JPS633288B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS633288B2 JPS633288B2 JP54158740A JP15874079A JPS633288B2 JP S633288 B2 JPS633288 B2 JP S633288B2 JP 54158740 A JP54158740 A JP 54158740A JP 15874079 A JP15874079 A JP 15874079A JP S633288 B2 JPS633288 B2 JP S633288B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- light
- collimation lens
- optical integrator
- elliptical mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、所定のパターンを投影するための照
明光学系、特に、コンタクト方式またはプロキシ
ミテイ方式で、ICパターンをマスクからウエハ
ーへ転写するためのマスク照明光学系に関する。
明光学系、特に、コンタクト方式またはプロキシ
ミテイ方式で、ICパターンをマスクからウエハ
ーへ転写するためのマスク照明光学系に関する。
従来、ICパターンの転写装置に用いられる照
明光学系は種々知られている。例えば、米国特許
明細書3296923のごとく、光源、橢円鏡、コール
ドミラー、発散性コリメーシヨンレンズ、2個の
フライアイ(ry−eye)レンズ、収斂性コリメ
ーシヨンレンズを基本構成とし、物体面(マスク
面)の所定領域を所定のコリメーシヨンハーフア
ングル(照明光が物体面の法線となす最大角)以
内の平行光束で照明するものがある。ここでフラ
イアイレンズは、複数の2次光源を形成しマスク
面を多数光束で照明することによりマスクによる
回折像を除去するとともに、ムラのない均一な照
明を得るためのものであり、以下このような手段
をオプテイカルインテグレーターと呼ぶ。一般に
橢円鏡を用いた照明光学系はそのパワー配置上2
つに大別される。1つは橢円鏡によつてオプテイ
カルインテグレーターの近傍に光源像を結ばせる
もので、他の1つは上記米国特許明細書3296923
のごとく橢円鏡からの光束を発散性のコリメータ
ーレンズで平行光としてオプテイカルインテグレ
ーターへ導くものである。集光効率の点から見る
と、後者の方がオプテイカルインテグレーターで
の光光のケラレが少ないので比較的優れている
が、それでもまだ十分満足できるものではなかつ
た。特に、遠紫外光を用いた場合の代表的フオト
レジストであるPMMAは感度が低いため、照明
光学系の集光効率を高めることが大きな課題であ
つた。
明光学系は種々知られている。例えば、米国特許
明細書3296923のごとく、光源、橢円鏡、コール
ドミラー、発散性コリメーシヨンレンズ、2個の
フライアイ(ry−eye)レンズ、収斂性コリメ
ーシヨンレンズを基本構成とし、物体面(マスク
面)の所定領域を所定のコリメーシヨンハーフア
ングル(照明光が物体面の法線となす最大角)以
内の平行光束で照明するものがある。ここでフラ
イアイレンズは、複数の2次光源を形成しマスク
面を多数光束で照明することによりマスクによる
回折像を除去するとともに、ムラのない均一な照
明を得るためのものであり、以下このような手段
をオプテイカルインテグレーターと呼ぶ。一般に
橢円鏡を用いた照明光学系はそのパワー配置上2
つに大別される。1つは橢円鏡によつてオプテイ
カルインテグレーターの近傍に光源像を結ばせる
もので、他の1つは上記米国特許明細書3296923
のごとく橢円鏡からの光束を発散性のコリメータ
ーレンズで平行光としてオプテイカルインテグレ
ーターへ導くものである。集光効率の点から見る
と、後者の方がオプテイカルインテグレーターで
の光光のケラレが少ないので比較的優れている
が、それでもまだ十分満足できるものではなかつ
た。特に、遠紫外光を用いた場合の代表的フオト
レジストであるPMMAは感度が低いため、照明
光学系の集光効率を高めることが大きな課題であ
つた。
本発明の目的は、マスクによる回折像の影響を
除去しつつ、均一でしかも集光効率のより高いマ
スク照明光学系を提供することにある。
除去しつつ、均一でしかも集光効率のより高いマ
