JPS6235781B2 - - Google Patents
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- JPS6235781B2 JPS6235781B2 JP83500169A JP50016983A JPS6235781B2 JP S6235781 B2 JPS6235781 B2 JP S6235781B2 JP 83500169 A JP83500169 A JP 83500169A JP 50016983 A JP50016983 A JP 50016983A JP S6235781 B2 JPS6235781 B2 JP S6235781B2
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/06—Radiation therapy using light
- A61N5/0613—Apparatus adapted for a specific treatment
- A61N5/0616—Skin treatment other than tanning
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/06—Radiation therapy using light
- A61N2005/0658—Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used
- A61N2005/0661—Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used ultraviolet
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
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- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
請求の範囲
1 皮膚病特に乾癬の光線療法に使用するUV放
射装置において、 a 該装置がUV放射を発生し、その300nm以下
の波長範囲における有効領域内に存在する放射
強度E2が300と310nmの間の波長範囲における
放射強度E1より本質的に小さく、もし295nm以
下の放射強度が0.01E1より大きくないならばE2
はたかだか0.35E1であり、もし295と290nm間
の波長範囲にある波長以下の放射強度が0.01E1
より大きくなければE2はたかだか0.35E1と
0.2E1の間であり、そしてすべての他の場合に
おいてE2はたかだか0.2E1であり; b 放射線量(放射強度の時間積分)が紅班閾線
量の0.7と1.0の間の倍数であり;そして c 300と310nmの間の波長範囲中の有効領域に
存在する放射強度E1が、0.5と200Wm-2の間で
あることを特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療
法に使用するUV放射装置。
射装置において、 a 該装置がUV放射を発生し、その300nm以下
の波長範囲における有効領域内に存在する放射
強度E2が300と310nmの間の波長範囲における
放射強度E1より本質的に小さく、もし295nm以
下の放射強度が0.01E1より大きくないならばE2
はたかだか0.35E1であり、もし295と290nm間
の波長範囲にある波長以下の放射強度が0.01E1
より大きくなければE2はたかだか0.35E1と
0.2E1の間であり、そしてすべての他の場合に
おいてE2はたかだか0.2E1であり; b 放射線量(放射強度の時間積分)が紅班閾線
量の0.7と1.0の間の倍数であり;そして c 300と310nmの間の波長範囲中の有効領域に
存在する放射強度E1が、0.5と200Wm-2の間で
あることを特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療
法に使用するUV放射装置。
2 特許請求の範囲第1項記載の皮膚病特に乾癬
の光線療法に使用するUV放射装置において、400
と600nmの間の放射が青紫又は黒色ガラスでつく
られたフイルタにより好ましくは抑制されたこと
を特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療法に使用す
るUV放射装置。
の光線療法に使用するUV放射装置において、400
と600nmの間の放射が青紫又は黒色ガラスでつく
られたフイルタにより好ましくは抑制されたこと
を特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療法に使用す
るUV放射装置。
3 特許請求の範囲第1項記載の皮膚病特に乾癬
の光線療法に使用するUV放射装置において、330
と400nmの間の放射がUV―透過縁黄色ガラスに
より好ましくは抑制されたことを特徴とする皮膚
病特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
の光線療法に使用するUV放射装置において、330
