JPS5850511A - Icパタ−ン転写装置における照明光学系 - Google Patents
Icパタ−ン転写装置における照明光学系Info
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- JPS5850511A JPS5850511A JP56149849A JP14984981A JPS5850511A JP S5850511 A JPS5850511 A JP S5850511A JP 56149849 A JP56149849 A JP 56149849A JP 14984981 A JP14984981 A JP 14984981A JP S5850511 A JPS5850511 A JP S5850511A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 101100506443 Danio rerio helt gene Proteins 0.000 abstract 1
- 101100506445 Mus musculus Helt gene Proteins 0.000 abstract 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
−この発明は、一般にIC回路と呼ばれる集積回路を製
造するために、フォトマスク(以下単にマスク°と云う
)に形成された微細なパターンをウェー・−などのフォ
トレジスト上に投影して感光させるための照明光学系に
関するものである。
造するために、フォトマスク(以下単にマスク°と云う
)に形成された微細なパターンをウェー・−などのフォ
トレジスト上に投影して感光させるための照明光学系に
関するものである。
この種の投影感光による転写方式には密着方式(フンタ
クト法)ト半接触方式(プロキシミテイ法)とがある。
クト法)ト半接触方式(プロキシミテイ法)とがある。
コンタクト法によれば、原理的にはマスクのパターンが
そのま\正確に転写されることになるが、現実にはマス
クやウェー−の密着光したとしても元の回折現象を伴な
い、その部分で二次極大の影響を受けて解像力は低下し
、鮮鋭なパターン像を転写することができず映像の乱れ
や不鮮明々転写結果を来たし易い。またマスクとウェー
ハとの密着作業の際にマスクやウェーハに損傷を与え易
いという作業上の難点もあ?て、必ずしも有効な転写手
段とはならない。
そのま\正確に転写されることになるが、現実にはマス
クやウェー−の密着光したとしても元の回折現象を伴な
い、その部分で二次極大の影響を受けて解像力は低下し
、鮮鋭なパターン像を転写することができず映像の乱れ
や不鮮明々転写結果を来たし易い。またマスクとウェー
ハとの密着作業の際にマスクやウェーハに損傷を与え易
いという作業上の難点もあ?て、必ずしも有効な転写手
段とはならない。
その結果、昨今は、寧ろマスクとウェーハとをN接的に
接触さザずに数μ乃至十数μ程度の微細な隙間を隔て\
直接々触によって生じ易いマスクやウェーへの損傷を防
ぎ、°できるだけ平行度の高い平行光線を投光して光の
回折現象による影響を防ぐという考え方により、前述の
プロキシミティ法が採用されて来ている。
接触さザずに数μ乃至十数μ程度の微細な隙間を隔て\
直接々触によって生じ易いマスクやウェーへの損傷を防
ぎ、°できるだけ平行度の高い平行光線を投光して光の
回折現象による影響を防ぐという考え方により、前述の
プロキシミティ法が採用されて来ている。
ウェーハ上にマスクを占位させ、マスク及ヒウェーへに
投光照明する上で必ILL−&要請としては、1、照明
光が明るく無駄のないこと 2、照明はむらなく均一に行なわれること3、光の回折
現象を可及的に少なくすることが挙けられる。 。
投光照明する上で必ILL−&要請としては、1、照明
光が明るく無駄のないこと 2、照明はむらなく均一に行なわれること3、光の回折
現象を可及的に少なくすることが挙けられる。 。
照明光が暗かったり、光源光が充分に被熱射面に達しな
いときは、転写作業に時間がか\シ生産性に影響するこ
とは明らかであり、また均一な照明がなされないと、部
分的なむらが微細パターンの線幅偉の転写結果を悪くし
てその部分に乱れ十”むらを生ずることとなる。光の回
折現象による像の乱れや不鮮明な投影転写を防ぐ為には
マスク及びウェーハを照明する照射光の平行性を高め、
平行光束以外の光の入射をできるだけ少くしてやる・
−仁とが必要とされる。ヒの為に、第1のコリメーショ
ンレンズによる平行光束中に7ライアイレンズ(fl7
eye 1ens−蝿の眼レンズと通称されている)
のような収斂性の複眼し/ズをおき、これによってその
焦点位置に生ずる多数の二次光源を用い、第2のコリメ
