水溶液の濃度が高い
程、当初の湿潤膜に比べてよ的小さい分画分子量の半透
膜が得られ、水溶液の濃度が低い程、当初の湿潤膜に近
接した分画分子量の半透膜が得られる。
誘導体の鳳が多い程、緻密層の微孔孔径の縮小度合を小
さく抑えることができる。従って、水溶液の濃度が高い
程、当初の湿潤膜に比べてよ的小さい分画分子量の半透
膜が得られ、水溶液の濃度が低い程、当初の湿潤膜に近
接した分画分子量の半透膜が得られる。
しかしながら、水溶液の濃度が501鳳チを越えるとき
は1分画分子鳳を小さくするには実質的に効果がなく、
反対に水?#波の!1度がs”txiitsより小さい
ときには1分画分子量は著しく小さくなるが、同時に透
水速度も著しく小さくなるので。
は1分画分子鳳を小さくするには実質的に効果がなく、
反対に水?#波の!1度がs”txiitsより小さい
ときには1分画分子量は著しく小さくなるが、同時に透
水速度も著しく小さくなるので。
実用上、好ましくない。好ましい水溶液の濃度はb〜8
0重ffi優である。
0重ffi優である。
水溶液による湿潤半透膜の処理は、静置又は攪拌した水
溶液中に半透膜を浸漬してもよく、膜に処理で十分であ
る。
溶液中に半透膜を浸漬してもよく、膜に処理で十分であ
る。
多価アルコール又はその誘導体水溶液に半透膜を浸漬後
、乾燥する際には、前記したように、乾燥の過程て半透
膜の緻密層に多価アルコール又はその誘導体が実質的に
蒸発しない程度に穏和な条件を選ぶのがよ(、好ましく
は室温乃至60”C1特に好ましくは室温乃至40℃で
あり、このような温度で放置し、又は送風下に乾燥すれ
ばよい。
、乾燥する際には、前記したように、乾燥の過程て半透
膜の緻密層に多価アルコール又はその誘導体が実質的に
蒸発しない程度に穏和な条件を選ぶのがよ(、好ましく
は室温乃至60”C1特に好ましくは室温乃至40℃で
あり、このような温度で放置し、又は送風下に乾燥すれ
ばよい。
乾燥時間は特に@限されないが、普遍、10〜lOO時
閲程度であり、膜中の水分が蒸発して、膜が恒量に達す
るまて乾燥すればよい。
閲程度であり、膜中の水分が蒸発して、膜が恒量に達す
るまて乾燥すればよい。
以上のように、本1明によれば、既に製膜され。
定まった分画分子量を有する半透膜を簡単な方法で処理
することにより、その分画分子量を変化させることがで
き、膜設計において有益な手段を提供する。
することにより、その分画分子量を変化させることがで
き、膜設計において有益な手段を提供する。
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが1本発明はこ
れら実施例に伺ら刺限されるものてはない。尚、以下に
おいて、aBは重量部を意味し、水溶液濃度のチは重j
l−を意味し、また、半透膜の分画分子量は膜が排除率
90−を示すダリエチレングリコール(以下、PIGと
いう。)の平均分子量によって評価した。
れら実施例に伺ら刺限されるものてはない。尚、以下に
おいて、aBは重量部を意味し、水溶液濃度のチは重j
l−を意味し、また、半透膜の分画分子量は膜が排除率
90−を示すダリエチレングリコール(以下、PIGと
いう。)の平均分子量によって評価した。
実施例1
前記式(I)において、 m−フェニレン基がテOモル
%、P−フェニレン基が80モル−である繰返し重積を
有し、30℃に怠けるy−メチル−2−ピロリドン溶液
の極限粘度が1.83である芳香族ポリアミド12部と
塩化リチクム7部とをN)I −ジメチルアセトアミド
10部及びジメチルスルホキシド718Bとからなる混
合溶剤に溶解して製膜液を調製した。この製膜液を室温
でガラス板上に塗布し、直ちに20℃の水中に投入、2
4時間浸漬、凝固させて、湿潤半透膜を得た。この膜は
IKy/ls の圧力下で純水透水速度&?1m/c
m・分を有し、4 h / cps の圧力下で種々
の平均分子量を有するPFGの1gl水溶液を限外濾過
したところ、下に示すPEG排除率を有した。PIGの
平均分子量と排除率のグラフから分画分子量は約sgo
ooと評価された。
%、P−フェニレン基が80モル−である繰返し重積を
有し、30℃に怠けるy−メチル−2−ピロリドン溶液
の極限粘度が1.83である芳香族ポリアミド12部と
塩化リチクム7部とをN)I −ジメチルアセトアミド
10部及びジメチルスルホキシド718Bとからなる混
合溶剤に溶解して製膜液を調製した。この製膜液を室温
でガラス板上に塗布し、直ちに20℃の水中に投入、2
4時間浸漬、凝固させて、湿潤半透膜を得た。この膜は
IKy/ls の圧力下で純水透水速度&?1m/c
m・分を有し、4 h / cps の圧力下で種々
の平均分子量を有するPFGの1gl水溶液を限外濾過
したところ、下に示すPEG排除率を有した。PIGの
平均分子量と排除率のグラフから分画分子量は約sgo
ooと評価された。
PIG平均分子jl pgo排除率(至)10000
0 9&O goooo g48 7500 15 2000 α2 次に、この湿潤膜を下表に示す濃度のグリセリン水溶波
に室温で24時間浸漬した後、恒量に達するまで室温で
48時間放置*t、燥した。この乾燥膜を十分に再湿潤
化後、膜性能を上記と同じ条件で測定した。結果を表に
示す。本発明に従って処理した半透膜の分画分子量が小
さくなっていることが明らかである。