と400nmの間の放射がUV―透過縁黄色ガラスに
より好ましくは抑制されたことを特徴とする皮膚
病特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
4 特許請求の範囲第1項記載の皮膚病特に乾癬
の光線療法に使用するUV放射装置において、少
なくとも1個の金属ハライド蒸気放射装置(水銀
なし)が放射線源として設けられたことを特徴と
する皮膚病特に乾癬の光線療法に使用するUV放
射装置。
の光線療法に使用するUV放射装置において、少
なくとも1個の金属ハライド蒸気放射装置(水銀
なし)が放射線源として設けられたことを特徴と
する皮膚病特に乾癬の光線療法に使用するUV放
射装置。
5 特許請求の範囲第1項記載の皮膚病特に乾癬
の光線療法に使用するUV放射装置において、金
属ハライド蒸気を添加した少なくとも1個の水銀
蒸気高圧放射装置を放射線源として設けたことを
特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療法に使用する
UV放射装置。
の光線療法に使用するUV放射装置において、金
属ハライド蒸気を添加した少なくとも1個の水銀
蒸気高圧放射装置を放射線源として設けたことを
特徴とする皮膚病特に乾癬の光線療法に使用する
UV放射装置。
6 特許請求の範囲第5項又は第6項記載の皮膚
病特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置に
おいて、鉄、ニツケル、コバルト、錫、亜鉛、イ
ンジウム、カリウム、タリウム、アンチモニ、及
び/又はビスマスが個々にまたは組合せて金属ハ
ライドとして設けられたことを特徴とする皮膚病
特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
病特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置に
おいて、鉄、ニツケル、コバルト、錫、亜鉛、イ
ンジウム、カリウム、タリウム、アンチモニ、及
び/又はビスマスが個々にまたは組合せて金属ハ
ライドとして設けられたことを特徴とする皮膚病
特に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
7 特許請求の範囲第1項記載の皮膚病特に乾癬
の光線療法に使用するUV放射装置において、
300nm以下の放射を抑制するためにエツジフイル
タが使用され、その300と310nmの間の平均透過
は、295と300nmの間の平均透過のたかだか2.8倍
に等しく、そして250と300nmの間の平均透過の
たかだか5倍に等しいことを特徴とする皮膚病特
に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
の光線療法に使用するUV放射装置において、
300nm以下の放射を抑制するためにエツジフイル
タが使用され、その300と310nmの間の平均透過
は、295と300nmの間の平均透過のたかだか2.8倍
に等しく、そして250と300nmの間の平均透過の
たかだか5倍に等しいことを特徴とする皮膚病特
に乾癬の光線療法に使用するUV放射装置。
技術分野
本発明は皮膚病特に乾癬の光線療法に使用する
紫外放射装置(以下UV放射装置という)に係
る。
紫外放射装置(以下UV放射装置という)に係
る。
背景技術
人口の約2%が乾癬、遺伝子欠陥より生ずる皮
膚の剥離にかかつている。表皮の基礎層における
細胞分裂(増殖)の大いに増大した速度は剥離の
病巣となり、深酷な肉体的及び精神的影響を生ず
る。
膚の剥離にかかつている。表皮の基礎層における
細胞分裂(増殖)の大いに増大した速度は剥離の
病巣となり、深酷な肉体的及び精神的影響を生ず
る。
乾癬療法の目的は、該病巣を弱めて皮膚から剥
離をなくして皮膚をそのまゝの状態に保持せしめ
るにある。現在の療法は化学療法、光線化学療法
及び光線療法の形をとる。
離をなくして皮膚をそのまゝの状態に保持せしめ
るにある。現在の療法は化学療法、光線化学療法
及び光線療法の形をとる。
化学療法においては、投与は経口的に行われる
か又は皮膚に塗布する。大ていの場合、これは顕
著な副作用を含むのみならずまた苦痛を伴う。同
様に化学療法はクリニツクにおいて入院患者ベー
スでのみ行いうるという不利益がある。
か又は皮膚に塗布する。大ていの場合、これは顕
著な副作用を含むのみならずまた苦痛を伴う。同
様に化学療法はクリニツクにおいて入院患者ベー
スでのみ行いうるという不利益がある。
光線化学療法は、紫外線放射(以下UV放射と
いう)と組合せで投与する。長い間使用されたゲ
ーカーマン療法(Goeckermann)においてはタ
ールを皮膚に塗布してからUV放射を行う。この
療法が有効であるためには、放射が、皮膚が紅班
(日焼け)を示すまで行われなければならない。
いう)と組合せで投与する。長い間使用されたゲ
ーカーマン療法(Goeckermann)においてはタ
ールを皮膚に塗布してからUV放射を行う。この
療法が有効であるためには、放射が、皮膚が紅班
(日焼け)を示すまで行われなければならない。
近代的光線化学療法はPUVAとして知られてい
る。この型の療法においては、感光性を付与する
