JPS5851447A - 投写型陰極線管 - Google Patents
投写型陰極線管Info
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- JPS5851447A JPS5851447A JP14951381A JP14951381A JPS5851447A JP S5851447 A JPS5851447 A JP S5851447A JP 14951381 A JP14951381 A JP 14951381A JP 14951381 A JP14951381 A JP 14951381A JP S5851447 A JPS5851447 A JP S5851447A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- faceplate
- ray tube
- projection
- face plate
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/894—Arrangements combined with the vessel for the purpose of image projection on a screen
Landscapes
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は投写型陰極線管に係り、特にフェースプレート
外面に導電部材からなる有孔マスクを配設し、この有孔
マスクによりフェースプレート外面の帯電圧よる産後の
吸着およびフェースプレートの温度上昇を抑制すると共
和、この有孔マスクの投写画像に与える遮光むらを軽減
して、均一な画質を得ることが可能な投写ll隘極纏管
に@するものである。
外面に導電部材からなる有孔マスクを配設し、この有孔
マスクによりフェースプレート外面の帯電圧よる産後の
吸着およびフェースプレートの温度上昇を抑制すると共
和、この有孔マスクの投写画像に与える遮光むらを軽減
して、均一な画質を得ることが可能な投写ll隘極纏管
に@するものである。
一般に屈折式光学系により、投写画像を得るようになさ
れた投写に使用される投写型陰極線管はフェースプレー
ト内面Km着形成された螢光面の有効面対角長が100
〜200 tm程度の小型であるが、螢光面の入力−電
力は0.05〜0.10W/cs/と大きく、通常のカ
ラーテレビジョン用カラー陰極線管に比較して約10倍
以上の入力を必要としている。
れた投写に使用される投写型陰極線管はフェースプレー
ト内面Km着形成された螢光面の有効面対角長が100
〜200 tm程度の小型であるが、螢光面の入力−電
力は0.05〜0.10W/cs/と大きく、通常のカ
ラーテレビジョン用カラー陰極線管に比較して約10倍
以上の入力を必要としている。
次に投写型陰極線管を含む投写光学系の基本要素を第1
図により説明する。
図により説明する。
即ち投写型陰極線管(1)の陽極端子に25〜3QKV
@度の加速電圧(5)を加え、またベース側より外部信
号(2)Kより変調を加えた図示しない電子ビームを所
定の偏向装置によりフェースプレート(l、)の内厘に
被着形成されえ螢光面に当て、この螢光面に高輝度画倫
が描かれ、この高輝度画像を光学レンズ(3)によりス
クリーンIN (4)上に投写する。図において偽)は
投写光学系の中心軸であるが本発明では光軸と云う。ま
九(6)は投写光学系の有効光の最外側光線を示し、以
下の説明における周辺部とは、この最外側光線に近い投
写光角を持つ部分を示す。
@度の加速電圧(5)を加え、またベース側より外部信
号(2)Kより変調を加えた図示しない電子ビームを所
定の偏向装置によりフェースプレート(l、)の内厘に
被着形成されえ螢光面に当て、この螢光面に高輝度画倫
が描かれ、この高輝度画像を光学レンズ(3)によりス
クリーンIN (4)上に投写する。図において偽)は
投写光学系の中心軸であるが本発明では光軸と云う。ま
九(6)は投写光学系の有効光の最外側光線を示し、以
下の説明における周辺部とは、この最外側光線に近い投
写光角を持つ部分を示す。