ーションレンズの焦点をこの二次光源に合致させて、第
2のコリメーションレンズより射出する光を二盗光源の
数に応じた多数の平行光線としてマスク及びウェー・・
上に1置設7元することが既に行なわれて来ている。前
記2.及び3.0目的を達成するための新たな技術的手
段と開発については、同時に出願し九特許願(1)によ
って明らかにしたが、本発明では光源からの光を第1の
コリメーションレンズによって平行光線の光束とする上
で、第1のコリメーションレンズに入射する一足の入射
光に対し、同人射角内の元のすべてを有効に使用し、被
照射体たるマスク及びウェーハの大きさに応じてオプテ
ィカルインチグレーター、としての複眼レンズに入射さ
せる平行光線束の直径を変化させ、前記1.の目的を達
成することを主目的とし、これに附帯する構成金以って
副次的に前記2.及び3.0目的にも適合させるように
したものである。より具体的に述べれば、楕円鏡の第1
焦点に位置する光源の光は、楕円反射面によってその第
2焦点に向けて進むが、楕円鏡の大きさ、楕円反射面の
形状によって、第2焦点面を通過する光の最大入射角は
決定づけられる。またよって制限される。゛そこで、最
終的にマスク及びウェー・・に投射させる光は、第1の
コリメーションレンズに入射させ得る前記入射角内のす
べての光を無駄なく用いることが照明効率を高めること
となるという事実に着目した。マスク及びつ、z −・
・への投光上、従前多くは固足され念照射角のものが用
いられた。稀に照射角を変え得るものがあったとしても
、それは段階的に変化させるものであシ、被照射面の大
きさに対し必ずしも効果的電照射角とになら危い。小さ
鬼マスク及びウェー−に対しては照射角を小さくする仁
とが完全な平行光線以外の迷走光による回折現象を防ぐ
上で有益となるため、プライアイレンズ等の*眼レンズ
の直後に虹彩絞りを設け、その開口径を絞ってゆくとい
う手段も採用された。然し、この場合絞り込みによって
照射角を小さくすることはできても逆に光量が減少する
という欠陥があった。
いときは、転写作業に時間がか\シ生産性に影響するこ
とは明らかであり、また均一な照明がなされないと、部
分的なむらが微細パターンの線幅偉の転写結果を悪くし
てその部分に乱れ十”むらを生ずることとなる。光の回
折現象による像の乱れや不鮮明な投影転写を防ぐ為には
マスク及びウェーハを照明する照射光の平行性を高め、
平行光束以外の光の入射をできるだけ少くしてやる・
−仁とが必要とされる。ヒの為に、第1のコリメーショ
ンレンズによる平行光束中に7ライアイレンズ(fl7
eye 1ens−蝿の眼レンズと通称されている)
のような収斂性の複眼し/ズをおき、これによってその
焦点位置に生ずる多数の二次光源を用い、第2のコリメ
ーションレンズの焦点をこの二次光源に合致させて、第
2のコリメーションレンズより射出する光を二盗光源の
数に応じた多数の平行光線としてマスク及びウェー・・
上に1置設7元することが既に行なわれて来ている。前
記2.及び3.0目的を達成するための新たな技術的手
段と開発については、同時に出願し九特許願(1)によ
って明らかにしたが、本発明では光源からの光を第1の
コリメーションレンズによって平行光線の光束とする上
で、第1のコリメーションレンズに入射する一足の入射
光に対し、同人射角内の元のすべてを有効に使用し、被
照射体たるマスク及びウェーハの大きさに応じてオプテ
ィカルインチグレーター、としての複眼レンズに入射さ
せる平行光線束の直径を変化させ、前記1.の目的を達
成することを主目的とし、これに附帯する構成金以って
副次的に前記2.及び3.0目的にも適合させるように
したものである。より具体的に述べれば、楕円鏡の第1
焦点に位置する光源の光は、楕円反射面によってその第
2焦点に向けて進むが、楕円鏡の大きさ、楕円反射面の
形状によって、第2焦点面を通過する光の最大入射角は
決定づけられる。またよって制限される。゛そこで、最
終的にマスク及びウェー・・に投射させる光は、第1の
コリメーションレンズに入射させ得る前記入射角内のす
べての光を無駄なく用いることが照明効率を高めること
となるという事実に着目した。マスク及びつ、z −・
・への投光上、従前多くは固足され念照射角のものが用
いられた。稀に照射角を変え得るものがあったとしても
、それは段階的に変化させるものであシ、被照射面の大
きさに対し必ずしも効果的電照射角とになら危い。小さ
鬼マスク及びウェー−に対しては照射角を小さくする仁
とが完全な平行光線以外の迷走光による回折現象を防ぐ
上で有益となるため、プライアイレンズ等の*眼レンズ
の直後に虹彩絞りを設け、その開口径を絞ってゆくとい
う手段も採用された。然し、この場合絞り込みによって
照射角を小さくすることはできても逆に光量が減少する