薬剤のソラーレン(Psoralen)が経口的に投与さ
れるか、又は皮膚に塗布される。次いで310と
440nmの間の波長範囲のUV―Aによる放射を行
う。この感光性を付与する薬剤は皮膚を長波長の
UV―Aに対して一層敏感にする作用をもつ。
る。この型の療法においては、感光性を付与する
薬剤のソラーレン(Psoralen)が経口的に投与さ
れるか、又は皮膚に塗布される。次いで310と
440nmの間の波長範囲のUV―Aによる放射を行
う。この感光性を付与する薬剤は皮膚を長波長の
UV―Aに対して一層敏感にする作用をもつ。
この周知の療法においては、紫外線放射源(以
下UV放射源という)として使用される装置は紫
外線放射(以下UV放射という)螢光ランプ(UV
―A低圧放射装置)又は水銀高圧放射装置、キセ
ノン放射装置又は金属ハライドを添加した水銀高
圧放射装置を含む。315nm以下の短波長の放射線
は一般にこれらの装置においてはフイルタによつ
て抑制されている。
下UV放射源という)として使用される装置は紫
外線放射(以下UV放射という)螢光ランプ(UV
―A低圧放射装置)又は水銀高圧放射装置、キセ
ノン放射装置又は金属ハライドを添加した水銀高
圧放射装置を含む。315nm以下の短波長の放射線
は一般にこれらの装置においてはフイルタによつ
て抑制されている。
治療法を成功させるためにこの周知の方法にお
いては、紅班を生じなくてはならないがこれは苦
痛を伴う。加えて皮膚、及びソラーレンを経口投
与の場合には目もまた薬剤投与の後数時間は日光
に当ることはできない。何故ならばそうしないと
顕著な被害が生ずるからである。このことは、患
者は数時間クリニツクに滞在しなければならない
か又は入院患者として処置を受けなければならな
いことを意味する。皮膚の敏感性によつて放射時
間は数分から1時間程度までの範囲となる。
いては、紅班を生じなくてはならないがこれは苦
痛を伴う。加えて皮膚、及びソラーレンを経口投
与の場合には目もまた薬剤投与の後数時間は日光
に当ることはできない。何故ならばそうしないと
顕著な被害が生ずるからである。このことは、患
者は数時間クリニツクに滞在しなければならない
か又は入院患者として処置を受けなければならな
いことを意味する。皮膚の敏感性によつて放射時
間は数分から1時間程度までの範囲となる。
平均してこのPUVA療法は20から25放射回数を
必要とし、本療法の間に皮膚の顕著な日焼け(着
色)が生ずる。ソラーレンの経口投与の場合、少
なからざる数の患者がこの薬物に低い耐性を示す
ことは重要である。
必要とし、本療法の間に皮膚の顕著な日焼け(着
色)が生ずる。ソラーレンの経口投与の場合、少
なからざる数の患者がこの薬物に低い耐性を示す
ことは重要である。
この光線化学療法とは反対に、光線療法におい
ては、UV放射の治療効果は追加の薬物を使用す
ることなく得られる。
ては、UV放射の治療効果は追加の薬物を使用す
ることなく得られる。
早期の療法では水銀蒸気の高圧放射装置
(home sunlight,high sunlight)が使用され
た。今日においては、異なるスペクトル分布をも
つた多くの各種UV放射線源がある。乾癬療法の
ため、螢光ランプが使用されこれはUV―Bラン
プ(“サンランプ”(“Sunlamp”))として知ら
れ、その紫外線範囲(以下UV範囲という)にお
ける放射線のスペクトラムは約270nmから約
365nmである。紫外線エネルギ(以下UVエネル
ギという)の半分以上が270と315nmの範囲内で
放射される。
(home sunlight,high sunlight)が使用され
た。今日においては、異なるスペクトル分布をも
つた多くの各種UV放射線源がある。乾癬療法の
ため、螢光ランプが使用されこれはUV―Bラン
プ(“サンランプ”(“Sunlamp”))として知ら
れ、その紫外線範囲(以下UV範囲という)にお
ける放射線のスペクトラムは約270nmから約
365nmである。紫外線エネルギ(以下UVエネル
ギという)の半分以上が270と315nmの範囲内で
放射される。
UV螢光ランプのあるものは、UV―Bの割合
(320nm以下)が非常に低いパーセントであるが
UV―Aの割合(320nm以上)が非常に高いパー
セントである。このランプはしばしばUV―Aラ
ンプ(ブラツクライト“Blacklight”)として知
られる。そのUV範囲における放射線スペクトラ
ムは略々300から400nmである。
(320nm以下)が非常に低いパーセントであるが
UV―Aの割合(320nm以上)が非常に高いパー
セントである。このランプはしばしばUV―Aラ
ンプ(ブラツクライト“Blacklight”)として知
られる。そのUV範囲における放射線スペクトラ
ムは略々300から400nmである。
所謂SUP療法(選択的UV療法)に対しては金
属ハライド蒸気を添加した水銀蒸気高圧放射装置
が大てい使用され、UV範囲における放射線スペ
クトラムは約250から400nmにひろがる。約290か
ら335nmまでの波長範囲が治療効果ありとみなさ
れる。
属ハライド蒸気を添加した水銀蒸気高圧放射装置
が大てい使用され、UV範囲における放射線スペ
クトラムは約250から400nmにひろがる。約290か
