JPS58501857A - 皮膚病特に乾癬の光線療法に使用するｕｖ放射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射装置技術分野 本発明は皮膚病特に戦塵の光線療法に使用する紫外線放射装置（以１−’　Ｕ　 Ｖ放射装置という）に係る。

背景技術 人口の約２％が乾瑠、遺伝子欠陥より生ずる皮膚の剥離にかかっている。表皮の 基礎層における細胞分裂（増Ｍ）の大いに増大した速度は剥離の病巣となり、深 酷な肉体的及び精神的影響を生ずる。

転層療法の目的は、該病巣を弱めて皮膚から剥離をなくして皮膚をそのま＼の状 態に保持せしめるにある。現在の療法は化学療法、光線化学療法及び光線療法の 形をとる。

化学療法においては、投与は経口的に行われるか又は皮膚に塗布する。大ていの 場合、これは顕著な副作用を含むのみならずまた苦痛を伴・う。同様に化学療法 はクリニックにおいて入院患者ヘースでのみ行いうるという不利益がある。

光線化学療法は、紫外線放射（以下ＵＶ放射という）と糾合せて投与する。長い 間使用されたゲソカーマン療法（Ｇｏｅｃｋｅｒｍａｎｎ　）においてはタール を皮膚に塗布してからＵＶ放射を行う。この療法が有効であるためには、放射が 、皮膚が軒別（日焼け）を示すまで行われなければならない。

近代的光線化学療法はＰＵＶＡとして知られている。この型の療法においては、 感光性を付すする薬剤のソラーレン（Ｐｓｏｒａｌｅｎ）が経口的に投与される か、又は皮膚に塗布される。次いで３１０と４４０ｎｍの間の波長範囲のＵＶ− ＡＡこよる放射を行う。この感光性を付与する薬剤は皮膚を長波長のＵＶ−Ａに 対して一層敏感にする作用をもつ。

この周知の療法においては、紫外線放射源（以下ＵＶ放射源と・１祐Ｈ３５８５ ０１８５７（２） いう）とし“Ｃ使用される装置は紫外線りり射（以＋ｔ−Ｊ　ｖ放射という）螢 光ランプ（［１シーＡ低圧欣射装］又は水銀１１１１圧放射装置、キセノン放射 装置又は金属ハライドを添加した水銀１Ｆｊｉ　ＥｔＪＪ夕射装置を含む。

３１５ｎｍ以下の短／Ｊ！ｌ長の放射線は一般にこれらの装置行においてはフィ ルタによっ（抑制されている。

ｌｆｉ療法を成功さセるためにごの周知の力法においては、軒別を什しなく−（ はならないかごれはｔ陥を伴う。加えて皮■１、及びソラーレンを経し］投Ｉ） の場合乙こε；ＩＬ１もまた楽剤投Ｌ；、　（７）後数時間は［−１尤に当るこ とは（きない。何故ならばそりし乙Ｓ′いと’４ＪＱ著な級害か牛１”るからで ある。このことは、患者は数時間クリニックに／！？ｆ在し７なりれはならない か又は入院思考と＋、−（処置を受すなｉＪればならないことを意味する。皮膚 の敏感性によ−って放射時間は数分から１時間程度までの範囲となる。

・１′均して、二のＰＵＶＡＵＶ法２０から２５放射回数を必要とし、本療法の 間に皮１ｆの顕著な［１焼り　（着色）がノ１する。ソラーレンの経口段朽の場 合、少なからざる数の患者が、二の薬物に低い耐性を小ずことは重要Ｃある・ この光線化学療法とも、１反対に、光線療法におい“（は、ＵＶ放射の治療効果 はｊＤ加の染物を１す！用−４゛ることなく得られる。

早期の療法では水銀蒸気の＋（Ｉｌｌｌ−放射装置（ｈｏｍｅ　ｓｕｎｌｉｇＭ 、　ｈｉｇｔ＋ｓｕｎ　ｌ　１ｌＨｈ　Ｌ）か使用され人口。今「１においては 、異４（クスペク）・ル分布をも−、た多くの各種ＬＪＶ放躬線源がある。乾坦 、イ療法のため、螢光ランプが使用されこれはｕｖＲ−７ンゾ（”−ＩＪンラン プ゛（“’　Ｓｕｎｌａｍｐ”°））として知られ、その紫外線範囲（以トＵ■ 範囲という）にお４Ｊる放射線のスペクトラムは約２７０ｎｍから約３６５ｎｍ である。紫外線エネルギ（以Ｆ　ＩＪ　Ｖエネルギという）の半分以上が２７０ と３１５ｎｍの範囲内で放射される。