という欠陥があった。
そこで、本発明では、光源からの党を平行光線としてオ
プティカルインチグレーターである複眼レンズに導くに
当たって、平行光線束を得るためのコリ・メーションレ
ンズを少なくとも2 群乃至2枚で構成して、平行−f
fi線束を得るためにその焦点位置を楕円鏡の第2焦点
位置に保ったま\、これらレンズ群またはレンズを相対
的に移動し、このてf、損失を除き、被照射面の大きさ
が小さい場合には射出する平行光線束の直径管小さくし
て光密度を高め、被照射面の単位面積当りの照度を高め
て1畳投光させるようにした。その結果、楕円鏡からの
入射光量は、第1のコリメーションレンズの合成焦点距
離の大小に係りなく一定となり、第1のコリメーション
レンズはその射出光線束の直径のみが変ることとなるの
で、被照射面を照明する光量は最大の前記一定光量を保
持させることができ、而も2群乃至2枚で構成される第
1のコリメーションレンズを前述のように相対的に動か
す連続操作によって希望め照射角を連続的に変化させ、
被照射対象の大きさに応じた最適が照明効果のである。
プティカルインチグレーターである複眼レンズに導くに
当たって、平行光線束を得るためのコリ・メーションレ
ンズを少なくとも2 群乃至2枚で構成して、平行−f
fi線束を得るためにその焦点位置を楕円鏡の第2焦点
位置に保ったま\、これらレンズ群またはレンズを相対
的に移動し、このてf、損失を除き、被照射面の大きさ
が小さい場合には射出する平行光線束の直径管小さくし
て光密度を高め、被照射面の単位面積当りの照度を高め
て1畳投光させるようにした。その結果、楕円鏡からの
入射光量は、第1のコリメーションレンズの合成焦点距
離の大小に係りなく一定となり、第1のコリメーション
レンズはその射出光線束の直径のみが変ることとなるの
で、被照射面を照明する光量は最大の前記一定光量を保
持させることができ、而も2群乃至2枚で構成される第
1のコリメーションレンズを前述のように相対的に動か
す連続操作によって希望め照射角を連続的に変化させ、
被照射対象の大きさに応じた最適が照明効果のである。
゛
以下本発明の詳細を図に示した実施例によって説明する
と、第1図において、1は楕円鏡2の焦点に位置する光
源であシ、3はこの楕円@1の開口部の近傍において光
軸と45°の角度を以って設けf(j−にドミラーであ
る。コールドミラー3は平面性のよいものを用いるが、
周知のようにコールドミラーは熱射を透過放出し有効光
線のみを反射する。4・は第1のコリメーションレンズ
群で、第1図示の実例では発散性をもつが、第5A図及
び第5B図に示すようIIcIc性のものであってもよ
い。第1図及び第4A図、第4B図に示したも′のでは
、その後り焦点(射出光1ill)は楕円鏡2の第2焦
点(光源1を第1焦点とする)と一致させて設けである
。その結果、楕円@12により反射されコールドミラー
3より反射して第1 (D コ!j J −シヨ線とな
って射出する。5はオプティカルインチグレーターとし
ての複眼レンズ群であって、図の場合夫々単一の複眼レ
ンズ2枚を以って前群レンズ及び後群レンズとしている
が、複数の複眼レンズを組合わせたレンズを以って夫々
前群レンズ及び後群レンズとしてもよいことは勿論であ
る。複眼レンズ群5の詳細は第2A図、第2B図、第3
図を以って示した。図示の場合各1!!眼レンズは第2
A図によって理解で話るように正面から見て正方形の連
接列線を以って構成された多数の単−小しン“ ズより
成り立つフライアイレンズを以って構成しであるが、個
々の小レンズは正六角形をなす連接配置から成る・・二
カム状(蜂の巣状)の小レンズの聚合体を以って形成し
て本より0フライアイレンズ及びハニカムレンズの双方
を総称してと\では?J眼レンズと呼び、それらの2群
をオプティカルインチグレーターと称している。そして
、第1のコリメーションレンズ群4に近い側の前群また
は第1の複眼レンズの各単一レンズ素子は第3図に示す
ように、その背後に置かれる後群または第2の複眼レン
ズの各単一レンズ素子と共通の光軸X−X上に位置させ
ねばならなり。また前群又は第1のIレンズの各単一レ
ンズ素子も後群又は第2の複眼レンズの各単一レンズ素
子もともに曲率半径の小さな凸面が入射光側即ち光源1
の方向に向いて位置される。前群又は第1の複眼レンズ
の各単一レンズ素子の焦点距離f1 と、後群又は第
2の複眼レンズの各単一レンズ素子の焦点距離f2とは
厳密に等しい値をもつ必要はなく、略等しい値であって
よい。これら6単−の対をなすレンズの主点間隔りの範
囲としそ、 なる関係を充足させることが望ましい。
と、第1図において、1は楕円鏡2の焦点に位置する光
源であシ、3はこの楕円@1の開口部の近傍において光
軸と45°の角度を以って設けf(j−にドミラーであ