ら335nmまでの波長範囲が治療効果ありとみなさ
れる。
この光線療法においては、如何なる紅班(日焼
け)も生じない放射時間が最初に使用される。し
かしながら光線治療の過程で線量は紅班が生ずる
ように増加される。最少の紅班は皮膚の僅かに認
められる紅味であつて、これはまた紅班閾として
知られている。紅班は強ければ強い程その副作用
は不快さを増す。これらは日焼け又は炎症の副作
用(引き締まり、むづがゆさ、苦痛及び赤色にな
ること、皮のむけること、火ぶくれ、発熱)に対
応する。
け)も生じない放射時間が最初に使用される。し
かしながら光線治療の過程で線量は紅班が生ずる
ように増加される。最少の紅班は皮膚の僅かに認
められる紅味であつて、これはまた紅班閾として
知られている。紅班は強ければ強い程その副作用
は不快さを増す。これらは日焼け又は炎症の副作
用(引き締まり、むづがゆさ、苦痛及び赤色にな
ること、皮のむけること、火ぶくれ、発熱)に対
応する。
乾癬のさらにもう1つの療法はSHIP(Super
high―inteusive phototherapy;超高強度光線療
法)として知られる。それは320から330nm波長
の範囲を使用する。320nm以下の放射線の割合
は、大巾にフイルタされてなくなるが、330nm以
上の放射線はそうはならない。放射時間は半時間
の領域内である。平均して、約30回の放射回数が
この療法が成功するには必要である。この療法に
おいてもまた皮膚の着色が副作用として生ずる。
high―inteusive phototherapy;超高強度光線療
法)として知られる。それは320から330nm波長
の範囲を使用する。320nm以下の放射線の割合
は、大巾にフイルタされてなくなるが、330nm以
上の放射線はそうはならない。放射時間は半時間
の領域内である。平均して、約30回の放射回数が
この療法が成功するには必要である。この療法に
おいてもまた皮膚の着色が副作用として生ずる。
この先行技術からスタートして、本発明の目的
は、皮膚病、特に乾癬の光線療法に用いるUV放
射線装置であつて、望ましくない副作用を生ずる
ことなく、短い時間と限られた回数の放射を以て
効果的治癒を達成せしめ得る装置を開発するにあ
る。
は、皮膚病、特に乾癬の光線療法に用いるUV放
射線装置であつて、望ましくない副作用を生ずる
ことなく、短い時間と限られた回数の放射を以て
効果的治癒を達成せしめ得る装置を開発するにあ
る。
発明の開示
この発明は本発明によるUV放射線装置におい
て次の特徴により達成された: a 本装置はUV放射線を発生するが、300nm以
下の波長範囲の有効領域内に存在する放射強度
E2が300から310nmの波長の範囲における放射
強度E1より本質的に小さく、もし295nm以下の
放射強度が0.01E1より大きくない場合はE2はた
かだか0.35E1であり、もし295nmと290nmの間
の波長の放射強度が0.01E1より大きくない場合
はE2はたかだか0.35E1と0.2E1間にあり、そし
て他のすべての場合は、E2はたかだか0.2E1で
ある: b 放射線量(放射強度の時間積分)は紅班閾放
射線量の0.7から1.0倍の間である。
て次の特徴により達成された: a 本装置はUV放射線を発生するが、300nm以
下の波長範囲の有効領域内に存在する放射強度
E2が300から310nmの波長の範囲における放射
強度E1より本質的に小さく、もし295nm以下の
放射強度が0.01E1より大きくない場合はE2はた
かだか0.35E1であり、もし295nmと290nmの間
の波長の放射強度が0.01E1より大きくない場合
はE2はたかだか0.35E1と0.2E1間にあり、そし
て他のすべての場合は、E2はたかだか0.2E1で
ある: b 放射線量(放射強度の時間積分)は紅班閾放
射線量の0.7から1.0倍の間である。
本発明は次の知識に基づく、乾癬の光線療法に
対しては300と310nmの間の波長範囲にあるUV放
射が最も好適であるが、何故ならば表皮の細胞分
裂(増殖)速度を減速するからである。この300
と310nmの間の波長範囲の計画的使用は、本発明
に係るUV放射装置を上記SHIF療法に使用されて
320と330nmの間の範囲で作用する装置からはつ
きり区別できる。この従来装置と相違する本発明
により達成された顕著な技術的かつ治療上の進歩
は、次のことを考慮すれば了解できる。即ち310
と320nmの間の波長範囲においてさえ、所謂紅班
閾(即ち乾癬療法が成功する放射線量)は300と
310nmの間の波長範囲において必要とする放射線
量より十分の一乗だけより高い放射線量を必要と
する。
対しては300と310nmの間の波長範囲にあるUV放
射が最も好適であるが、何故ならば表皮の細胞分
裂(増殖)速度を減速するからである。この300
と310nmの間の波長範囲の計画的使用は、本発明
に係るUV放射装置を上記SHIF療法に使用されて
320と330nmの間の範囲で作用する装置からはつ
きり区別できる。この従来装置と相違する本発明
により達成された顕著な技術的かつ治療上の進歩
は、次のことを考慮すれば了解できる。即ち310
と320nmの間の波長範囲においてさえ、所謂紅班
閾(即ち乾癬療法が成功する放射線量)は300と