スク照明光学系を提供することにある。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。第
1図は本発明による照明光学系の実施例を示す概
略断面図である。
1図は本発明による照明光学系の実施例を示す概
略断面図である。
発光管1は紫外線及び遠紫外線を発する高輝度
光源aを有しており、この光源aは橢円鏡2の第
1焦点にほぼ位置している。橢円鏡2はその第2
焦点位置に光源aの像a′を形成する。コールドミ
ラー3は赤外線の大部分を透過し、遠紫外光の大
部分を反射するもので、一般には多層膜を被覆さ
れて作られている。2個の正レンズから成るコリ
メーシヨンレンズ4はその前側焦点を光源像a′に
合致して配置されており、光源像a′からの光を平
行光束にする。この平行光束中に多数の2次光源
を形成するためのオプテイカルインテグレーター
5が配置されており、実質的に多数の光束を発生
させている。オプテイカルインテグレーター5は
具体的には第2図aの縦断面図、bの横断面図に
示すごとく、六角柱のガラスの両端面を凸レンズ
に加工したものをはちの巣状に束ねたものであ
る。前側の小レンズ11と後側の小レンズ12と
はほぼ等しい屈折力を有し、両者の間隔は前側小
レンズ11の後側焦点距離に等しく、もちろん後
側小レンズ12の前側焦点距離にも等しい。そし
て、前側の小レンズ11と後側の小レンズ12と
は各々1対1に対応しており、後側小レンズ12
はこれに対応する前側小レンズ11の像を物体面
(マスク面)に結ばせる働きを有している。この
ため、前側小レンズ11の口径の形状と物体面上
の照明領域は相似形となり、ここでは、小レンズ
の個々の形が六角形であるから照明領域も六角形
になつている。このようなオプテイカルインテグ
レーターとしては第3図aの縦断面図及びbの横
断面図に示すごとく、前側小レンズ11と後側小
レンズ12とをそれぞれ有する2個のフライアイ
レンズ5a,5bによつて構成することも可能で
ある。
光源aを有しており、この光源aは橢円鏡2の第
1焦点にほぼ位置している。橢円鏡2はその第2
焦点位置に光源aの像a′を形成する。コールドミ
ラー3は赤外線の大部分を透過し、遠紫外光の大
部分を反射するもので、一般には多層膜を被覆さ
れて作られている。2個の正レンズから成るコリ
メーシヨンレンズ4はその前側焦点を光源像a′に
合致して配置されており、光源像a′からの光を平
行光束にする。この平行光束中に多数の2次光源
を形成するためのオプテイカルインテグレーター
5が配置されており、実質的に多数の光束を発生
させている。オプテイカルインテグレーター5は
具体的には第2図aの縦断面図、bの横断面図に
示すごとく、六角柱のガラスの両端面を凸レンズ
に加工したものをはちの巣状に束ねたものであ
る。前側の小レンズ11と後側の小レンズ12と
はほぼ等しい屈折力を有し、両者の間隔は前側小
レンズ11の後側焦点距離に等しく、もちろん後
側小レンズ12の前側焦点距離にも等しい。そし
て、前側の小レンズ11と後側の小レンズ12と
は各々1対1に対応しており、後側小レンズ12
はこれに対応する前側小レンズ11の像を物体面
(マスク面)に結ばせる働きを有している。この
ため、前側小レンズ11の口径の形状と物体面上
の照明領域は相似形となり、ここでは、小レンズ
の個々の形が六角形であるから照明領域も六角形
になつている。このようなオプテイカルインテグ
レーターとしては第3図aの縦断面図及びbの横
断面図に示すごとく、前側小レンズ11と後側小
レンズ12とをそれぞれ有する2個のフライアイ
レンズ5a,5bによつて構成することも可能で
ある。
第1図にもどつてオプテイカルインテグレータ
ー5の直後には、正レンズ6が配置され、さらに
この直後には絞り7が設けられ、反射鏡8で反射
された光束はコリメーターレンズ9によつて物体
面10上に集光される。正レンズ6の作用により
コリメーターレンズ9の口径を小さくすることが
でき、またコリメーターレンズ9と物体面10と
の距離を小さくできるので装置全体をよりコンパ
クトに構成することが可能である。しかし、コリ
メーターレンズ9と物体面との距離はいわゆる作
動距離であり、何らかの目的のために作動距離を
大きくしたい場合には、正レンズ6の代りに負レ
ンズを配置することができる。絞り7はその口径
を変えることによつて照明光のコリメーシヨンハ
ーフアングルを変えるためのものである。反射鏡
