JPS5850742A - ウエ−ハ洗浄乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、多数枚の半導体ウェーハを収容し回転させ
、洗浄及び遠心脱水し乾燥する半導体ウェーハ洗浄乾燥
装置に関する。

半導体製品の製造工程における歩留りは、ウェーハ処理
工程前のウェーハ表面の清浄度によって大きく影醤され
る。このため、各処理工程前に洗浄乾燥装置によってウ
ェーハ表面のごみや汚れを取除くようにしている。

従来のウェーハ洗浄乾燥装置は、第１図に縦断面図で示
すようになっていた。（１）は上部が開口した円筒状の
洗浄容器で、架台上（図示は略す）に防振支持されてお
り、底部に排気口（２）が設けられである。（３）は支
持わ−＜６）によシ洗浄容器（１）の底部側に支持され
電動機で、回転軸（４）の軸端が上記底部中心を貫通し
上方に出されている０（６）は回転軸（４）の軸端に固
定されていて回転されるぞ一ンテーブルで、上面に取付
座（７）が円周方向に複数箇所等間隔に固着されである
。（８）は各取付座（７）上に固着された回転わくで、
内側に収容部（８ａ）が円周方向に複数箇所等間隔に配
設されていて、背部には排除穴（８ｂ）があけられてい
る。（９）は各収容部（８ａ）にそれぞれ内方からはめ
込み保持された複数の収納用具で、多数段の半径方向の
保持みぞ（９ａ）にそれぞれウェーハ〇〇が上下のすき
間をあけ差込み収容されてあシ、背部には排除穴（９ｂ
）がめけられている。（川は洗浄容器（１）上にバ・ツ
キン０１を介しかぶせられたふた、霞はこのふたの下面
中央に取付けられ下方に出され、回転わく（８）の中心
部に位置するノズル取付棒で、複数のノズル−が固着さ
れ、流通穴（１３ａ）がこれらのノズルに連通している
。（Ｉ＠は外方からふた（ｌｌ）に入シ流通大（１３ａ
　）に接続された連結管である。

上記従来の装置によるウェーハαＱの洗浄乾燥は、次の
ようにしていた。まず、電動機（３）によりターンテー
ブル（６）を低速回転し、各ノズルＨから洗浄液を噴射
させる。この噴射された洗浄液によシ各ウェーハＱＯは
洗浄されながら回転される。洗浄が終ると、電動機（３
）によシターンテーブル（６）　ｔ−高速回転し、ウェ
ーハＱＱの表面に付着している洗浄液を遠心力によシ外
方に飛散させると同時に、ノズル０４）から乾燥ガスを
吹出し、ウェーハ０１表面を乾燥させる。このとき、飛
散された洗浄液は乾燥ガスと混合”して霧状となり、洗
浄容器（１）の底部の排気口（２）から排出される。

しかしながら、従来の装置では、ノズル（１４）から噴
出した乾燥ガスは、ウェーハ０１部を通シ背後の洗浄容
器（１）内壁に沿って流れるが、高速回転するターンテ
ーブル（４）と回転わく（８）及び収納用具（９）のフ
ァン作用によシ旋回しながら大部分は排気口（２）から
排出されるが、一部は矢印Ａに示すよう・に、上向きの
流れとなってふた（ＩＩ）の内面に沿って循環する。こ
のため、洗浄容器（１）の側板（ｌａ）内面やふた（８
）に付着し汚染した洗浄液が、霧状となって循環し、洗
浄されたウェーハ（１０表面に再付着して汚染していた
。

この発明は、洗浄容器の側板内方にターンテーブル側の
回転わくの外円周を囲った円筒状のフィルタを設け、回
転わ〈Ｋ保持したウェーハ収納用具側からの洗浄液の霧
状混合気を上記フィルタに通し、外部に設は大排気ファ
ンによシ洗浄容器から強制排気し、ウェーハの再汚染を
防止し、洗浄効果を高め、歩留シを向上したウェーハ洗
浄乾燥装置を提供することを目的としている。

第２図はこの発明の一実施例にょるつ・エーハ洗浄装置
゛の縦断面図で、（３Ｌ（６）　〜ＱＱ　−０２！Ｊ”
”　（Ｉ＠−（８’ａ）　＊（８ｂ）＊（９ａ）、（９
ｂ）は上記従来装置と同一のものである。

Ｑυは上記が開口した洗浄容器で、筒状の側板（２１ａ
）の下部に底板（２１１））が設けられである。（イ）
は洗浄層■ル内下方に設けられた仕切板、翰は底板（ａ
ｌｂ）の排水口（財）に接続され洗浄液を排出する排水
管、（ハ）は底板（２ｘｂ）上に配設され末端が排水口
ｅ４＠に至る導出管、に）は仕切板■に立て方向に取付
けられ、導出管（ハ）に連通ずる連通管で、それぞれ円
周方向に複数木兄が接続されてあり、流下する洗浄液を
下方に導く。底板（２１ｂ）には支持わく四を介し電動
機（３）が支持されておシ、電動機の回転軸−〇軸端が
底板（２１ｂ）部を貫通し、ターンチー　プル（６）を
固定している０…は側板（２１ａ）に設けられた複数の
排出口で、排出管ＣＩ、に）が接続されである。