前述の様に投写11陰極纏管(すの陽極端子に25〜3
0KV@[の加速電圧を加え螢光面の人力電力は0.0
5〜0.10 W/atと大き匹ため、フェースプレー
ト(II)外面の帯電による塵凌の吸着が多くな)輝度
が減少し、スクリーン面(4)上の画質の鮮鋭度を悪く
する@を九フェースプレー) (1,)の温度上昇が大
となシ、この温度上昇により、フェースプレー) (1
+)K l 5ツクが入ったシ、またフェースプレ)
(L)内面に被着形成された螢光面の発光輝度を下げた
に螢光面そのものを劣化するととになる。
0KV@[の加速電圧を加え螢光面の人力電力は0.0
5〜0.10 W/atと大き匹ため、フェースプレー
ト(II)外面の帯電による塵凌の吸着が多くな)輝度
が減少し、スクリーン面(4)上の画質の鮮鋭度を悪く
する@を九フェースプレー) (1,)の温度上昇が大
となシ、この温度上昇により、フェースプレー) (1
+)K l 5ツクが入ったシ、またフェースプレ)
(L)内面に被着形成された螢光面の発光輝度を下げた
に螢光面そのものを劣化するととになる。
この様な現象を防止するため、フェースプレー) (1
1)を無塵空気によシ強制的に冷却したり、水冷し九り
する構造が種々考案されているが、bずれも一長一短が
あり、金砂効果的でない。
1)を無塵空気によシ強制的に冷却したり、水冷し九り
する構造が種々考案されているが、bずれも一長一短が
あり、金砂効果的でない。
この対策として本発明者らは先にフェースプレート外面
にメツシュ状またはすだれ状の導電部材からなる有孔マ
スクを配役し九投写型陰極纏管を出願した。
にメツシュ状またはすだれ状の導電部材からなる有孔マ
スクを配役し九投写型陰極纏管を出願した。
次にこの発明の応用例を第2図乃至第4図により説明す
る。
る。
即ち1投写履陰極線管Qlはフェースプレート(lit
) 、:yアンネルαコ及びネック(13からなる真空
外囲器と、このフェースプレート(tt、) o内mK
被着形成された螢光11Q4及びメタルバック層αSと
、ネックα3内に装着された電子銃alGと、フェース
プV −) (111)の外mK接し丸棒(In及びこ
の枠αηと一体形成された導電性部材例えば金属からな
るすだれ状または格子状の有、孔マスク舖と、この有孔
マスターを介してフェースプレー) (111) K透
明レジンalKより取着されたカバーガラス(至)とか
ら構成されている。このように導電性部材からなる有孔
マスクastフェースプレート(11,)の外面に密接
させることにより、例えば枠aηに所定の電位を印加す
るととによりカバーガラス121またはカバーガラス(
至)がな−ときはフェースプレー) (111)の外m
K帯電による塵唆の吸着が皆無となるし、また枠Q1ま
たは枠−に図示しなり放熱体などを取着することによ)
フェースプレー) (tt*) Ofi度上昇を抑制す
ることが可能である。
) 、:yアンネルαコ及びネック(13からなる真空
外囲器と、このフェースプレート(tt、) o内mK
被着形成された螢光11Q4及びメタルバック層αSと
、ネックα3内に装着された電子銃alGと、フェース
プV −) (111)の外mK接し丸棒(In及びこ
の枠αηと一体形成された導電性部材例えば金属からな
るすだれ状または格子状の有、孔マスク舖と、この有孔
マスターを介してフェースプレー) (111) K透
明レジンalKより取着されたカバーガラス(至)とか
ら構成されている。このように導電性部材からなる有孔
マスクastフェースプレート(11,)の外面に密接
させることにより、例えば枠aηに所定の電位を印加す
るととによりカバーガラス121またはカバーガラス(
至)がな−ときはフェースプレー) (111)の外m
K帯電による塵唆の吸着が皆無となるし、また枠Q1ま
たは枠−に図示しなり放熱体などを取着することによ)
フェースプレー) (tt*) Ofi度上昇を抑制す
ることが可能である。
曽遮の投写型陰極線管Ql)において、フェースプレー
) (l1m)の温度上昇全効果的に抑制する丸めKは
有孔マスターを構成する導電部材(18,)の断面積を
大きくしなければならず、このように導電部材(t8t