ＬＪ　Ｖ螢光ランプのあるものは、ｌ　Ｖ　、、　Ｈの割合（３２０ｎｍ以下） が非電に低いバーセン］−であるがＵＶ−Ａの割合（３２０ｎｍ以ト）が非電に １〕Ｊいバーセン１−である。このランプはしばしばＬＩＶ−Ａランプ（ブラッ クライ１−“’　Ｂｌａｃｋｌｉｇｈｔ”　）として知られる。そのＵＶ範囲に おｉＪる放射線スペクトラムは咄々　３００から　４００ｎｍである。

所謂Ｓ　Ｕ　Ｐ療法（選択的１．Ｊ　Ｖ療法）にりｌしては金属ハライド蒸気を 添加した水銀蔑気篩圧放射装置が大でい使用され、ＵＶ範囲にＪ召ノる放射線ス ペクトラムは約２５０から４００ｎｍにひろがる。約２９０から　３３５　ｎ　 ｍまでの波長範囲が治療効果ありとめなされる。

この光線療法においては、如１ｉｉＴなる軒別（日焼り）も住しない放射時間が 最θ１に使用される。しかし７ながら光線治療の過程で線晴は軒別が７４：する ように増加される。最少の軒別は皮膚の僅かに認められるに「味であって、ごれ はまた軒別閾としこ知られている。

軒別は強りれば強い４Ｙその副作用は不快さを増す。ごわらは日焼は又は炎症の 副作用（引き締まり、むづかゆさ、名痛及び赤色になること、皮のむｉｌること 、火ふくれ、発熱）に列席する。

乾蜘、ｔのさらにもう１つの療法は５ＩＩＩＰ　（５ｕｐｅｒ　ｈｉｇｂ−１ｎ ｔｅｎｓｉｖｅｐｈｏ１．ｏＬｈｅｒａｐｙ　；　Ｗ高強度光線療法）として知 られる。そわば３２０から３：（Ｏｎ　ｍの波長の範囲を使用する。　：（２０ ｎｍ以Ｉ・の放射線のＪ、１１合は、人１１」にフィルタされてなくなるが、　 ３３０　ｎ　ｍ以１−の放射線はそう番、１ならない。放射時間は半時間の領域 内（ある。中均して、約３０回の放ｎ・１回数がこの療法が成功するには必要で ある。ごの療法乙こおいＣ４）まに皮膚の着色が副作用としζ／：ｌ：する。

この先行技術からスター１−シて、本発明の目的は、皮膚゛病、特に乾瑠の光線 療法に用いるＬＪ　Ｖ放射線装置であって、望ましくない副作用を生１゛るごと なく、短い時間と１恨られた回数の放射を以（効果的治癒を達成せしめ得る装置 を開発するにある。

発明の開示 このト１的は本発明によるｔ、Ｊ　Ｖ放射線装置において次の特徴により達成さ れた： ａ）本装置はＵＶ放射線を発生ずるが、　３００ｎｍ以下の波長範囲の有効領域 内に存在する放射強度Ｅ２が３００から３１０ｎｍの波長の範囲における放射強 度Ｅ１より本質的に小さく、もし２９５ｎｍ以下の放射強度が０．ＯＩＥ　ｓよ り大きくない場合はＥ２はたかだか０．３５Ｅ　ｒであり、もし２９５ｎｍと２ ９０ｎｍの間の波長の放射強度が０．０１Ｅ　＋より大きくない場合はＥ２はた かだか０．３５Ｅ　１と０．２Ｅｚ間にあり、そして他のすべての場合は、Ｅ２ はたかだか０．２Ｅ　１である：ｂ）放射線量（放射強度の時間積分）は軒別閾 放射線量の０．７から　１．０倍の間である。