る。コールドミラー3は平面性のよいものを用いるが、
周知のようにコールドミラーは熱射を透過放出し有効光
線のみを反射する。4・は第1のコリメーションレンズ
群で、第1図示の実例では発散性をもつが、第5A図及
び第5B図に示すようIIcIc性のものであってもよ
い。第1図及び第4A図、第4B図に示したも′のでは
、その後り焦点(射出光1ill)は楕円鏡2の第2焦
点(光源1を第1焦点とする)と一致させて設けである
。その結果、楕円@12により反射されコールドミラー
3より反射して第1 (D コ!j J −シヨ線とな
って射出する。5はオプティカルインチグレーターとし
ての複眼レンズ群であって、図の場合夫々単一の複眼レ
ンズ2枚を以って前群レンズ及び後群レンズとしている
が、複数の複眼レンズを組合わせたレンズを以って夫々
前群レンズ及び後群レンズとしてもよいことは勿論であ
る。複眼レンズ群5の詳細は第2A図、第2B図、第3
図を以って示した。図示の場合各1!!眼レンズは第2
A図によって理解で話るように正面から見て正方形の連
接列線を以って構成された多数の単−小しン“ ズより
成り立つフライアイレンズを以って構成しであるが、個
々の小レンズは正六角形をなす連接配置から成る・・二
カム状(蜂の巣状)の小レンズの聚合体を以って形成し
て本より0フライアイレンズ及びハニカムレンズの双方
を総称してと\では?J眼レンズと呼び、それらの2群
をオプティカルインチグレーターと称している。そして
、第1のコリメーションレンズ群4に近い側の前群また
は第1の複眼レンズの各単一レンズ素子は第3図に示す
ように、その背後に置かれる後群または第2の複眼レン
ズの各単一レンズ素子と共通の光軸X−X上に位置させ
ねばならなり。また前群又は第1のIレンズの各単一レ
ンズ素子も後群又は第2の複眼レンズの各単一レンズ素
子もともに曲率半径の小さな凸面が入射光側即ち光源1
の方向に向いて位置される。前群又は第1の複眼レンズ
の各単一レンズ素子の焦点距離f1 と、後群又は第
2の複眼レンズの各単一レンズ素子の焦点距離f2とは
厳密に等しい値をもつ必要はなく、略等しい値であって
よい。これら6単−の対をなすレンズの主点間隔りの範
囲としそ、 なる関係を充足させることが望ましい。
f1=f2 tたは近似警にfl−f2 とする理由
は、6単−のレンズ素子が収斂性のレンズで形成され、
夫々曲率半径の小さな凸曲面を入射光側に向けるという
条件と相俟って、それらが平凸レンズ、両凸レンズ、マ
たはメニスカスレンズトシて形成されたにせよ、球面収
差を減少して光量分布の一様化を図ることができるから
であり、単一の複眼レンズを用いた場合より均一な照明
を与えるのに役立つからである。また、2つのこれらレ
ンズの主点間隔について上記数式で示す範四内に各レン
ズに位&つけることは、フィールドレンズとしての効果
を発揮させ、周辺光量を中心部に向けることによって光
量増加を図り、むらの少ない照明効果を与えるのに有益
となるからである。6はオプテイカルインテダレーーー
としての複眼レンズ群5によって形成される多数の二次
光源を光源とする光の方向を変えるための平面ミラーで
あり、7は収斂性の第2のコリメーションレンズである
。
は、6単−のレンズ素子が収斂性のレンズで形成され、
夫々曲率半径の小さな凸曲面を入射光側に向けるという
条件と相俟って、それらが平凸レンズ、両凸レンズ、マ
たはメニスカスレンズトシて形成されたにせよ、球面収
差を減少して光量分布の一様化を図ることができるから
であり、単一の複眼レンズを用いた場合より均一な照明
を与えるのに役立つからである。また、2つのこれらレ
ンズの主点間隔について上記数式で示す範四内に各レン
ズに位&つけることは、フィールドレンズとしての効果
を発揮させ、周辺光量を中心部に向けることによって光
量増加を図り、むらの少ない照明効果を与えるのに有益
となるからである。6はオプテイカルインテダレーーー
としての複眼レンズ群5によって形成される多数の二次
光源を光源とする光の方向を変えるための平面ミラーで
あり、7は収斂性の第2のコリメーションレンズである
。
この場合m2のフリメーションレンズ7t4遇する光を
平行な光線としてその下方に位置するマスク8及びウェ
ー/〜9にむらなく投光するために、複眼レンズ群5に
よる後@焦点と第2コIJメーシヨンレンズ7の前側焦
点とを合致させること力;望ましい。
平行な光線としてその下方に位置するマスク8及びウェ
ー/〜9にむらなく投光するために、複眼レンズ群5に
よる後@焦点と第2コIJメーシヨンレンズ7の前側焦
点とを合致させること力;望ましい。
上記の構成によれば、第1フリメーシヨンレンズ群4に
よって射出される平行光線は複眼レンズ群5に入射し、
同レンズ群が形成する単一レンズ素子の個数に相当する