)の断面積を大きくする丸めには断面を円形にすると螢
光面(1番に描かれる高輝度画面の層蔽面積が多くな抄
、スクリーン面(4)上の画像の明るさ、画質などの品
位が悪くなるため必然的に図に示すように所定の厚さを
有するほぼ長方形の断面を有する導電部材にすることk
なる。
) (l1m)の温度上昇全効果的に抑制する丸めKは
有孔マスターを構成する導電部材(18,)の断面積を
大きくしなければならず、このように導電部材(t8t
)の断面積を大きくする丸めには断面を円形にすると螢
光面(1番に描かれる高輝度画面の層蔽面積が多くな抄
、スクリーン面(4)上の画像の明るさ、画質などの品
位が悪くなるため必然的に図に示すように所定の厚さを
有するほぼ長方形の断面を有する導電部材にすることk
なる。
然るに、有孔マスク舖を構成する導電部#(1&)の断
面を光軸(ZI K平行な側面を有する長方形にすると
、第1図及び第4図に示すように投写型陰極線管の螢光
面上に描かれた高輝度の画像からの2光線の最外側光線
16)を中心として光学レンズ(3)の有効径できまる
範囲しか有効とならない。即ち、例えば第4図に示すよ
うに螢光面040周縁部の螢光体(14,)から出る拡
散光線の中で投写光学系例えば111図で有効に集光さ
れる角f t (#)とし、長方形の導電部# (18
+) Kよシ履光される遮光角を(ψ)とすると、この
螢光体(14*)から出る有効な拡散光線は(e−?)
で示されるので螢光面a壷上の高輝度の−g/ltスク
リーン面(4)に投写し九場合、周辺部0画像が暗くな
る問題点がある。例えば螢光面I4の有効対角径がフイ
ンチ権度の投写型陰極線管を有効レンズ直径150m、
Fl、0の光学レンズによ)投写する場合、正六角形の
透孔部を有孔マスクを用^ると、第5図に示すようにス
クリーン面(4)の隅部の平方線で示す部位(4宜)で
数優台の光むらが生じる。
面を光軸(ZI K平行な側面を有する長方形にすると
、第1図及び第4図に示すように投写型陰極線管の螢光
面上に描かれた高輝度の画像からの2光線の最外側光線
16)を中心として光学レンズ(3)の有効径できまる
範囲しか有効とならない。即ち、例えば第4図に示すよ
うに螢光面040周縁部の螢光体(14,)から出る拡
散光線の中で投写光学系例えば111図で有効に集光さ
れる角f t (#)とし、長方形の導電部# (18
+) Kよシ履光される遮光角を(ψ)とすると、この
螢光体(14*)から出る有効な拡散光線は(e−?)
で示されるので螢光面a壷上の高輝度の−g/ltスク
リーン面(4)に投写し九場合、周辺部0画像が暗くな
る問題点がある。例えば螢光面I4の有効対角径がフイ
ンチ権度の投写型陰極線管を有効レンズ直径150m、
Fl、0の光学レンズによ)投写する場合、正六角形の
透孔部を有孔マスクを用^ると、第5図に示すようにス
クリーン面(4)の隅部の平方線で示す部位(4宜)で
数優台の光むらが生じる。
即ち螢光■a着の周辺部では投写画偉上で遮光角率1が
増加し、それによる光むらが視覚的に無視できな匹品位
の劣化をもたらす。、これに対し有孔マスクO尋を構成
する導電部材(ts、)の断lIN形状は熱伝導特性を
確保するために、フェースプレー) (111)の厚さ
を可能な限り厚くする必要があ)、また一方、光和用率
を極力落さないためKはフェースプレー) (lld
K:対設する幅は小さく設定しなければならな匹。例え
ば上述またフインチ形の投写型陰極線管での有孔マスク
の設計例としては、厚み10G−150μm幅50μm
11度として正六角形で配列ピッチ寸法が1〜1.5J
I11が実用的となる。
増加し、それによる光むらが視覚的に無視できな匹品位
の劣化をもたらす。、これに対し有孔マスクO尋を構成
する導電部材(ts、)の断lIN形状は熱伝導特性を
確保するために、フェースプレー) (111)の厚さ
を可能な限り厚くする必要があ)、また一方、光和用率
を極力落さないためKはフェースプレー) (lld
K:対設する幅は小さく設定しなければならな匹。例え
ば上述またフインチ形の投写型陰極線管での有孔マスク
の設計例としては、厚み10G−150μm幅50μm