310nmの間の波長範囲において必要とする放射線
量より十分の一乗だけより高い放射線量を必要と
する。
一方、本発明に対する必須の知識は300nm以下
の波長範囲における放射強度E2は300と310nmの
間の波長範囲における放射強度E1より小さくな
ければないということである。300nm以下の波長
範囲における如何なる放射線も出来る限り抑圧す
ることが望ましい。しかしながら、300と310nm
の間の波長範囲における所望の、高い放射強度を
考えると、これは今日入手し得るフイルタ(フイ
ルタの有限の端傾斜)により許容低価格において
達成することは容易ではない。本発明によれば、
300nm以下の波長範囲における放射強度E2はそれ
故制限されよつて治療処置において乾癬閾(即
ち、治療閾)は紅班閾に達する前に越えてしま
う。これについては300nm以下の波長範囲におけ
る放射強度E2の制限は、特に重要であるが何故
ならば、この波長範囲においては、紅班閾は大て
い乾癬閾より高いからである。
の波長範囲における放射強度E2は300と310nmの
間の波長範囲における放射強度E1より小さくな
ければないということである。300nm以下の波長
範囲における如何なる放射線も出来る限り抑圧す
ることが望ましい。しかしながら、300と310nm
の間の波長範囲における所望の、高い放射強度を
考えると、これは今日入手し得るフイルタ(フイ
ルタの有限の端傾斜)により許容低価格において
達成することは容易ではない。本発明によれば、
300nm以下の波長範囲における放射強度E2はそれ
故制限されよつて治療処置において乾癬閾(即
ち、治療閾)は紅班閾に達する前に越えてしま
う。これについては300nm以下の波長範囲におけ
る放射強度E2の制限は、特に重要であるが何故
ならば、この波長範囲においては、紅班閾は大て
い乾癬閾より高いからである。
もし本発明に係るUV放射装置により発生され
る放射線量(これは該放射強度の時間積分と解す
べきである)が、紅班閾の0.7乃至1.0倍であるな
らば、一方ではこのことは乾癬治療効果(個人差
を考えながら)の信頼し得るきつかけを保証する
が、他方では班紅閾を超えることを防止する。
る放射線量(これは該放射強度の時間積分と解す
べきである)が、紅班閾の0.7乃至1.0倍であるな
らば、一方ではこのことは乾癬治療効果(個人差
を考えながら)の信頼し得るきつかけを保証する
が、他方では班紅閾を超えることを防止する。
このように本発明に係るUV放射装置を使用す
ることにより、上記周知の光線療法とは反対に皮
膚の着色は回避される。実際、光線療法処置の副
作用として発生する着色は顕著な治療上の不利を
有することが判つた。何となれば、この着色を生
ずるメラニンが、基礎層において治療上有効とな
り得る前に、滲透して来たUV放射線の大部分を
吸収するからである。その結果、着色がおきたと
きは放射時間は延長しなければならない。反対
に、本発明に係るUV放射装置は、放射時間の本
質的減少又は必要な投射回数の減少を容易とす
る。
ることにより、上記周知の光線療法とは反対に皮
膚の着色は回避される。実際、光線療法処置の副
作用として発生する着色は顕著な治療上の不利を
有することが判つた。何となれば、この着色を生
ずるメラニンが、基礎層において治療上有効とな
り得る前に、滲透して来たUV放射線の大部分を
吸収するからである。その結果、着色がおきたと
きは放射時間は延長しなければならない。反対
に、本発明に係るUV放射装置は、放射時間の本
質的減少又は必要な投射回数の減少を容易とす
る。
本発明に係る装置の300nm以下の放射強度の制
限は、また更にこの放射(300nm以下)は300と
310の間の波長範囲における放射と一緒になつ
て、治療効果の反対ともなり得るという見地から
重要である。
限は、また更にこの放射(300nm以下)は300と
310の間の波長範囲における放射と一緒になつ
て、治療効果の反対ともなり得るという見地から
重要である。
本発明に係る放射装置の有利な一実施例によれ
ば、300から310nmの波長範囲内の有効領域内に
存在する放射強度E1は0.5と200Wm-2の間、好ま
しくは1と100Wm-2の間、好ましくは2と
80Wm-2の間、更に好ましくは5と50Wm-2の間
に存在する。800と1400nmの間の放射は有利に減
少され、1400nm以上の放射は有利に完全に抑制
される。何れも5から15nm好ましくは10mmの厚
さの水の層のフイルタの使用により達成すること
ができる。
ば、300から310nmの波長範囲内の有効領域内に
存在する放射強度E1は0.5と200Wm-2の間、好ま
しくは1と100Wm-2の間、好ましくは2と
80Wm-2の間、更に好ましくは5と50Wm-2の間
に存在する。800と1400nmの間の放射は有利に減
少され、1400nm以上の放射は有利に完全に抑制
される。何れも5から15nm好ましくは10mmの厚
さの水の層のフイルタの使用により達成すること
ができる。
400と600nmの間の放射は好ましくは青紫又は
黒色ガラスのフイルタの使用により有利に大巾に
抑制される。
黒色ガラスのフイルタの使用により有利に大巾に
抑制される。
同様なことは330と440nmの間の放射にも適用
でき、これはUV透過の縁黄色ガラスの使用によ
