JPS5852997B2 - ７− チカン −３− ヒドロキシアルキルチカンフクソカンチオメチル −３− セフエム −４− カルボンサンルイノ セイゾウホウ - Google Patents
７− チカン −３− ヒドロキシアルキルチカンフクソカンチオメチル −３− セフエム −４− カルボンサンルイノ セイゾウホウInfo
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- JPS5852997B2 JPS5852997B2 JP48073898A JP7389873A JPS5852997B2 JP S5852997 B2 JPS5852997 B2 JP S5852997B2 JP 48073898 A JP48073898 A JP 48073898A JP 7389873 A JP7389873 A JP 7389873A JP S5852997 B2 JPS5852997 B2 JP S5852997B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新規な７−置換−３−ヒドロキシアルキル置
換複素環チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸類
の製造法に関するものであり、これを式で示すと次の通
りである。
換複素環チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸類
の製造法に関するものであり、これを式で示すと次の通
りである。
（式中、Ｒ１はアミノ基、チェニル（低級）アルカノイ
ルアミノ基、テトラゾリル（低級）アルカノイルアミノ
基または低級アルキルチオ（低級）アルカノイルアミノ
基、Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキルで置換されたチ
アジアゾリルチオ基、Ｘはアシルオキシ基をそれぞれ意
味する） この発明の方法は化合物（Ｉ）またはその塩類にチオー
ル類（ＩＩ）またはそのメルカプト基におけるアルカリ
金属置換体を作用させることにより行なわれる。
ルアミノ基、テトラゾリル（低級）アルカノイルアミノ
基または低級アルキルチオ（低級）アルカノイルアミノ
基、Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキルで置換されたチ
アジアゾリルチオ基、Ｘはアシルオキシ基をそれぞれ意
味する） この発明の方法は化合物（Ｉ）またはその塩類にチオー
ル類（ＩＩ）またはそのメルカプト基におけるアルカリ
金属置換体を作用させることにより行なわれる。
化合物（Ｉ）は前記の一般式（１）で表わされるが、さ
らに詳細にはアミノ基、チェニル（低級）フルカッイル
アミノ基、テトラゾリル（低級）アルカノイルアミノ基
または低級アルキルチオ（低級）アルカノイルアミノ基
をＲ１として有し、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ベンゾイルオキシ等
のアシルオキシ基をＸとして有する化合物を意味し、Ｒ
１のチェニル（低級）アルカノイルアミノ基、テトラゾ
リル（低級）アルカノイルアミノ基または低級アルキル
チオ（低級）アルカノイルアミノ基における低級アルカ
ノイル基としては、例えばアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、ピバ
ロイル、ヘキサノイル等が挙げられ、また、低級アルキ
ルチオ（低級）アルカノイルアミノ基における低級アル
キルチオ基としてはメチルチオ基が挙げられる。
らに詳細にはアミノ基、チェニル（低級）フルカッイル
アミノ基、テトラゾリル（低級）アルカノイルアミノ基
または低級アルキルチオ（低級）アルカノイルアミノ基
をＲ１として有し、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ベンゾイルオキシ等
のアシルオキシ基をＸとして有する化合物を意味し、Ｒ
１のチェニル（低級）アルカノイルアミノ基、テトラゾ
リル（低級）アルカノイルアミノ基または低級アルキル
チオ（低級）アルカノイルアミノ基における低級アルカ
ノイル基としては、例えばアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、ピバ
ロイル、ヘキサノイル等が挙げられ、また、低級アルキ
ルチオ（低級）アルカノイルアミノ基における低級アル
キルチオ基としてはメチルチオ基が挙げられる。
もう一方の原料であるチオール類は前記の一般式（Ｉ）
で示されるが、さらに詳細には１ 、２ 、４−チアジ
アゾリル、１，２．５−チアジアゾリル、１．３，４−
チアジアゾリル等のチアジアゾリル基をＲ２として有す
る化合物を意味し、Ｒ２のチアジアゾリル基はヒドロキ
シメチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル
、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル、５−
ヒドロキシペンチル等のヒドロキシ（低級）アルキル基
で置換されているものとする。