■はこれらの排出管に接続された排気ファ・ン、（至）
は回転わく（８）の外円周をすき間をあけて囲い、洗浄
容器（財）の側板（２１ａ）内面に沿ってすきまをあけ
て配設され、仕切板■上に固定鐸れた円筒状のフィルタ
で、洗浄液を捕集し下方に流下させる。（至）はパツキ
ンＨ）を介し洗浄容器ψυ上にかぶせられたふたで、パ
ツキンに）を介しフィルターとのすき間をふさいでおシ
、下面中央にはノズル取付棒（１１を取付けである。上
記排水管−の下端は要すればＵ字状曲〕管に接続し、排
気ファン（至）による吸込みを防ぐ。

上記一実施例の装置によるウェーハＱｔ１の洗浄乾燥は
、上記従来装置と同様の手順で行う。まず、ターンテー
ブル（６）を低速で回転し、同時に各ノズルＨから洗浄
液を噴射させる。各ウェーハαＱは回転されながら洗浄
液によシ均等に洗浄される。このとき、排気ファン（至
）が回転されておシ、各ウェーハ四部を通った洗浄液は
、フィルタ■を通り大部分は捕集され、残シは霧状とな
シ排出口■から排出管６］）、に）を経て排気ファンに
）Ｋよシ強制排出される０次に、ウェーハαりの洗浄が
終ると、各ノズル瑣から乾燥ガスが噴出され、同時にタ
ーンテーブル（６）が高速回転され、ウェーハＱＱ　、
収納用具（９）及び回転わく（８）に付着していた残留
洗浄液が遠心力により吹飛ばされるとともに、乾燥ガス
により乾燥され・る。このとき吹飛ばされた残留洗浄液
は乾燥ガスにより霧状混合気となりフィルタ（至）を通
り、排気ファン（至）により強制排出される。

以上のように、この発明によれば、洗浄容器内に回転わ
くの外円周を囲い、それぞれ双方にすき間をあけて円筒
状フィルタを配設し、洗浄容器の側板に設けた排出口に
排気ファンを接続したので、ウェーハ側に付着残留して
いた洗浄液が、高速回転と乾燥ガスの噴出によシ霧状混
合気となり、フィルタ５を通シ排出口から強制排出され
、従来のように回転わくと洗浄容器の側板とのすき間を
旋回することがなく、ウェーハの再汚染が防止され、洗
浄効果を高め、次工程での歩留シが向上される６

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のウェーハ洗浄乾燥装置の縦断面図、第２
図はこの発明の一実施例によるウェーハ洗浄乾燥装置の
縦断面図である。 ３・・・電動機、６・・・ターンテーブル、８・・・回
転わく、９・・・収納用具、１０・・・ウェーハ、１３
・・・ノズル取付棒、１４・・・ノズル、２１・・・洗
浄容器、２１ａ−・・側板、３０・・・排出口、３Ｌ３
２・・・排出管、３３・・・排気ファン、３４・・・フ
ィルタ、３５・・・ふた−なお、図中同一符号は同−又
は相当部分を示す。 代理人　葛野信−（外１名） 手続補正書（自発） 昭和６７年１．４１　日 特許庁長官殿 １、事件の表示　　　　特願昭ａｓ−ｘｓｏｓｔａ号と
２、発明の名称　　　　ウェーハ洗浄乾燥穀量３、補正
をする者 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 ６、補正の内容 （１）・明細書第２ページ第１６行の「支持され」を「
支持された」に補正する。 （２）　　明細書第４ページ第９２行の「ターンテーブ
ル（４）」を「ターンテーブル・＋６１　Ｊ　Ｋ補正す
る。 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 円筒状をなし開口した゛上部にふた゛がかぶせられた洗
   浄容器と、この洗浄容器内の下方に配設され回転される
   ターンテーブル上に゛固着された回転わくと、仁の回転
   わくに円周方向に対し等間隔に保持され、それぞれ多数
   枚のウェーハを上下のすき間をあけて収容した複数の収
   納用具と、上記ふたの下面中央に取付けられ側部に複数
   のノズルが設けられ、上記回転わくの軸中心に位置して
   おシ、上記各ノズルから洗浄液を噴射させ、後、乾燥ガ
   スを噴出させるためのノズル取付棒と、円筒状をなし上
   記回転わくの外円周をすき間□をあけて囲い、上記洗浄
   容器側板内周にすき間をあけて配設されフィルタと、上
   記洗浄容器側板に設けられた複数の排出口に接続され、
   側板内方−の洗浄液の霧状混合気を強制排出する外部の
   排気ファンとを備えた゛イエーノ・洗浄乾燥装置。