り達成される。
でき、これはUV透過の縁黄色ガラスの使用によ
り達成される。
本発明に係るUV放射装置は、放射線源として
は、少なくとも1個の金属ハライド放射源(水銀
を使用しない)を使用し得る。それは、スイツチ
を入れるとたゞちにその出力の大部分を放出する
という利点を有し、これはなかんづく短い放射時
間の場合に重要である。
は、少なくとも1個の金属ハライド放射源(水銀
を使用しない)を使用し得る。それは、スイツチ
を入れるとたゞちにその出力の大部分を放出する
という利点を有し、これはなかんづく短い放射時
間の場合に重要である。
本発明に係る更に別の実施例は、少なくとも金
属ハライド蒸気を添加した水銀蒸気高圧放射装置
を使用する。
属ハライド蒸気を添加した水銀蒸気高圧放射装置
を使用する。
上に述べた放射装置の型は共に、鉄、ニツケ
ル、コバルト、錫、亜鉛、インジウム、ガリウ
ム、タリウム、アンチモニー及び又はビスマスが
個々に又は組合せて金属ハライドとして使用する
ことができる。
ル、コバルト、錫、亜鉛、インジウム、ガリウ
ム、タリウム、アンチモニー及び又はビスマスが
個々に又は組合せて金属ハライドとして使用する
ことができる。
特に経済的生産により特異な放射装置の変形
は、その放射線源として少なくとも1個のUV―
B螢光ランプを使用する。元素の水銀の代りに出
来るならばアマルガム、好ましくはインジウムア
マルガムを含み、これは特に高い放射線収量によ
り特異である。
は、その放射線源として少なくとも1個のUV―
B螢光ランプを使用する。元素の水銀の代りに出
来るならばアマルガム、好ましくはインジウムア
マルガムを含み、これは特に高い放射線収量によ
り特異である。
300nm以下の放射を抑圧するために、この放射
装置は、便宜エツジフイルタを含み、300と
310nmの間の平均透過は、295と300nmの間の平
均透過の少なくとも2.8倍に等しくそして、250と
300nmの間の平均透過の少なくとも5倍に等し
い。
装置は、便宜エツジフイルタを含み、300と
310nmの間の平均透過は、295と300nmの間の平
均透過の少なくとも2.8倍に等しくそして、250と
300nmの間の平均透過の少なくとも5倍に等し
い。
このエツジフイルタは有機物質よりつくること
ができる。その有機物質はアクリルガラス(ポリ
メチル―メタクリレート PMMA)とすること
ができ、その中で有機吸収体が溶解している。
ができる。その有機物質はアクリルガラス(ポリ
メチル―メタクリレート PMMA)とすること
ができ、その中で有機吸収体が溶解している。
エツジフイルタの有機物質はポリビニルクロラ
イド(PVC)又はポリエチレン テレフタレー
トとすることもできる。
イド(PVC)又はポリエチレン テレフタレー
トとすることもできる。
エツジフイルタはまた水の層の中に配列された
干渉フイルタとして構成することもできる。
干渉フイルタとして構成することもできる。
もしUV―B螢光ランプが使用されるときは、
エツジフイルタは箔又はニスの層として該ランプ
に直接適用することもできる。
エツジフイルタは箔又はニスの層として該ランプ
に直接適用することもできる。
本発明に係る放射装置の更に特に有利な実施例
はUV―B螢光ランプを使用し、その管材は約1
mm厚さの無色のソーダ石灰ガラスをもちかつその
螢光物質として、セリウム活性化ストロンチウム
アルミ塩、鉛―活性化ストロンチウムアルミ塩、
セリウム活性化弗化ストロンチウム、及び/又は
セリウム活性化弗化カルシウムを使用する。ガラ
スと螢光物質のこの組合せにより、300nm以下の
放射強度は、本発明によれば、別個のエツジフイ
ルタを不要とする程度にまで抑制される。
はUV―B螢光ランプを使用し、その管材は約1
mm厚さの無色のソーダ石灰ガラスをもちかつその
螢光物質として、セリウム活性化ストロンチウム
アルミ塩、鉛―活性化ストロンチウムアルミ塩、
セリウム活性化弗化ストロンチウム、及び/又は
セリウム活性化弗化カルシウムを使用する。ガラ
スと螢光物質のこの組合せにより、300nm以下の
放射強度は、本発明によれば、別個のエツジフイ
ルタを不要とする程度にまで抑制される。
本発明を実施するための最良の形態
以下の例は本発明の説明に更に役立つ:
例 1
ビスマスハライド(水銀なし)で充填された金
属ハライド蒸気放射装置は、装置につき1000Wの
電力で使用される。
属ハライド蒸気放射装置は、装置につき1000Wの
電力で使用される。
放射束(300と310nmの間)は放射装置につき
約40Wにのぼる。
約40Wにのぼる。
又Schott/MainzによりつくられたWG305(4
mm)型エツジフイルタ、並びに陽極処理したアル
ミニウムからつくつたリフレクタが使用される。
mm)型エツジフイルタ、並びに陽極処理したアル
ミニウムからつくつたリフレクタが使用される。
(300と310nmの間の波長範囲における)放射
強度E1は約8Wm-2に達する。
強度E1は約8Wm-2に達する。
(300nm以下の波長範囲における)放射強度E2
は0.12E1にまで達する。
は0.12E1にまで達する。
乾癬閾時間ts,psは75sであり、紅班閾時間ts,e
rは90sである。
rは90sである。