で示されるが、さらに詳細には１ 、２ 、４−チアジ
アゾリル、１，２．５−チアジアゾリル、１．３，４−
チアジアゾリル等のチアジアゾリル基をＲ２として有す
る化合物を意味し、Ｒ２のチアジアゾリル基はヒドロキ
シメチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル
、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル、５−
ヒドロキシペンチル等のヒドロキシ（低級）アルキル基
で置換されているものとする。
そしてチオール類（ＩＩ）のメルカプト基におけるアル
カリ金属置換体としては、メルカプト基の水素原子がナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属原子で置換された
化合物が挙げられる。
カリ金属置換体としては、メルカプト基の水素原子がナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属原子で置換された
化合物が挙げられる。
この発明の反応は通常、溶媒中で行なわれる。
溶媒としてはアセトン、クロロホルム、ニトロベンゼン
、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、ジ
メチルスルホキサイドまたはその他の反応に関与しない
一般有機溶媒および水があげられるが、極性の強い溶媒
が望ましい。
、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、ジ
メチルスルホキサイドまたはその他の反応に関与しない
一般有機溶媒および水があげられるが、極性の強い溶媒
が望ましい。
これらのうち、親水性の溶媒は水と混合して使用するこ
とができる。
とができる。
この発明の反応は中性付近で行なうのが望ましく、また
化合物（Ｉ）またはチオール類（ｎ）を遊離の状態で使
用する場合には水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属
、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン等の塩基
の存在下に行なうのが望ましい。
化合物（Ｉ）またはチオール類（ｎ）を遊離の状態で使
用する場合には水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属
、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン等の塩基
の存在下に行なうのが望ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常室温で、もしくは
加温しながら行なわれることが多い。
加温しながら行なわれることが多い。
反応生成物は常法により抽出分離採取される。
なお、この反応において原料として使用する化合物（Ｉ
）のＲ１がアミノ基であるときには、これらの遊離のア
ミン基を通常のアミノ保護基で保護したものを原料とし
て用いて上記の反応を行なってもよい。
）のＲ１がアミノ基であるときには、これらの遊離のア
ミン基を通常のアミノ保護基で保護したものを原料とし
て用いて上記の反応を行なってもよい。
そして、この場合には次いで必要に応じて、反応生成物
をアミノ保護基の脱離反応に付してもよく、この場合も
この発明に含まれるものとする。
をアミノ保護基の脱離反応に付してもよく、この場合も
この発明に含まれるものとする。
目的物質である７−置換−３−ヒドロキシアルキル置換
Ｎ、Ｓ含有複素環チオメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸類（ト）は常法に従ってアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩等、さらには有機塩基、たとえばトリエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン等との塩類に導くことが
できる。
Ｎ、Ｓ含有複素環チオメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸類（ト）は常法に従ってアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩等、さらには有機塩基、たとえばトリエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン等との塩類に導くことが
できる。
この発明の方法で使用する化合物（Ｉ）および生成する
７−置換−３−ヒドロキシアルキル置換Ｎ。
７−置換−３−ヒドロキシアルキル置換Ｎ。
Ｓ含有複素環チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸類（２）は比較的不安定な化合物であり、処理中に分
解しやすいので、温和な条件下で反応を行ない、かつ単
離採取するのが望ましい。
酸類（２）は比較的不安定な化合物であり、処理中に分
解しやすいので、温和な条件下で反応を行ない、かつ単
離採取するのが望ましい。