8は光束の進行方向を単に90゜曲げるためのもの
である。コリメーターレンズ9は、オプテイカル
インテグレーター5の後面即ちオプテイカルイン
テグレーターの前側小レンズ11による2次光源
像の位置にその前側焦点を合致するように配置さ
れており、オプテイカルインテグレーター5の後
側小レンズ12のそれぞれからの発散光束を平行
光束に変換し、物体面10上で完全に重ね合せる
ものである。
ー5の直後には、正レンズ6が配置され、さらに
この直後には絞り7が設けられ、反射鏡8で反射
された光束はコリメーターレンズ9によつて物体
面10上に集光される。正レンズ6の作用により
コリメーターレンズ9の口径を小さくすることが
でき、またコリメーターレンズ9と物体面10と
の距離を小さくできるので装置全体をよりコンパ
クトに構成することが可能である。しかし、コリ
メーターレンズ9と物体面との距離はいわゆる作
動距離であり、何らかの目的のために作動距離を
大きくしたい場合には、正レンズ6の代りに負レ
ンズを配置することができる。絞り7はその口径
を変えることによつて照明光のコリメーシヨンハ
ーフアングルを変えるためのものである。反射鏡
8は光束の進行方向を単に90゜曲げるためのもの
である。コリメーターレンズ9は、オプテイカル
インテグレーター5の後面即ちオプテイカルイン
テグレーターの前側小レンズ11による2次光源
像の位置にその前側焦点を合致するように配置さ
れており、オプテイカルインテグレーター5の後
側小レンズ12のそれぞれからの発散光束を平行
光束に変換し、物体面10上で完全に重ね合せる
ものである。
以上のごとき本発明の構成において、光源aは
完全な点光源ではなく、光源像a′にある大きさが
あるため、コリメーシヨンレンズ4を射出する光
束は光源像a′の大きさに相当する角度で広がる発
散光束となる。ここで、コリメーシヨンレンズ4
の収斂作用により、橢円鏡2の開口面bの像b′が
第4図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ4の
後方距離dの位置に形成されるので、この位置に
オプテイカルインテグレーター5を配置すること
によつて、ケラレを防ぐことができる。もし、コ
リメーシヨンレンズが従来のように発散性の凹レ
ンズであるならば、橢円鏡2の開口面bの像b′は
コリメーシヨンレンズの前方に形成されるためケ
ラレを防ぐことはできない。
完全な点光源ではなく、光源像a′にある大きさが
あるため、コリメーシヨンレンズ4を射出する光
束は光源像a′の大きさに相当する角度で広がる発
散光束となる。ここで、コリメーシヨンレンズ4
の収斂作用により、橢円鏡2の開口面bの像b′が
第4図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ4の
後方距離dの位置に形成されるので、この位置に
オプテイカルインテグレーター5を配置すること
によつて、ケラレを防ぐことができる。もし、コ
リメーシヨンレンズが従来のように発散性の凹レ
ンズであるならば、橢円鏡2の開口面bの像b′は
コリメーシヨンレンズの前方に形成されるためケ
ラレを防ぐことはできない。
第4図に示すごとく、コリメーシヨンレンズ4
の焦点距離を、橢円鏡2の開口面bとコリメー
シヨンレンズ4との距離をlとすると、コリメー
シヨンレンズ4と橢円鏡2の開口面bの像b′との
距離dは、周知のごとく、 d=・l/l− と表わされる。
の焦点距離を、橢円鏡2の開口面bとコリメー
シヨンレンズ4との距離をlとすると、コリメー
シヨンレンズ4と橢円鏡2の開口面bの像b′との
距離dは、周知のごとく、 d=・l/l− と表わされる。
上記のように、コリメーシヨンレンズ4に関し
て橢円鏡の開口面と共役な位置に、オプテイカル
インテグレーターを配置することによつてケラレ
をほぼ完全に除くことができるが、橢円鏡による
集光の不均一性が問題となる。すなわち、実際の
橢円鏡による集光系において、コリメーシヨンレ
ンズ4に関して橢円鏡2の開口面bと共役な位置
では、橢円鏡2の開口面bの光量分布を反映して
環状の光量分布となるため、物体面10上への照
明にも不均一性を生じてしまうのである。第5図
はコリメーシヨンレンズ4と橢円鏡の開口面像
b′との間の4ケ所A、B、C、Dにおける光量分
布を示したものである。A、B、C、Dの各位置
における光束断面にそつた光強度は各位置での基