反対に、もしフイルタが取去られるならば(同
一放射装置を使用して)これは放射強度として及
び閾値として次の値を生ずる: E1=20Wm-2 E2=0.5・E1 ts,ps=20s ts,er=10s 比較的高い放射強度E2(300nm以下の波長範囲
において)によるフイルタされない放射を使用す
るときは、紅班閾が乾癬閾より早期に到達するこ
とを注目する。
一放射装置を使用して)これは放射強度として及
び閾値として次の値を生ずる: E1=20Wm-2 E2=0.5・E1 ts,ps=20s ts,er=10s 比較的高い放射強度E2(300nm以下の波長範囲
において)によるフイルタされない放射を使用す
るときは、紅班閾が乾癬閾より早期に到達するこ
とを注目する。
例 2
5個の金属ハライド蒸気高圧放射装置は鉄ハラ
イドと水銀を使用した(放射装置につき電力
3000W)。
イドと水銀を使用した(放射装置につき電力
3000W)。
放射束は300と310nmの波長範囲において放射
装置につき約80Wにまで達した。Schott/Mainz
により作られたTempax(3.4nm)がフイルタと
して使用された。例1において使用されたエツジ
フイルタWG305と同様に、このフイルタはUV範
囲内に急竣な吸収限度をもつた無色ガラスであ
る。リフレクタはまた陽極処理したアルミニウム
でつくつた。
装置につき約80Wにまで達した。Schott/Mainz
により作られたTempax(3.4nm)がフイルタと
して使用された。例1において使用されたエツジ
フイルタWG305と同様に、このフイルタはUV範
囲内に急竣な吸収限度をもつた無色ガラスであ
る。リフレクタはまた陽極処理したアルミニウム
でつくつた。
その結果、300と310nmの波長範囲における放
射強度E1及び300nm以下の波長範囲における放射
強度E2の値に対して以下の値となり、そしてま
た乾癬閾時間及び紅班閾時間に対して以下の値と
なつた: E1=50Wm-2 E2=0.14・E1 ts,ps=8s ts,er=10s 一方、もしフイルタを除去すると、以下の値が
得られた: E1=100Wm-2 E2=5・E1 ts,ps=3s ts,er=0.5s 例 3 10個のUV―B螢光ランプがランプにつき
1000Wの電力で使用された。放射束はランプにつ
き2W(300―310nm範囲において)に達した。
射強度E1及び300nm以下の波長範囲における放射
強度E2の値に対して以下の値となり、そしてま
た乾癬閾時間及び紅班閾時間に対して以下の値と
なつた: E1=50Wm-2 E2=0.14・E1 ts,ps=8s ts,er=10s 一方、もしフイルタを除去すると、以下の値が
得られた: E1=100Wm-2 E2=5・E1 ts,ps=3s ts,er=0.5s 例 3 10個のUV―B螢光ランプがランプにつき
1000Wの電力で使用された。放射束はランプにつ
き2W(300―310nm範囲において)に達した。
厚さ0.45mmをもつた軟質PVCがフイルタとして
使用された。
使用された。
リフレクタは陽極処理したアルミニウムからつ
くつた。
くつた。
これは以下の値をつくつた:
E1=6Wm-2
E2=0.12・E1
ts,ps=100s
ts,er=100s
もしフイルタが取去られると、以下の値が得ら
れた: E1=1Wm-2 E2=0.9・E1 ts,ps=30s ts,er=20s 例 4 2個の金属ハライド蒸気放射装置がビスマスハ
ライド充填(水銀なし)されて使用され、かつ放
射装置につき200Wの電力を使用した。放射束は
放射装置につき約80Wであつた。
れた: E1=1Wm-2 E2=0.9・E1 ts,ps=30s ts,er=20s 例 4 2個の金属ハライド蒸気放射装置がビスマスハ
ライド充填(水銀なし)されて使用され、かつ放
射装置につき200Wの電力を使用した。放射束は
放射装置につき約80Wであつた。
Schott/Mainzによりつくられたエツジフイル
タWG305(3mm)、GG19(1.5mm)及びUG11(3
mm)並びに10mmの層の水のフイルタが使用され
た。こうして310nm以上の放射は略々抑圧され
た。Schott/Mainzによりつくられた3個の上記
フイルタの中、WG305はUV範囲に鋭い吸収限度
をもつた無色ガラス、GG19はUV透過性をもつた
緑黄色ガラスそしてUG11はUV透過黒色ガラスで
ある。
タWG305(3mm)、GG19(1.5mm)及びUG11(3
mm)並びに10mmの層の水のフイルタが使用され
た。こうして310nm以上の放射は略々抑圧され
た。Schott/Mainzによりつくられた3個の上記
フイルタの中、WG305はUV範囲に鋭い吸収限度
をもつた無色ガラス、GG19はUV透過性をもつた
緑黄色ガラスそしてUG11はUV透過黒色ガラスで
ある。
この実施例においてはまたリフレクタは陽極処
理したアルミニウムからつくつた。
理したアルミニウムからつくつた。
以下の諸値が得られた:
E1=4Wm-2
E2=0.04・E1
ts,ps=160s
ts,er=200s
例 5
10個のUV―B螢光ランプ(10Wの)が、厚さ
約1mmの無色ソーダ石灰ガラス管球とセリウム活
性化ストロンチウム アルミニウム塩、鉛―活性