多数の二次光源に分けられ、複眼レンズ群5に入射する
光量が部分的に一様なものでない場合でも第2コリメー
シヨンレンズ7を経て被照射面に投光される光は、被照
射面に対し同一の全面に亘って重畳照射されることにな
り、上記分割された二次光源は多数の方向から第2コリ
メーシヨ/レンズ7によって平行光線束として被照射面
を照明し、回折による二次極大の影響が解像力の低下を
来すといったことを防ぐことになる。この際適当な照射
方向の角度(照射角)は、マスクとその下方のウェーへ
の間隔やマスクに形成されるパターンの微細程度によっ
て定まるめ鬼、光軸とのなす照射角は、複眼レンズ群5
の全体の有効半径t−φ5とし、第2コリメーシヨンレ
ンズ7の焦点距離をf7とするとき、 を以って与えられる。
よって射出される平行光線は複眼レンズ群5に入射し、
同レンズ群が形成する単一レンズ素子の個数に相当する
多数の二次光源に分けられ、複眼レンズ群5に入射する
光量が部分的に一様なものでない場合でも第2コリメー
シヨンレンズ7を経て被照射面に投光される光は、被照
射面に対し同一の全面に亘って重畳照射されることにな
り、上記分割された二次光源は多数の方向から第2コリ
メーシヨ/レンズ7によって平行光線束として被照射面
を照明し、回折による二次極大の影響が解像力の低下を
来すといったことを防ぐことになる。この際適当な照射
方向の角度(照射角)は、マスクとその下方のウェーへ
の間隔やマスクに形成されるパターンの微細程度によっ
て定まるめ鬼、光軸とのなす照射角は、複眼レンズ群5
の全体の有効半径t−φ5とし、第2コリメーシヨンレ
ンズ7の焦点距離をf7とするとき、 を以って与えられる。
本発明による前記実施例の場合、第4A図及び第4B図
に示すように、第1のコリメーションレンズ群4は、2
枚の凹レンズを一対として構成され、これらを光軸上で
移動し且つ前群に属する凹レンズと後群に楓する凹レン
ズとの間隔を全体の移動に関連して相関的に変えること
によって、それらを一対とする合成焦点距離が変化する
。即ち、前群に属する凹レンズの焦点距離をf4とし、
後群に属する凹レンズの焦点距離をt2とし、これらの
主点間隔をdoとすると、これらの合成焦点距離f。
に示すように、第1のコリメーションレンズ群4は、2
枚の凹レンズを一対として構成され、これらを光軸上で
移動し且つ前群に属する凹レンズと後群に楓する凹レン
ズとの間隔を全体の移動に関連して相関的に変えること
によって、それらを一対とする合成焦点距離が変化する
。即ち、前群に属する凹レンズの焦点距離をf4とし、
後群に属する凹レンズの焦点距離をt2とし、これらの
主点間隔をdoとすると、これらの合成焦点距離f。
は、以下の式によって求められる。
従って、主点間距離d0をdよりd′に向けて拡けたと
きにも常にその後側焦点F4(射出@)が楕円fa2の
第2焦点上にあるように夫々のレンズの相対的移動を行
なう限り、第1のコリメーションレンズ群4からオプ誉
イカルインテグレーターとしての複眼レンズ群5に向け
て射出する光線は平行光束として射出されることとなる
。この場合楕円鏡2の第2焦点とも一致する前記焦点I
F、に向がう集光々束のなす角、即ち第1のコリメーシ
ョンレンズ群4に対する入射角αは一定値であるので、
第1のコリメーションレンズ群4についテ行われる前記
相関的移動の結果は、射出光線の平行光束の直径におい
てφ1よシφ8の間で変化し、前群レンズと抜群レンズ
との相関的移動により、複眼レンズ群5への入射光の光
束幅が変化す条。@4B図に示すように、両レンズを楕
円鏡2の第2焦点に近づける移動と両レンズ相互間の主
点間隔を拡げる動きは入射角α中の全光量の光密度を高
め、強す元を複眼レンズ群5に与えることとなる。その
結果、複眼レンズ群5によって分割されて生ずる多数の
二次光源は、光軸上に近い崗囲に生じて第2のコリメー
ションレンズ7IIcよる射出平行f束をその光軸に近
い部分に向けて集中的に重畳させることになる。従って
、小面積の被照射体に対して全光量を光量損失なく集中
的にむらなく重量照明することができる。逆に、大面積
に亘ってむらのない均一な照明を行なうためには、第1
のコリメーションレンズ群4の焦点F4の位置を楕円鏡
2゜の第2焦点の位置に保ったま\、両レンズを光源1
111Vc向けて移動し、この移動に関連して相互のレ
ンズ主点間距離を狭めてゆけば、第1のコリメーション
レンズ群4から射出する平行光束の直径は大きくなって
ゆき、オプティカルインチグレーターとしての複眼レン
ズ群5によって分割形成される二次元源吃増加して、第
2コリメーシヨンレンズ7による平行光線の光束径は増
して広域に亘る均一な照明がなされる。第4A図、及び
第4B図においてfL及び’=は両レンズによる合成焦