準線x1、x2、x3、x4を零強度とし、左側を高い強
度として示されている。図示のごとく、橢円鏡の
開口面の像b′が形成されるD位置では光強度が中
央部でほとんど零であるが、C位置でいくぶん平
均化され、ほぼ中間のB位置では中央部の強度が
かなり、高まつており、A位置ではほぼ均一にな
つている。このため、オプテイカルインテグレー
ター5はできる限りコリメーシヨンレンズ4に近
づけることが望ましい。しかしながら、光源に大
きさがあるため、コリメーシヨンレンズ4に近い
ほど光束巾は大きくなり、オプテイカルインテグ
レーター5の口径をより大きくする必要が生ず
る。実際にはオプテイカルインテグレーター5を
中間のB位置よりはコリメーシヨンレンズ4に近
い位置に配置することが望ましい。即ち、コリメ
ーシヨンレンズ4とオプテイカルインテグレータ
ー5との距離Dは D<d/2=・l/2(l−) の条件を満足することが望ましい。
て橢円鏡の開口面と共役な位置に、オプテイカル
インテグレーターを配置することによつてケラレ
をほぼ完全に除くことができるが、橢円鏡による
集光の不均一性が問題となる。すなわち、実際の
橢円鏡による集光系において、コリメーシヨンレ
ンズ4に関して橢円鏡2の開口面bと共役な位置
では、橢円鏡2の開口面bの光量分布を反映して
環状の光量分布となるため、物体面10上への照
明にも不均一性を生じてしまうのである。第5図
はコリメーシヨンレンズ4と橢円鏡の開口面像
b′との間の4ケ所A、B、C、Dにおける光量分
布を示したものである。A、B、C、Dの各位置
における光束断面にそつた光強度は各位置での基
準線x1、x2、x3、x4を零強度とし、左側を高い強
度として示されている。図示のごとく、橢円鏡の
開口面の像b′が形成されるD位置では光強度が中
央部でほとんど零であるが、C位置でいくぶん平
均化され、ほぼ中間のB位置では中央部の強度が
かなり、高まつており、A位置ではほぼ均一にな
つている。このため、オプテイカルインテグレー
ター5はできる限りコリメーシヨンレンズ4に近
づけることが望ましい。しかしながら、光源に大
きさがあるため、コリメーシヨンレンズ4に近い
ほど光束巾は大きくなり、オプテイカルインテグ
レーター5の口径をより大きくする必要が生ず
る。実際にはオプテイカルインテグレーター5を
中間のB位置よりはコリメーシヨンレンズ4に近
い位置に配置することが望ましい。即ち、コリメ
ーシヨンレンズ4とオプテイカルインテグレータ
ー5との距離Dは D<d/2=・l/2(l−) の条件を満足することが望ましい。
ここで、前述したとおり、オプテイカルインテ
グレーター5の前側小レンズ11の像が物体面1
0上に形成されるのであるから、オプテイカルイ
ンテグレーターの前側小レンズが楕円鏡開口面像
b′の形成されるD位置にある時に、物体面上での
照明の不均一性が最も著しくなることが明らかで
ある。従つて、上記条件におけるコリメーシヨン
レンズ4とオプテイカルインテグレーター5との
距離Dとは、実用的にはコリメーシヨンレンズ4
とオプテイカルインテグレーターの前側小レンズ
との距離として構成すべきことは言うまでもな
い。
グレーター5の前側小レンズ11の像が物体面1
0上に形成されるのであるから、オプテイカルイ
ンテグレーターの前側小レンズが楕円鏡開口面像
b′の形成されるD位置にある時に、物体面上での
照明の不均一性が最も著しくなることが明らかで
ある。従つて、上記条件におけるコリメーシヨン
レンズ4とオプテイカルインテグレーター5との
距離Dとは、実用的にはコリメーシヨンレンズ4
とオプテイカルインテグレーターの前側小レンズ
との距離として構成すべきことは言うまでもな
い。
上記の条件を外れる場合には、ケラレを防止し
て照明効率を高く維持するには有利となる傾向に
あるものの、オプテイカルインテグレーターの位
置が環状の光量分布となる位置に近づくためオプ
テイカルインテグレーターを用いたとしても照明
ムラが著しくなり、ケラレを防止しつつ同時に均
一な照明を維持することが難しくなる。
て照明効率を高く維持するには有利となる傾向に
あるものの、オプテイカルインテグレーターの位
置が環状の光量分布となる位置に近づくためオプ
テイカルインテグレーターを用いたとしても照明
ムラが著しくなり、ケラレを防止しつつ同時に均
一な照明を維持することが難しくなる。
尚、上記の構成において、絞りの開口径を変え