本発明は次の知識に基づく、乾瑠の光線療法に対しては３００と３１０ｎｍの間 の波長範囲にあるＵＶ放射が最も好適であるが、何故ならば表皮の細胞分裂（増 殖）速度を減速するからである。この３００と３１０ｎｍの間の波長範囲の計画 的使用は、本発明に係るＵＶ放射装置を上記５ＨＩＦ療法に使用されて３２０と ３３０ｎｍの間の範囲で作用する装置からはっきり区別できる。この従来装置と 相違する本発明により達成された顕著な技術的かつ治療上の進歩は、次のことを 考慮すれば了解できる。即ち３１０と３２０ｎｍの間の波長範囲においてさえ、 所謂軒別閾（即ち戦塵療法が成功する放射線量）は３００と３１０ｎｍの間の波 長範囲において必要とする放射線量より十分の一層だけより高い放射線量を必要 とする。

一方、本発明に対する必須の知識は３００ｎｍ以下の波長範囲における放射強度 Ｅ２は３００と３１０ｎｍの間の波長範囲における放射強度Ｅ１より小さくなけ ればならないということである。　３００ｎｍ以下の波長範囲における如何なる 放射線も出来る限り抑圧することが望ましい。しかしながら、　３００と３１０ ｎｍの間の波長範囲における所望の、高い放射強度を考えると、これは今日入手 し得るフィルタ（フィルタの有限の端（ψ斜）により許容低価格において達成す ることは容易ではない。本発明によれば、３００ｎｍ以下の波長範囲における放 射強度Ｅ２はそれ故制限されよって治療処置において乾翔閾（即ら、治療量）は 軒別閾に達する前に越えてしまう。

これについては３００ｎｍ以下の波長範囲における放射強度Ｅ２の制限は、特に 重要であるが何故ならば、この波長範囲においては、軒別闇は大てい乾宥閾より 高いからである。

もし本発明に係るＵＶ放射装置ムこより発生される放射線量（これは該ｂｉ射強 度の時間積分と解すべきである）が、軒別閾の０．７乃至１．０倍であるならば 、一方ではこのことは転宿治療効果（個人差を考えながら）の信頼し得るきっか けを保証するが、他方では班紅閾を超えることを防止する。

このように本発明に係るＵＶ放射装置を使用することにより、ト記周知の光線療 法とは反対に皮膚の着色は回避される。実際、光線療法処置の副作用として発生 する着色は顕著な治療上の不利を有することが判った。何となれば、この着色を 生ずるメラニンが、基礎層において治療上有効となり得る前に、滲透して来たり ■放射線の大部分を吸収するからである。その結果、着色がおきたときは放射時 間は延長しなければならない。反対に、本発明に係るＵＶ放射装置は、放射時間 の本質的減少又は必要な投射回数の減少を容易とする。

本発明に係る装置の３００ｎｍ以Ｆの放射強度の制限は、また更にこの放射（３ ００ｎｍ以下）は３００と３１０ｎｍの間の波長範囲における放射と一緒になっ て、治療効果の反対ともなり得るという見地から重要である。

本発明に係る放射装置の有利な一実施例によれば、３００から３１０ｎｍの波長 範囲内の有効領域内に存在する放射強度Ｅ１は、０．５と２００Ｗ　ｍ　−′′ の間、好ましくは１と１００Ｗ　ｍ−’の間、好ましくは２と８０Ｗｍ−・の間 、更に好ましくは５と５０Ｗ　ｍ−’の間に存在する。

８００と］’ｌ１００ｎの間の放射は有利に減少され、１４００ｎｍ以上の放射 は有利に完全に抑制される。何れも５から］、５ｍｍ好ましくは１０＋ｎｍの厚 さの水の層のフィルタの使用により達成することができる。

４００と　６００ｎｍの間の放射は好ましくは青紫又は黒色ガラスのフィルタの 使用により有利に大巾に抑制される。

同様なことは３３０と　４４０ｎｍの間の放射にも適用でき、これはＵＶ透過の 緑黄色ガラスの使用により達成される。

本発明に係るＵＶ放射装置は、放射線源としては、少なくとも１個の金属ハライ ド放射源（水銀を使用しない）を使用し得る。

それは、スイッチを入れるとた＼ちにその出力の大部分を放出するという利点を 有し、これはなかんづく短い放射時間の場合に重要である。

本発明に係る更に別の実施例は、少なくとも金属ハライド英気を添加した水銀電 気高圧放射装置を使用する。

上に述べた放射装置の型は共に、鉄、ニッケル、コバルト、錫、亜鉛、インジウ ム、ガリウム、タリウム、アンチモニー及び／又はビスマスが個々に又は組合せ て金属ハライドとして使用することができる。