11度として正六角形で配列ピッチ寸法が1〜1.5J
I11が実用的となる。
このような設計において第4図に示し九遮光角率tp/
eはフェースプレート中心からの距離をrとするとf/
θ=kt−rn の関係を持つ。
eはフェースプレート中心からの距離をrとするとf/
θ=kt−rn の関係を持つ。
ここでkは比例定数、tは有孔マスクの厚さnはn〉1
の数である。即ち、半径rが増すKっれて有孔マスクの
厚み分による層光分が増加し、投写画像上に固定パター
ンとしての光むらが現れる。
の数である。即ち、半径rが増すKっれて有孔マスクの
厚み分による層光分が増加し、投写画像上に固定パター
ンとしての光むらが現れる。
そしてこの光むらはレンズの特性に%左右されるが、微
弱な光むらとは云え固定し九むらであるため、特に均一
性の高い画1の場合には視覚的に問題になる場合が多い
。
弱な光むらとは云え固定し九むらであるため、特に均一
性の高い画1の場合には視覚的に問題になる場合が多い
。
本発明は前述した問題点に鑑みなされ九ものであり、有
孔マスクをフェースプレート外@に設けてもとの有孔マ
スクによる投写儂上に生じる固定パターンとしての光む
らがほとんど発生することがない投写11陰極線管を提
供することを目的として匹る。
孔マスクをフェースプレート外@に設けてもとの有孔マ
スクによる投写儂上に生じる固定パターンとしての光む
らがほとんど発生することがない投写11陰極線管を提
供することを目的として匹る。
次に本発明の投写゛型陰極線の一実施例t−wS図乃全
第7図により説明する。
第7図により説明する。
即ち、投写W陰極線管(ハ)はフェースプレート(21
1) 、ファンネル@及びネック(至)からなる真空外
11と、この7エースプレート(21,)の内面に被着
形成された螢光#1I24及びメタルバック層(至)と
、ネック(2)内#/c11着され九電子銃(至)と、
フェースプL/ )(llI)の外画に接した枠■及
びこの枠と一体形成された導電性部材例えば金属からな
るすだれ状または格子状の有孔マスク(至)と、この有
孔マスク(2)を介してフェースプレート(21,)に
透明レジン@(より取着されたカバーガラス(至)とか
ら構成され、導電性部材からなる有孔マスク@をフェー
スプレー) (21,)の外面に密接させるととにより
例えば枠(2)K所定の電位を印加することによりカバ
ーガラス(至)!友はカバーガラス(至)がないときは
、フェースプレート(211)の外面に帯電による塵唆
の吸着が皆無となるし、また枠(2)または枠(5)に
図示しない放熱体などを取着することにょシフエースプ
レート(211)の温度上昇を抑制することが可能とな
っているのは先願のものとほぼ同様であるが、本実施例
においては第7図及び188図に示すように有孔マスク
(至)を構成する導電部材(281)を先願の長方形、
即ち、フェースプレー) (2]、)と長方形の側面の
なす角が直角なものに対し、光軸IZ)近傍では長方形
であるが光軸(Zlよ)螢光面■の周辺部に行くに従っ
てフェースプレート(21,)と光軸(Zl側の側面(
28a)とのなす角(至)を次第に鋭角となるよう費形
に形成して論ることを特歇としている。この角いは第8
図に示すように投写光学系で有効に集光される角度を(
−)とし導電部材(ist)Kよプ層光される遮光角を
(デ)とした場合履光角率デAが最小となるようにきめ
るべきであり、これは投写光学系の例えば光学レンズの
有孔レンズ直径、焦点距離、投写111I!極線管の有
効対角径などKよりsなってくることは勿論である。
1) 、ファンネル@及びネック(至)からなる真空外
11と、この7エースプレート(21,)の内面に被着
形成された螢光#1I24及びメタルバック層(至)と
、ネック(2)内#/c11着され九電子銃(至)と、
フェースプL/ )(llI)の外画に接した枠■及
びこの枠と一体形成された導電性部材例えば金属からな
るすだれ状または格子状の有孔マスク(至)と、この有
孔マスク(2)を介してフェースプレート(21,)に
透明レジン@(より取着されたカバーガラス(至)とか
ら構成され、導電性部材からなる有孔マスク@をフェー