0 9&O goooo g48 7500 15 2000 α2 次に、この湿潤膜を下表に示す濃度のグリセリン水溶波
に室温で24時間浸漬した後、恒量に達するまで室温で
48時間放置*t、燥した。この乾燥膜を十分に再湿潤
化後、膜性能を上記と同じ条件で測定した。結果を表に
示す。本発明に従って処理した半透膜の分画分子量が小
さくなっていることが明らかである。
実施例2
実施例1と同じ製膜液を環状オリフィスノズルから水中
に押出し、中空糸状の芳香族ポリアミド湿潤半透膜を得
た。この湿潤膜を実施例1と同様にグリセリン水溶液に
浸漬し、乾燥した。1馳−2の圧力下に怠ける純水透水
速度と、lKl/−の圧力下におけるPIGのα5−水
溶液を限外−遍したときの排除率を表に示す。
に押出し、中空糸状の芳香族ポリアミド湿潤半透膜を得
た。この湿潤膜を実施例1と同様にグリセリン水溶液に
浸漬し、乾燥した。1馳−2の圧力下に怠ける純水透水
速度と、lKl/−の圧力下におけるPIGのα5−水
溶液を限外−遍したときの排除率を表に示す。
実施例3
齢記一般式(2)lいてR1が一◇X08であるポリイ
ミドsag部とジエチレングリコ−A/3&8部とをN
−メチル−雪−ビロリドンjIj1部に溶解し、1ll
l膜液を調製した。この製膜液を用いて実施例1と同様
にして湿潤半透膜を得た。この膜は1K97傷 の圧力
下で純水透水速度(Lfil→(im−分を有し、また
、圧力4 Kg / arm2下にα2−のPIG水溶
液を限外濾過したところ、下記の排除率を有し、分画分
子には約70000と評価された0 PIG平均分子ill PjCG排除率(4)10
0000 9L8 !0000 8&0 7500 15 この湿潤膜を実施例1と同様にグリセリン水溶液に浸漬
、乾燥し、再湿潤したところ1表に記載の膜特性を示し
た。
ミドsag部とジエチレングリコ−A/3&8部とをN
−メチル−雪−ビロリドンjIj1部に溶解し、1ll
l膜液を調製した。この製膜液を用いて実施例1と同様
にして湿潤半透膜を得た。この膜は1K97傷 の圧力
下で純水透水速度(Lfil→(im−分を有し、また
、圧力4 Kg / arm2下にα2−のPIG水溶
液を限外濾過したところ、下記の排除率を有し、分画分
子には約70000と評価された0 PIG平均分子ill PjCG排除率(4)10
0000 9L8 !0000 8&0 7500 15 この湿潤膜を実施例1と同様にグリセリン水溶液に浸漬
、乾燥し、再湿潤したところ1表に記載の膜特性を示し
た。
実施例4
前記式(至)で表わされる繰返し単位を有するポリスル
ホン(ユニオン・カーバイF社1!P−1700) 8
01Sとジエチレングリコール30部をN−メチル−2
−ピロリドン100部に溶解して護膜液を調製し、実施
例1と同様にして湿潤半透膜を得た。この膜はIKg/
cx の圧力下でα58sf/m−分の純水透水速度
を有し、また、4 K11 / cs の圧力下で狂
2チPEG水溶液を限外−過したところ、下船の膜特性
を示し1分画分子量は約80000と評価された。
ホン(ユニオン・カーバイF社1!P−1700) 8
01Sとジエチレングリコール30部をN−メチル−2
−ピロリドン100部に溶解して護膜液を調製し、実施
例1と同様にして湿潤半透膜を得た。この膜はIKg/
cx の圧力下でα58sf/m−分の純水透水速度
を有し、また、4 K11 / cs の圧力下で狂
2チPEG水溶液を限外−過したところ、下船の膜特性
を示し1分画分子量は約80000と評価された。
P1G平均i子量 PIG排除率(6)100000
99.9goooo
ai。
99.9goooo
ai。
7600 aに
の湿潤膜を実施例1と同様にしてグリセリン水溶液に浸
漬し、乾燥した。再湿潤化の膜の特性を表に示す。
漬し、乾燥した。再湿潤化の膜の特性を表に示す。
特許出願人 日東電気工業株式会社
代珊人 弁理士牧野逸部
手続補正書(自発)
昭和56年12月28日
特許庁長官 殿
1、事件の表示
昭和sc+年特 許願$ 145954 号2、
発明の名称 乾燥半透物の製造方法 3、補正をする煮 事件との関係 特許出願人 住、所 大阪府茨木市下棟′#11丁目lt2号氏名
日東’tH,に工業株式会社 4、・代理人 (発送日 昭和 年 月 日)?+
j 止 の 内 d (1) 明414@ 11 u、’ 19行の「高い
」を「低い」と61正する。
発明の名称 乾燥半透物の製造方法 3、補正をする煮 事件との関係 特許出願人 住、所 大阪府茨木市下棟′#11丁目lt2号氏名
日東’tH,に工業株式会社 4、・代理人 (発送日 昭和 年 月 日)?+
j 止 の 内 d (1) 明414@ 11 u、’ 19行の「高い
」を「低い」と61正する。
(2)明、−一1812頁1行の「低い」を「高い」と
訂iHする。
訂iHする。
以上
手続補正書(自発)
昭和57年3月ノ!″日
特許庁長官 殿
1、事件の表示
・昭和56年特 許 願第 14595’4 号2
、発明の名称 乾燥半透物の製造方法 −39,補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号氏 名 日
東電完工業株式会社 4、代理人 明細書特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄8