化弗化ストロンチウム及び/又はセリウム活性化
弗化カルシウムより形成された螢光性物質とが使
用された。
約1mmの無色ソーダ石灰ガラス管球とセリウム活
性化ストロンチウム アルミニウム塩、鉛―活性
化弗化ストロンチウム及び/又はセリウム活性化
弗化カルシウムより形成された螢光性物質とが使
用された。
これは以下の諸値を与えた:
E1=2.2Wm-2
E2=0.19・E1
ts,ps=210s
ts,er=240s
これまでの5つの例は全体放射(Whole body
radiation)装置に関係する。もし例1、2及び
4が部分体放射(part body radiation)装置と
して構成されているときは、有効領域の減少のた
めに顕著に高い放射強度が達成される。
radiation)装置に関係する。もし例1、2及び
4が部分体放射(part body radiation)装置と
して構成されているときは、有効領域の減少のた
めに顕著に高い放射強度が達成される。
例 6
部分体放射のために金属ハライド蒸気放射装置
が沃化鉄及び水銀と共に使用され、かつ3000Wの
電力並びに例2におけるごとくTompaxフイルタ
(3.4mm)及び例4におけるごとくUG11フイルム
(3mm)が使用された。測定値は: ts,ps=11s ts,er=14s 例 7 全体放射に対して5個の放射装置が例6の如く
使用されたが、4000Wの電力(装置につき)及び
また例6におけると同じフイルタを使用した。測
定値は: ts,ps=33s ts,er=42s 例 8 部分体放射のために、例6におけると同じ放射
装置が使用された。そこに参照した2個のフイル
タに加えて、例4におけるごときフイルタGG19
が使用された。得られた諸値は: ts,ps=110s ts,er=140s 例 9 全体放射のために例7におけると同じ放射装置
が使用された。例4におけるごとくフイルタ
GG19が、例7に参照した2個のフイルタに加え
て使用された。測定値は: ts,ps=330s ts,er=420s 例 10 全体放射(アルミニウム リフレクタを使用し
て)のために、Tempaxフイルタ(3.4mm)及び
UG11フイルタ(3mm)に加えて2個の1000Wの
ビスマスハライド放射装置(水銀なし)が使用さ
れた。
が沃化鉄及び水銀と共に使用され、かつ3000Wの
電力並びに例2におけるごとくTompaxフイルタ
(3.4mm)及び例4におけるごとくUG11フイルム
(3mm)が使用された。測定値は: ts,ps=11s ts,er=14s 例 7 全体放射に対して5個の放射装置が例6の如く
使用されたが、4000Wの電力(装置につき)及び
また例6におけると同じフイルタを使用した。測
定値は: ts,ps=33s ts,er=42s 例 8 部分体放射のために、例6におけると同じ放射
装置が使用された。そこに参照した2個のフイル
タに加えて、例4におけるごときフイルタGG19
が使用された。得られた諸値は: ts,ps=110s ts,er=140s 例 9 全体放射のために例7におけると同じ放射装置
が使用された。例4におけるごとくフイルタ
GG19が、例7に参照した2個のフイルタに加え
て使用された。測定値は: ts,ps=330s ts,er=420s 例 10 全体放射(アルミニウム リフレクタを使用し
て)のために、Tempaxフイルタ(3.4mm)及び
UG11フイルタ(3mm)に加えて2個の1000Wの
ビスマスハライド放射装置(水銀なし)が使用さ
れた。
これは以下の諸値を生じた:
ts,ps=110s
ts,er=135s
例 11
例10の変形において、3000Wの5個のビスマス
ハライド放射装置(水銀と共に)、並びに
Tempaxフイルタ(3.4mm)が使用された。測定
値は: ts,ps=5s ts,er=8s 例 12 例11の変形において、別個の3000Wのビスマス
ハライド放射装置(水銀と共に)、並びに
Tempaxフイルタ(3.4mm)及びUG11フイルタ
(3mm)が使用された。測定値は: ts,ps=8s ts,er=12s 例 13 全体放射のための例12の変形において、5個の
3000Wのビスマスハライド放射装置(水銀と共
に)並びにフイルタTempax(3.4mm)、UG11
(3mm)及びGG19(1.5mm)が使用された。測定
値は: ts,ps=55s ts,er=100s
ハライド放射装置(水銀と共に)、並びに
Tempaxフイルタ(3.4mm)が使用された。測定
値は: ts,ps=5s ts,er=8s 例 12 例11の変形において、別個の3000Wのビスマス
ハライド放射装置(水銀と共に)、並びに
Tempaxフイルタ(3.4mm)及びUG11フイルタ
(3mm)が使用された。測定値は: ts,ps=8s ts,er=12s 例 13 全体放射のための例12の変形において、5個の
3000Wのビスマスハライド放射装置(水銀と共
に)並びにフイルタTempax(3.4mm)、UG11
(3mm)及びGG19(1.5mm)が使用された。測定
値は: ts,ps=55s ts,er=100s
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