スプレー) (21,)の外面に密接させるととにより
例えば枠(2)K所定の電位を印加することによりカバ
ーガラス(至)!友はカバーガラス(至)がないときは
、フェースプレート(211)の外面に帯電による塵唆
の吸着が皆無となるし、また枠(2)または枠(5)に
図示しない放熱体などを取着することにょシフエースプ
レート(211)の温度上昇を抑制することが可能とな
っているのは先願のものとほぼ同様であるが、本実施例
においては第7図及び188図に示すように有孔マスク
(至)を構成する導電部材(281)を先願の長方形、
即ち、フェースプレー) (2]、)と長方形の側面の
なす角が直角なものに対し、光軸IZ)近傍では長方形
であるが光軸(Zlよ)螢光面■の周辺部に行くに従っ
てフェースプレート(21,)と光軸(Zl側の側面(
28a)とのなす角(至)を次第に鋭角となるよう費形
に形成して論ることを特歇としている。この角いは第8
図に示すように投写光学系で有効に集光される角度を(
−)とし導電部材(ist)Kよプ層光される遮光角を
(デ)とした場合履光角率デAが最小となるようにきめ
るべきであり、これは投写光学系の例えば光学レンズの
有孔レンズ直径、焦点距離、投写111I!極線管の有
効対角径などKよりsなってくることは勿論である。
上述のように有孔マスク(至)を構成する導電部材(2
81)の断面の光軸(Z)側の側@(28m)とフェー
スプレー) (21,)とのなす角vQtII光角率ψ
lが小となるように形成することにより螢光面上(橘か
れる高輝fQiii*’を凸レンズなどの光学系によ)
スクリーン画に投写しても投写画像上で有孔マスク@を
形成する導電部材(281) Kよって発生する光むら
がほぼ無くなり品位の良好な投写画像が得られることに
なる。
81)の断面の光軸(Z)側の側@(28m)とフェー
スプレー) (21,)とのなす角vQtII光角率ψ
lが小となるように形成することにより螢光面上(橘か
れる高輝fQiii*’を凸レンズなどの光学系によ)
スクリーン画に投写しても投写画像上で有孔マスク@を
形成する導電部材(281) Kよって発生する光むら
がほぼ無くなり品位の良好な投写画像が得られることに
なる。
次に具体例を説明すると、フインチの投写mm極纏管の
場合フェースプレートの中心即ち光軸(Z)よ〉半径0
〜30m+の範囲では実用的にβ=90°でよ−が、半
径40■以上では使用する光学レンズの特性も加味し九
に)値を半径との関係で決定すればよ−。ま九有孔マス
ク(2)をエツチング方法で作る場合、実現可能な(イ
)はせいぜ込50°以上であシ、実用的には半径75g
m0前述したフインチ投写型陰極線管の有効対角の最外
側で50@〜60’台の(イ)を確保するととくより視
覚的に問題のない投写画像を得ることが可能であつ九。
場合フェースプレートの中心即ち光軸(Z)よ〉半径0
〜30m+の範囲では実用的にβ=90°でよ−が、半
径40■以上では使用する光学レンズの特性も加味し九
に)値を半径との関係で決定すればよ−。ま九有孔マス
ク(2)をエツチング方法で作る場合、実現可能な(イ
)はせいぜ込50°以上であシ、実用的には半径75g
m0前述したフインチ投写型陰極線管の有効対角の最外
側で50@〜60’台の(イ)を確保するととくより視
覚的に問題のない投写画像を得ることが可能であつ九。
但しこの場合、導電部材(281)は厚み10G−15
0μ+n @ 50prn 8度として正六角彫の透孔
部を配列ピッチ寸法1〜1.5鵡とし丸。
0μ+n @ 50prn 8度として正六角彫の透孔
部を配列ピッチ寸法1〜1.5鵡とし丸。
上述のように本発明の投写型陰極線管は簡単な構造であ
シながらフェースプレート外面の帯電による塵凌の吸着
やフェースプレートの温度上昇を抑制すると共に高品位
の投写画at−得ることが可能であり、その工業的価値
は極めて大である。
シながらフェースプレート外面の帯電による塵凌の吸着
やフェースプレートの温度上昇を抑制すると共に高品位
の投写画at−得ることが可能であり、その工業的価値
は極めて大である。
181図は投写型陽極線管を含む投写光学系を示す説明