ることによつてコリメーシヨンハーフアングルを
変えることができるが、第6図aのごとく絞り径
を大きくする時にはコリメーシヨンレンズを焦点
距離の大きなものに、また第6図bのごとく絞り
径を小さくする時には焦点距離の小さなものに交
換することにより、常に損失なく最高の集光効率
を維持することができる。
ることによつてコリメーシヨンハーフアングルを
変えることができるが、第6図aのごとく絞り径
を大きくする時にはコリメーシヨンレンズを焦点
距離の大きなものに、また第6図bのごとく絞り
径を小さくする時には焦点距離の小さなものに交
換することにより、常に損失なく最高の集光効率
を維持することができる。
以上のごとく本発明によれば、マスクによる回
折像の影響を十分に除去しつつ、均一で極めて集
光効率の高いマスク照明光学系が達成された。
折像の影響を十分に除去しつつ、均一で極めて集
光効率の高いマスク照明光学系が達成された。
第1図は本発明における照明光学系の実施例を
示す概略断面図、第2図aはオプテイカルインテ
グレーターの縦断面図、第2図bはその横断面
図、第3図aはオプテイカルインテグレーターの
別の実施例の縦断面図、第3図bはその横断面
図、第4図は橢円鏡の開口面の像がコリメーシヨ
ンレンズの後方距離の位置に形成される説明図、
第5図はコリメーシヨンレンズと橢円鏡の開口面
像との間の4カ所A、B、C、Dにおける光量分
布を示す説明図、第6図aは絞りの開口径を大き
くするときの、第6図bは絞り径を小さくすると
きのコリメーシヨンレンズの種類を示す説明図で
ある。 〔主要部分の符号の説明〕、2…橢円鏡、3…
コールドミラー、4…コリメーシヨンレンズ、5
…オプテイカルインテグレーター。
示す概略断面図、第2図aはオプテイカルインテ
グレーターの縦断面図、第2図bはその横断面
図、第3図aはオプテイカルインテグレーターの
別の実施例の縦断面図、第3図bはその横断面
図、第4図は橢円鏡の開口面の像がコリメーシヨ
ンレンズの後方距離の位置に形成される説明図、
第5図はコリメーシヨンレンズと橢円鏡の開口面
像との間の4カ所A、B、C、Dにおける光量分
布を示す説明図、第6図aは絞りの開口径を大き
くするときの、第6図bは絞り径を小さくすると
きのコリメーシヨンレンズの種類を示す説明図で
ある。 〔主要部分の符号の説明〕、2…橢円鏡、3…
コールドミラー、4…コリメーシヨンレンズ、5
…オプテイカルインテグレーター。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 第1と第2の焦点を持つ楕円鏡と、該楕円鏡
の第1焦点に配置された発光管とを有し、該楕円
鏡の開口面上にて環状の光量分布をもつて前記発
光管からの光束を第2焦点上に集光する光源装置
と、該光源装置からの光束を平行光束に変換する
ための平行光束変換手段と、該平行光束から多数
の2次光源像と該2次光源像による多数光束を形
成するために互いの焦点距離にほほ等しい距離だ
け隔てて配置された前側小レンズ群と後側小レン
ズ群とを有するオプテイカルインテグレーター
と、該オプテイカルインテグレーターからの光束
を物体側へ導くための収斂性レンズとを有する照
明光学系において、 前記平行光束変換手段は前記楕円鏡の第2焦点
の射出光側に配置された収斂性コリメーシヨンレ
ンズであり、該収斂性コリメーシヨンレンズの前
側焦点が前記楕円鏡の第2焦点にほぼ合致するよ
うに配置され、該収斂性コリメーシヨンレンズの
射出光側の平行光束中に配置される前記オプテイ
カルインテグレーターは、前記収斂性コリメーシ
ヨンレンズにより該コリメーシヨンレンズの射出
光側に形成される前記楕円鏡開口面の像位置と該
収斂性コリメーシヨンレンズとの間に配置され、
該コリメーシヨンレンズの焦点距離をf、前記楕
円鏡の開口から該コリメーシヨンレンズまでの距
離をlとするとき、オプテイカルインテグレータ
ーの前側小レンズ群と前記コリメーシヨンレンズ
との距離Dは、 D<f・l/2(l−f) の条件を満たすごとく構成されていることを特徴