特に経済的生産により特異な放射装置の変形は、その放射線源として少なくとも １個のＬＩＶ−Ｂ螢光ランプを使用する。元素の水銀の代りに出来るならばアマ ルガム、好ましくはインジウムアマルガムを含み、これは特に高い放射線収量に より特異である。

３００ｎｍ以下の放射を抑圧するために、この放射装置は、便宜エツジフィルタ を含み、　３００と３１０ｎｍの間の平均透過は、　２９５と３００ｎｍの間の 平均透過の少なくとも２．８倍に等しくそして、　２５０と３００ｎｍの間の平 均透過の少なくとも５倍に等しい。

この工、ジフィルタは有機物質よりつくることができる。その有機物質はアクリ ルガラス（ポリメチル−メタクリレート　ＰＭＭＡ）とｊることができ、その中 で有機吸収体が熔解している。

上ソジフィルタの有機物質はポリビニルクロライ）”（ＰＶＣ）又はポリエチレ ン　テレフタレートとすることもできる。

エツジフィルタはまた水の層の中に配列された干渉フィルタと１、て構成するこ ともできる。

もしＩＩＶ−Ｂ螢光ランプが使用されるときは、エツジフィルタは箔又はニスの 層として該ランプに直接適用することもできる。

本発明に係る放射装置の更に特に有利な実施例は［ＩＶ−Ｂ螢光ランプを使用し 、その管材は約ｌＷＭ厚さの無色のソーダ石灰ガラスをもちかつその螢光物質と して、セリウム活性化ストロンチウムアルミ塩、鉛−活性化ストロンチウムアル ミ塩、セリウム活性化弗化ストロンチウム、及び／又はセリウム活性化弗化カル シウムを使用する。ガラスと螢光物質のこの組合せにより、　３００　ｎ　ｍ以 下の放射強度は、本発明によれば、別個のエツジフィルタを不要とする程度にま で抑制される。

本発明を実施するための最良の形態 以下の例は本発明の説明に更に役立つ：例１ ビスマスハライド（水銀なし）で充填された金属ハライド茶気放射装置は、装置 につき１００ＯＷの電力で使用される。

放射束（３００と３］Ｏｎｍの間）は放射装置につき約４０Ｗにのぼる。

又５ｃｈｏｔｔ／　Ｍａｉｎｚによりつ（られたＷ　Ｇ　３０５　（４ｍ）型工 、ジフィルタ、並びに陽極処理したアルミニウムからつくったりフレツクが使用 される。

（３００と　３１０ｎｍの間の波長範囲におりる）放射強度Ｅ１は約８Ｗｍ−’ に達する。

（３００ｎｍ以下の波長範囲における）放射強度Ｅ２は０．１２Ｅ工にまで達す る。

乾声茎閾時間ｔＳ、ｐＳは７５．であり、軒別闇時間ｔＳ、ｅｒは１〕ＯＳであ る。

反り１に、もしフィルタが取去られるならば（同一放射装置を使用して）これは 放射強度として及び闇値として次の値を生ずる：比較的高い放射強度Ｅ２　（３ ００ｎｍ以下の波長範囲において）によるフィルタされない放射を使用するとき は、軒別閾が乾瑠閾より早期に到達することを注目する。

１列　２ ５個の金属ハライド蒸気高圧放射装置は鉄ハライドと水銀を使用した（放射装置 につき電力３０００Ｗ　）。

放射束は３００と３１０ｎｍの波長範囲において放射装置につき約８０Ｗにまで 達した。５ｃｈｏｔｔ／　Ｍａｉｎｚによｚつ作られたＴｅｍｐａｘ　（３，４ ｎｍ）がフィルタとして使用された。例１において使用されたエツジフィルタＷ 　Ｇ　３０５と同様に、このフィルタはＵＶ範囲内に急峻な吸収限度をもった無 色ガラスである。リフレクタはまた陽極処理したアルミニウムでつくった。