点距離のより大きな値及びよシ小さな値としてfM解さ
れるべきである。
きにも常にその後側焦点F4(射出@)が楕円fa2の
第2焦点上にあるように夫々のレンズの相対的移動を行
なう限り、第1のコリメーションレンズ群4からオプ誉
イカルインテグレーターとしての複眼レンズ群5に向け
て射出する光線は平行光束として射出されることとなる
。この場合楕円鏡2の第2焦点とも一致する前記焦点I
F、に向がう集光々束のなす角、即ち第1のコリメーシ
ョンレンズ群4に対する入射角αは一定値であるので、
第1のコリメーションレンズ群4についテ行われる前記
相関的移動の結果は、射出光線の平行光束の直径におい
てφ1よシφ8の間で変化し、前群レンズと抜群レンズ
との相関的移動により、複眼レンズ群5への入射光の光
束幅が変化す条。@4B図に示すように、両レンズを楕
円鏡2の第2焦点に近づける移動と両レンズ相互間の主
点間隔を拡げる動きは入射角α中の全光量の光密度を高
め、強す元を複眼レンズ群5に与えることとなる。その
結果、複眼レンズ群5によって分割されて生ずる多数の
二次光源は、光軸上に近い崗囲に生じて第2のコリメー
ションレンズ7IIcよる射出平行f束をその光軸に近
い部分に向けて集中的に重畳させることになる。従って
、小面積の被照射体に対して全光量を光量損失なく集中
的にむらなく重量照明することができる。逆に、大面積
に亘ってむらのない均一な照明を行なうためには、第1
のコリメーションレンズ群4の焦点F4の位置を楕円鏡
2゜の第2焦点の位置に保ったま\、両レンズを光源1
111Vc向けて移動し、この移動に関連して相互のレ
ンズ主点間距離を狭めてゆけば、第1のコリメーション
レンズ群4から射出する平行光束の直径は大きくなって
ゆき、オプティカルインチグレーターとしての複眼レン
ズ群5によって分割形成される二次元源吃増加して、第
2コリメーシヨンレンズ7による平行光線の光束径は増
して広域に亘る均一な照明がなされる。第4A図、及び
第4B図においてfL及び’=は両レンズによる合成焦
点距離のより大きな値及びよシ小さな値としてfM解さ
れるべきである。
第4A図及び第4B図に示す実例は、第1のコリメーシ
ョンレンズ群4赤発散性のレンズ倉以って構成された例
を示し、従ってこれによってその後側焦点を常に楕円鏡
2の@22焦に一致させこれを維持するようにレンズ群
の動きを与えるようにしたが、゛収斂性のコリメーショ
ンレンズt−用いる場合は、コリメーションレンズ群の
前備焦点を楕円鏡2の第2焦点と一致させこれを維持し
たま\レンズ群を動かすことになる。第5A図及び第5
B図はその場゛・合の実例を示すものであるが、図から
も明らかなように、第4A図、第4B図の実例では、反
射集光々束を第1のコリメーションレンズ群4に入射さ
せるが、第5A図及び第5B図の実例では楕円鏡2の第
2焦点F′に一旦集光した元の発散光を、収斂性の第1
のコリメーションレンズ群4′を射出する光線を平行光
束として複眼レンズ群5に導くようにしである。この場
合の平行光束のφよりφの変化とレンズ群を構成する6
凸しL 8 ンズの動きは、上記第4A図及び第4B図によるi明か
ら自明であると考えるので、その詳aは省略する。
ョンレンズ群4赤発散性のレンズ倉以って構成された例
を示し、従ってこれによってその後側焦点を常に楕円鏡
2の@22焦に一致させこれを維持するようにレンズ群
の動きを与えるようにしたが、゛収斂性のコリメーショ
ンレンズt−用いる場合は、コリメーションレンズ群の
前備焦点を楕円鏡2の第2焦点と一致させこれを維持し
たま\レンズ群を動かすことになる。第5A図及び第5
B図はその場゛・合の実例を示すものであるが、図から
も明らかなように、第4A図、第4B図の実例では、反
射集光々束を第1のコリメーションレンズ群4に入射さ
せるが、第5A図及び第5B図の実例では楕円鏡2の第
2焦点F′に一旦集光した元の発散光を、収斂性の第1
のコリメーションレンズ群4′を射出する光線を平行光
束として複眼レンズ群5に導くようにしである。この場
合の平行光束のφよりφの変化とレンズ群を構成する6
凸しL 8 ンズの動きは、上記第4A図及び第4B図によるi明か
ら自明であると考えるので、その詳aは省略する。
以上何れの実例によっても、本発明によればオプティカ
ルインチグレーターとしての複眼レンズ群5には、直径
を連続的に変化させ得る平行光束を与えることになシ、
直径の大きな光線束の場合は複眼レンズ群5の多くの凸
レンズ素子に光が入射して有効光線束の直径を拡け、む
らなく均一に広域の照明を対象に与えることができ、逆
に直径の小さな光線束にする場合には複眼レンズ群5の
元軸に近い周辺の少数の素子に強い光を入射させて、狭
い領域に対するむらのない均−且つ強力な照明を与える
ことが可能であって、特に虹彩絞のような光量制限機構