、補正の内容 別紙のとおり 補正の内容 (1)明細書特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。
、発明の名称 乾燥半透物の製造方法 −39,補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号氏 名 日
東電完工業株式会社 4、代理人 明細書特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄8
、補正の内容 別紙のとおり 補正の内容 (1)明細書特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。
(2)明紙書第5頁18行f)150mm%」を「30
wm1%」と補正する。
wm1%」と補正する。
(3)明l!ll1ilF第7頁2行の構造式の右側に
r (1) Jを加入する。
r (1) Jを加入する。
(4)明細書第11頁5〜6行の「50重置%」 を「
30重置2」と補正する。
30重置2」と補正する。
(51明細119IA12頁3行の「50重置%」を「
30獣置%」と補正する。
30獣置%」と補正する。
(6)明細書第17頁の表において、実施例3のグリセ
リン水溶液濃度(1)が50%であるiJ1行目を削除
する。
リン水溶液濃度(1)が50%であるiJ1行目を削除
する。
以上
(1) ポリアミド、ポリイミド及びポリスルホンか
ら選ばれる重合体からなる湿潤半透膜から乾燥半透膜を
製造する方法において、湿潤半透膜を炭素数2〜16の
多価アルコール及び/又はその誘導体の2〜30重量鵞
の水溶液で処理した後、室温乃至60℃の温度で乾燥し
、カ<シて得る乾燥膜に、再湿潤化後、当初の湿潤膜よ
りも小さい分画分子量を有せしめることを特徴とする乾
燥半透膜の製造方法。
ら選ばれる重合体からなる湿潤半透膜から乾燥半透膜を
製造する方法において、湿潤半透膜を炭素数2〜16の
多価アルコール及び/又はその誘導体の2〜30重量鵞
の水溶液で処理した後、室温乃至60℃の温度で乾燥し
、カ<シて得る乾燥膜に、再湿潤化後、当初の湿潤膜よ
りも小さい分画分子量を有せしめることを特徴とする乾
燥半透膜の製造方法。
(2)ポリアミドか式
で表わされる繰返し単位を有し、且つ、フェニレン基の
うち、m−フェニレン基か70七ル%Jl、残りがp−
フェニレン基であることを特徴とする特許請求の範囲1
31項記載の乾燥半透膜の製造方法。
うち、m−フェニレン基か70七ル%Jl、残りがp−
フェニレン基であることを特徴とする特許請求の範囲1
31項記載の乾燥半透膜の製造方法。
(31ポリイミドか一般式
(但し、R1は2価の有機基を示す。)で表わされる繰
返し単位を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の乾燥半透膜の製造方法。
返し単位を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の乾燥半透膜の製造方法。
(41ポリスルホンが式
又は、式
で褒わされる繰返し単位を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の乾燥半透膜の製造方法。
請求の範囲第1項記載の乾燥半透膜の製造方法。
(5)障初の湿潤半透膜が1000〜20000Gの分
画分子量を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第4項いずれか1項に記載の乾燥半透膜の製造方
法。
画分子量を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第4項いずれか1項に記載の乾燥半透膜の製造方
法。
(6)多価アルコール又はその誘導体が一般式%式%
(但し、R” 、 R”及びR4はそれぞれ独立に水素
、メチル基又はエチル基を示し、nは BSが水素のと
き1〜5の整数を、R3かメチル基又はエチル基のとき
1〜3の整数を示す。] で表わされることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃
至第5項いずれか1項に記載の乾燥半透膜の製造方法。
、メチル基又はエチル基を示し、nは BSが水素のと
き1〜5の整数を、R3かメチル基又はエチル基のとき
1〜3の整数を示す。] で表わされることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃
至第5項いずれか1項に記載の乾燥半透膜の製造方法。
171 多価アルコールがエチレングリコール、ジエ
チレングリコール及びトリエチレングリコールから選ば
れる少な(とも一種であることを特徴とする特許請求の
範囲第6項記載の乾燥半透膜の製造方法。
チレングリコール及びトリエチレングリコールから選ば
れる少な(とも一種であることを特徴とする特許請求の
範囲第6項記載の乾燥半透膜の製造方法。
(8)多価アルコールが一般式
%式%)
(但し、1%は炭素数3〜6の飽和脂肪族炭化水素基を
示し、mは2〜6の整数を示す。】で表わされることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の乾燥半fjJ膜
の製造方法。
示し、mは2〜6の整数を示す。】で表わされることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の乾燥半fjJ膜