その結果、　３００と３１０ｎｍの波長範囲における放射強度Ｅ１及び３００ｎ ｍ以下の波長範囲における放射強度Ｅ２の値に対して以下の値となり、そしてま た戦塵閾時間及び軒別閾時間に対して以下のｔ　ｓ、　ｅｒ　”’　１０ｓ 一方、もしフィルタを除去すると、以下の値が得られた二Ｅ＋＝］ＯＯＷｍ−２ １０個のＵシーＢ螢光ランプがランプにつき１００ＯＷの電力で使用された。放 射束はランプにつき２Ｗ　（３００−３１０ｎｍ範囲において）に達した。

厚さ０．４５ｍをもった軟質ＰＶＣがフィルタとして使用された。

リフレクタは陽極処理したアルミニウムからつくった。−゛これは以下の値をつ くった： Ｂ１＝６Ｗｍ−２ Ｅ　２　＝　０．１２・Ｅｌ もしフィルタが取去られると、以下の値が得られた２２個の金属ハライド蒸気放 射装置がビスマスハライド充填（水銀なし）されて使用され、かつ放射装置につ き２０００Ｗの電力を使用した。放射束は放射装置につき約８０Ｗであった。

５ｃｈｏｔｔ／　ＭａｉｎｚによりつくられたエツジフィルタＷＣ，３０５（３ ｍｍ）　、Ｇ　Ｇ　１９　（１，５１ｎ）及びＵＧＩＩ（３ｍ）並びに１０ｍの 層の水のフィルタが使用された。こうして３１０ｎｍ以上の放射は略々抑圧され た。５ｃｈｏ　ｔ　ｔ／　Ｍａ　ｉ　ｎｚによりつくられた３個の十記フィルタ の中、ＷＧ　３０５はＵＶ範囲に鋭い吸収限度をもった無色ガラス、Ｇ　Ｃ１９ はＵＶ１３過性をもった緑黄色ガラスそしてＵＧＩＩはＵＶ透過黒色ガラスであ る。

この実施例においてはまたリフレクタは陽極処理したアルミニウムからつくった 。

以下の諸値が得られた： １０個のＵＶ−Ｂ螢光ランプ（１０Ｗの）が、厚さ約ＩＲの無色ソーダ石灰ガラ ス管球とセリウム活性化ストロンチウム　アルミニウム塩、鉛−活性化弗化スト ロンチウム及び／又はセリウム活性化弗化カルシウムより形成された螢光性物質 とが使用された。

これは以下の諸値を与えた： Ｅ＋　−２，２Ｗｍ−’ Ｅ２　＝０．１９・Ｅｌ これまでの５つの例は全体放射（Ｗｈｏｌｅ　ｂｏｄｙ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ） 装置に関係する。もし例１．２及び４が部分体放射（ｐａｒｔ　ｂｏｄｙｒａｄ ｉａｔｉｏｎ　）装置として構成されているときは、有効領域の減少のために顕 著に高い放射強度が達成される。

鉱□１ 部分体放射のために金属ハライド電気放射装置が沃化鉄及び水銀と共に使用され 、かつ３０００Ｗの電力並びに例２におりるごとくＴｅｍｐａｘフィルタ（３， ４關）及び例４におけるごと＜ＵＧ１１フィルタ（３龍）が使用された。測定値 は： 全体放射に対して５個の放射装置が例６の如く使用されたが、４０００Ｗの電力 （装置につき）及びまた例６におけると同しフィルタを使用した。測定値は： 部分体放射のために、例６におけると同し放射装置が使用さ老た。そこに参照し た２個のフィルタに加えて、例４におけるごときフィルタＧＧ１９が使用された 。得られた諸値は：全体放射のために例７におけると同じ放射装置が使用された 。

例４におけるごとくフィルタＧ　Ｇ　１９が、例７に参照した２１Ｉｌ１１のフ ィルタに加えて使用された。測定値は；全体放射（アルミニウム　リフレクタを 使用して）のために、Ｔｅｍｐａｘフィルタ（３，４ｍ）及びＵＧＩＩフィルタ （３Ｂ）に加えて２　＋１ｌｉｌ　ノ］　０ＯＯＷのビスマスハライド放射装置 （水銀なし）が使用された。