とする照明光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15874079A JPS5681813A (en) | 1979-12-08 | 1979-12-08 | Mask lighting optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15874079A JPS5681813A (en) | 1979-12-08 | 1979-12-08 | Mask lighting optical system |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62131848A Division JPS63113412A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | マスク照明光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5681813A JPS5681813A (en) | 1981-07-04 |
| JPS633288B2 true JPS633288B2 (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=15678290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15874079A Granted JPS5681813A (en) | 1979-12-08 | 1979-12-08 | Mask lighting optical system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5681813A (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5850511A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-25 | Mikasa Kk | Icパタ−ン転写装置における照明光学系 |
| JPS5850510A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-25 | Mikasa Kk | Icパタ−ン転写装置における照明光学系 |
| JPS59226317A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 照明装置 |
| US4680579A (en) * | 1983-09-08 | 1987-07-14 | Texas Instruments Incorporated | Optical system for projection display using spatial light modulator device |
| JPS6150917U (ja) * | 1984-09-10 | 1986-04-05 | ||
| JPS6325640A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Oak Seisakusho:Kk | 平行光投射光学系 |
| US4939630A (en) * | 1986-09-09 | 1990-07-03 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus |
| JP2696360B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1998-01-14 | 旭光学工業株式会社 | 照明光学装置 |
| JPH02308106A (ja) * | 1989-05-23 | 1990-12-21 | Citizen Watch Co Ltd | 直線遍光光源 |
| JP2748342B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1998-05-06 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
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-
1979
- 1979-12-08 JP JP15874079A patent/JPS5681813A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5681813A (en) | 1981-07-04 |
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