の製造方法。
(9)多価アルコールかグリセリンであることを特徴と
する特許請求の範囲第8項記載の乾燥半透膜の製造方法
。
する特許請求の範囲第8項記載の乾燥半透膜の製造方法
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)ポリアミド、ボリイミF及びポリスルホンから選
ばれる重合体からなる湿潤半透膜から乾燥半透膜を製造
する方法に自いて、li調半透膜を炭嵩数3〜16の多
価アルコール及び/又はその誘導体の!I−go重量−
の水溶液て処理した後、!1温り至−60℃の温度で乾
燥し、か(して得る乾燥膜に、再湿潤化後、当初の温調
展よりも小さい分−分子量を有せしめることを特徴とす
る乾燥半透膜の製造方法。 (創 ポリアミドが式 で表わされる繰返し単位を有し、且つ、フェニレン基の
うち、m−フェニレン基がテOモ#Is以上、残りがp
−フェニレン基であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の乾燥半透膜の製造方法。 (但し、Rは2価の有機基を示す。) で表わされる繰返し単倍を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の乾燥半透膜の製造方法。 14) ポリスルホンが式 %式%] 又は、式 で表わされる繰返し単位を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の乾燥半透膜の製造方法。 11) 当初の湿潤半透膜が1000〜goooo。 の分−分子量を有することを特徴とする特許■求の範囲
第1項乃至第4項いずれか1項に記載の乾燥半透膜の製
造方法。 (@1 多価アルコール又はその誘導体が一般式%式%
) (但し、R、R及びRはそれぞれ独立に水素、メチル基
又はエチル基を示し、nは、Rが水素2°゛ のと11−5の整数を、Rdlメチル基又はエチル基の
とき1〜8の整数を示す。) で表わされることを特徴とする特許請求の範BjI1項
乃至毘す項いずれか1項に記載−の乾燥半透膜の製造方
法。 (7) 多価アルコールがエチレングリコール、ジエ
チレンクリコール、トリエチレングリコール及びペンタ
エリスリトールから選ばれる少なくとも一種であること
を特徴とする特許請求の範囲第6項記載の乾燥半透膜の
製造方法。 (81多価アルコールが一般式 %式%() (但し、Rは訳素数8〜6の飽和脂肪族炭化水素基を示
し1mは8〜6の整数を示す。)で表わされることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の乾燥半透膜の製造
方法。 ts+ 多価アルコールがグリセリンであることを特
徴とする特許請求の範囲第8項記載の乾燥半透膜の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14595481A JPS5849407A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 乾燥半透膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14595481A JPS5849407A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 乾燥半透膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5849407A true JPS5849407A (ja) | 1983-03-23 |
| JPS6153084B2 JPS6153084B2 (ja) | 1986-11-15 |
Family
ID=15396867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14595481A Granted JPS5849407A (ja) | 1981-09-16 | 1981-09-16 | 乾燥半透膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5849407A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025513A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリスルホン透過膜の製造方法 |
-
1981
- 1981-09-16 JP JP14595481A patent/JPS5849407A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025513A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-02-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ポリスルホン透過膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6153084B2 (ja) | 1986-11-15 |
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