これは以下の諸値を生した： 例１０の変形において、３０００Ｗ　の５個のビスマスハライド放射装置く水銀 と共に）、並びにＴｅｍｐａｘフィルタ（３，４Ｄ）が使用された。測定値は： 例１１の変形において、別個の３０００Ｗのビスマスハライド放射装置（水銀と 共に）、並びにＴｅｍｐａｘフィルタ（３，４ｍｍ）及びＵＧＩＩフィルタ　（ ３ｎ）が使用された。ｌす定値は：全体放射のための例１２の変形において、５ 個の３０００Ｗのビスマスハライド放射装置（水銀と共に）並びにフィルタＴｅ ｍｐａｘ　（３，４ｍｍ）　、Ｕ　Ｇ　１１　（３ｍ）及びＧ　Ｇ　１９　（１ ，５ｗｍ１が使用された。測定ｔ　ｓ、　ｅｒ−１００ｓ 国際調査報告

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．皮膚病特に戦塵の光線療法に使用するＵＶ放射装置であって、ａ）該装置が ＵＶ放射を発生し、その３００ｎｍ以下の波長範囲における有効領域内に存在す る放射強度Ｅ２が３００と３１０ｎｍＯ間の波長範囲における放射強度Ｅｓより 本質的に小さく、もし２９５ｎｍ以下の放射強度が０．０１Ｅ　１より大きくな いならばＥ２はたかだか０．３５Ｅｌであり、もし２９５と２９０ｎｍの間の波 長範囲にある波長以下の放射強度が０．０１Ｅ１より大きくなければＥ２はたか だか０．３５Ｅ１と　０．２Ｅ１の間であり、そしてすべての他の場合において Ｅ２はたかだか０．２Ｅ＋である； ｂ）放射線量（放射強度の時間積分）が紅班閾線量の０．７と１．０の間の倍数 であることを特徴とする皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射 装置において、３００と３１０ｎｍの間の波長範囲中の有効領域に存在する放射 強度Ｅ１が、０．５と２００Ｗ　ｍ−２の間、好ましくは１と１００１００Ｗの 間、好ましくは２と８０Ｗ　ｍ−２の間、好ましくは５と５０Ｗｍ−２の間であ ることを特徴とする皮膚病特に戦塵の光線療法に使用するＵＶ放射装置。 ３　特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射 装置において、４００と６００ｎｍの間の放射が青紫又は黒色ガラスでつ（られ たフィルタにより好ましくは抑制されたことを特徴とする皮膚病特に戦塵の光線 療法に使用するＵＶ放射装置。 ４、特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に戦塵の光線療法に使用するＵＶ放射 装置において、３３０と４００ｎｍの間の放射がＵＶ−透過緑黄色ガラスにより 好ましくは抑制されたことを特徴とする皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するｔ ＪＶ放射装置。 ５、特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法Ｇこ使用するＵＶ放 射装置において、少なくとも１個の金属）＼ライド英気放射装置（水銀なし）が 放射線源として設けられたことを特徴とする皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用す るＵＶ放射装置。 ６、特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射 装置において、金属ノーライド茎気を添加した少なくとも１個の水銀蒸気高圧放 射装置を放射線源として設けたことを特徴とする皮膚病特に乾瑠の光線療法に使 用するＵＶ放射装置。 ７、特許請求の範囲第５項又は第６項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用す るＵＶ放射装置において、鉄、二・ノケル、コノ＼ルト、錫、亜鉛、インジウム −カリウム、タリウム、アンチモニ、及び／又はビスマスが個々にまたは組合せ て金属ノ＼ライドとして設けられたことを特徴とする皮膚病特に乾瑠の光線療法 に使用するＵＶ放射装置。 ８、特許請求の範囲第１項記載の皮膚病特に乾瑠の光線療法に使用するＵＶ放射 装置において、　３００ｎｍ以下の放射を抑制するためにエツジフィルタが使用 され、その３００と３１０ｎｍの間の平均透過は、２９５と３００ｎｍの間の平 均透過のたかだか２．８缶に等しく、そして２５０と３００ｎｍの間の平均透過 のたかだか５＜＠に等しいことを特徴とする皮膚病特に戦塵の光線療法に使用す るＵＶ放射装置。