によらないので照明上の光量損失を生じない点が優れた
特長として実用上益するところが多大である。また、前
記した通り元の回折による影響を除去するための照射角
は複眼レンズ群50半径を第2コリメーシヨンレンズ7
の練 焦点距離で際した値に関係するので、適当な照射角をW
Ilコリメーションレンズ群4またn 4 ’O合照明
を選択的に得ることができて極めて有効である。
ルインチグレーターとしての複眼レンズ群5には、直径
を連続的に変化させ得る平行光束を与えることになシ、
直径の大きな光線束の場合は複眼レンズ群5の多くの凸
レンズ素子に光が入射して有効光線束の直径を拡け、む
らなく均一に広域の照明を対象に与えることができ、逆
に直径の小さな光線束にする場合には複眼レンズ群5の
元軸に近い周辺の少数の素子に強い光を入射させて、狭
い領域に対するむらのない均−且つ強力な照明を与える
ことが可能であって、特に虹彩絞のような光量制限機構
によらないので照明上の光量損失を生じない点が優れた
特長として実用上益するところが多大である。また、前
記した通り元の回折による影響を除去するための照射角
は複眼レンズ群50半径を第2コリメーシヨンレンズ7
の練 焦点距離で際した値に関係するので、適当な照射角をW
Ilコリメーションレンズ群4またn 4 ’O合照明
を選択的に得ることができて極めて有効である。
第1図は本発明の照明光学系の概要を示す側面図、第2
A図は本発明の照明光学系に用いられるフライアイレン
ズの正面図、第2B図は本発明照明光学系において組合
わされて用いられるプライアイレンズ群を示す側面図、
第3図は夫々のフラ輛 イアイレンズを透過する光路とレンズ間隔との関係を示
す側面図である、*4A図及び第4B図は、前後2群構
成から成る発散性の第1コリメーシダンレンズの位置移
動及び相互間隔を変化させて光、線束の径を変化させた
態様を示す説明図であって、第5A図及び第5B図は、
夫々前後2群から成る駄 集斂性のfglコリメーションレンズの位hsm及び相
互間隔を変化させて平行光線束の径を変化させた態様を
示す説明図である。 l・・・光源、2・・・楕円−13・・・コールドミラ
ー4.4’・・・第101J /−ジョンレンズ群5・
・・プライアイレンズ群、 7・・・第2コリア1−ジョンレンズ、8・拳−マスク
、 9・・・ウェーハfx + f2・・・フライア
イレンズの焦点距離D・・・レンズ間隔、fI、、fs
・・・合成焦点距離、f、 # fν・・;第1コリメ
ーションレンズ群の容態(1,、d’・・・レンズ間隔
、φ1.φ8・・・光線束の経、y′・−・楕円鏡の焦
点 特許出願人 ミカサ株式会社
A図は本発明の照明光学系に用いられるフライアイレン
ズの正面図、第2B図は本発明照明光学系において組合
わされて用いられるプライアイレンズ群を示す側面図、
第3図は夫々のフラ輛 イアイレンズを透過する光路とレンズ間隔との関係を示
す側面図である、*4A図及び第4B図は、前後2群構
成から成る発散性の第1コリメーシダンレンズの位置移
動及び相互間隔を変化させて光、線束の径を変化させた
態様を示す説明図であって、第5A図及び第5B図は、
夫々前後2群から成る駄 集斂性のfglコリメーションレンズの位hsm及び相
互間隔を変化させて平行光線束の径を変化させた態様を
示す説明図である。 l・・・光源、2・・・楕円−13・・・コールドミラ
ー4.4’・・・第101J /−ジョンレンズ群5・
・・プライアイレンズ群、 7・・・第2コリア1−ジョンレンズ、8・拳−マスク
、 9・・・ウェーハfx + f2・・・フライア
イレンズの焦点距離D・・・レンズ間隔、fI、、fs
・・・合成焦点距離、f、 # fν・・;第1コリメ
ーションレンズ群の容態(1,、d’・・・レンズ間隔
、φ1.φ8・・・光線束の経、y′・−・楕円鏡の焦
点 特許出願人 ミカサ株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)楕円鏡と、その第1焦点に位置する光源と、前記
楕円鏡の第2焦点に焦点を一致させるように配置した少
くとも2群よりなる可動の第1のコ1)メーションレン
ズと、この第1のコリメーションレンズによりその光軸
に平行な平行光騙として射出する光源からの光束中に占
位させたオプティカルインチグレーターと、該オプティ
カルインチグレーターにより形成される多数の二次光源
のft、t−マスク及びウェー−・に重畳して投光させ
る集敵性の第2のコリメーションレンズとから成り、前
記オプティカルインチグレーターが多数の凸レンズ素子
t[合させたプライアイレンズの如き複眼しなく前後2
群より成る各レンズを相組的に移動させてこれより射出
する平行光線束の直径を変化さ明光学系。 (2)前項に記載の2群よりなる可動の第1のコリメー