図、!J2図乃至第4図は先願の投写m陰極線管の応用
例を示す図であり、第2図は一部切欠側面図、@3図は
要部拡大断面図、第4図は有孔マスクを形成する導電部
材と遮光角率を示す説明図、@5図は第2図の投写m陰
極線管によるスクリーン面上O光むらを示す平面図、第
6図乃至第8図は本発明の投写型陰極線管の一実施例を
示す図であゆ、第6図は一部切欠側面図、第7図は要部
拡大断面図、第8図は有孔マスクを形成する導電部材と
遮光角率を示す説明図である。 1.11.21 投写型陰極線管 11.11+、211 フェースプレート14.24
螢光面 18.18..28,28. ・導屯部材代理人 弁
理士 井 上 −男 第1図 第4図 ム 第 6 図 第 7 図 tω
図、!J2図乃至第4図は先願の投写m陰極線管の応用
例を示す図であり、第2図は一部切欠側面図、@3図は
要部拡大断面図、第4図は有孔マスクを形成する導電部
材と遮光角率を示す説明図、@5図は第2図の投写m陰
極線管によるスクリーン面上O光むらを示す平面図、第
6図乃至第8図は本発明の投写型陰極線管の一実施例を
示す図であゆ、第6図は一部切欠側面図、第7図は要部
拡大断面図、第8図は有孔マスクを形成する導電部材と
遮光角率を示す説明図である。 1.11.21 投写型陰極線管 11.11+、211 フェースプレート14.24
螢光面 18.18..28,28. ・導屯部材代理人 弁
理士 井 上 −男 第1図 第4図 ム 第 6 図 第 7 図 tω
Claims (1)
- フェースプレートの外面に有孔マスクを配設し、前記有
孔マスクを構成する導電部材の断面の光軸側の@面と前
記フェースプレートとのなす角を前記導電部材による遮
光角率が小となるように形成されてなることを特徴とす
る投写型陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14951381A JPS5851447A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 投写型陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14951381A JPS5851447A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 投写型陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5851447A true JPS5851447A (ja) | 1983-03-26 |
Family
ID=15476779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14951381A Pending JPS5851447A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 投写型陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5851447A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60254890A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-16 | Mitsubishi Electric Corp | 投写型テレビジヨンの光学装置 |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP14951381A patent/JPS5851447A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60254890A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-16 | Mitsubishi Electric Corp | 投写型テレビジヨンの光学装置 |
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