ションレンズが発散性をもち、その後側焦点を楕円鏡の
sg2焦点と一致させた特許請求の範囲第+11 JJ
Iに記載のICパターン転写装置における照明光学系。 (31前項に記載の2群よりなる可動の第1のコリメー
ションレンズが収斂性をもち、その前側焦点を楕円鏡の
第2焦点と一致させた特許請求の範囲第(1)項に記載
のICパターン転写装置における照明光学系。 (4)第1のコリメーションレンズより射出する平行光
線束中におかれるオプティカルインチグレーターが、多
数の凸レンズ素子を聚合させたプライアイレンズの如き
複眼レンズの複数を以って構成記載のICパターン転写
装置における照明光学系。 (5)前記オプティカルインチグレーターが多数の凸レ
ンズ素子を聚合させたフライアイレンズノ如き複眼レン
ズの複数を以って構成され、該複数の複眼レンズを前群
と後群の2群を以って主点間距離りを隔て\配電させる
とともに、前記多数の凸レンズ素子は曲率半径の小さな
凸面が入射ft411K −向って位置し、前群の各凸
レンズ素子と後群の各凸レンズ素子とを一対とする光学
系は共通の光軸上に置かれ、夫々の凸レンズ素子の焦点
距mをfl及びf2とするとき、 f1= f2 または f□中f2であって、2
・ 1.8 なる関係を充足するようになされた特許請求の範囲第0
)項また#′i第121 JA若しくは第(3)項に記
載のXaパターン転輸装置における照明光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56149849A JPS5850511A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | Icパタ−ン転写装置における照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56149849A JPS5850511A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | Icパタ−ン転写装置における照明光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850511A true JPS5850511A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15483989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56149849A Pending JPS5850511A (ja) | 1981-09-21 | 1981-09-21 | Icパタ−ン転写装置における照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850511A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188152U (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-22 | ||
| JPH09102456A (ja) * | 1996-05-24 | 1997-04-15 | Canon Inc | 照明光学装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5681813A (en) * | 1979-12-08 | 1981-07-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Mask lighting optical system |
-
1981
- 1981-09-21 JP JP56149849A patent/JPS5850511A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5681813A (en) * | 1979-12-08 | 1981-07-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Mask lighting optical system |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188152U (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-22 | ||
| JPH09102456A (ja) * | 1996-05-24 | 1997-04-15 | Canon Inc | 照明光学装置 |
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