この発明の方法によって得られる７−置換−３ヒドロキ
シアルキル置換Ｎ、Ｓ含有複素環チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸類（ＩＩＤはすべて新規化合物で
あり、酸およびペニシリナーゼに安定な抗菌性物質とし
て有用である。
シアルキル置換Ｎ、Ｓ含有複素環チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸類（ＩＩＤはすべて新規化合物で
あり、酸およびペニシリナーゼに安定な抗菌性物質とし
て有用である。
次にこの発明の方法を実施例により説明する。
実施例 １
７−（２−チェニルアセトアミド）セファロスポラン酸
２，４４９．５−（２−ヒドロキシエチル）−１、３、
４−チアジアゾール−２−チオール０．９７９および炭
酸水素ナトリウム１．０１９をｐＨ６，４の燐酸緩衝液
６０ｒＩＬｌに溶解し、６０°Ｃ〜６５°Ｃで７時間撹
拌する。
２，４４９．５−（２−ヒドロキシエチル）−１、３、
４−チアジアゾール−２−チオール０．９７９および炭
酸水素ナトリウム１．０１９をｐＨ６，４の燐酸緩衝液
６０ｒＩＬｌに溶解し、６０°Ｃ〜６５°Ｃで７時間撹
拌する。
反応終了後、反応液を酢酸エチル３０１ｒｔｌで３回洗
浄した後、水層を１０φ塩酸でｐＨ２に調節して、酢酸
エチルで抽出する。
浄した後、水層を１０φ塩酸でｐＨ２に調節して、酢酸
エチルで抽出する。
酢酸エチル抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去す
る。
、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧で留去す
る。
得られる残渣にエーテルを加えて粉末化した後、これを
濾取するとｍｐ８４〜８８°Ｃ（分解）の７−（２−チ
ェニルアセトアミド）３−（５−（２−ヒドロキシエチ
ル）−１，３゜４−チアジアゾール−２−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２．０３ｇを得る
。
濾取するとｍｐ８４〜８８°Ｃ（分解）の７−（２−チ
ェニルアセトアミド）３−（５−（２−ヒドロキシエチ
ル）−１，３゜４−チアジアゾール−２−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２．０３ｇを得る
。
赤外線吸収スペクトル（ヌジョール）
νｃｍ ’ ：１７７０，１７１０，１６６０核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ： ３
．１７ （２Ｈｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）３．５５〜４．
０５ （６Ｈｍ） ４．２０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝１３．５Ｈｚ
）４．５８ （ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝１３．５
Ｈｚ ）５．１０ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
５．６９ （ＩＨ，ｄ 、 ｄ 、 Ｊ＝５Ｈ
ｚ 。
共鳴吸収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ： ３
．１７ （２Ｈｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）３．５５〜４．
０５ （６Ｈｍ） ４．２０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝１３．５Ｈｚ
）４．５８ （ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝１３．５
Ｈｚ ）５．１０ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
５．６９ （ＩＨ，ｄ 、 ｄ 、 Ｊ＝５Ｈ
ｚ 。
８Ｈｚ）
６．８８〜７．０５ （２Ｈ，ｍ）
７．２８〜７．４３ （ＩＨ、ｍ）
９．１２ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ−８Ｈｚ ）実
施例 ２ ７−（（ＩＨ−テトラゾール−１−イル）アセトアミド
）セファロスポラン酸２，２９９．５−（２−ヒドロキ
シエチル）−１’、３．４−チアジアゾール−２−チオ
ール０．９７９および炭酸水素ナトリウム１．０１９を
ｐＨ６，４の燐酸緩衝液６０ｄに溶解し、６０℃〜６５
℃で７時間撹拌する。
施例 ２ ７−（（ＩＨ−テトラゾール−１−イル）アセトアミド
）セファロスポラン酸２，２９９．５−（２−ヒドロキ
シエチル）−１’、３．４−チアジアゾール−２−チオ
ール０．９７９および炭酸水素ナトリウム１．０１９を
ｐＨ６，４の燐酸緩衝液６０ｄに溶解し、６０℃〜６５
℃で７時間撹拌する。
反応液を酢酸エチルで１回洗浄した後、これをＸＡＤ４
Ａ相４〔ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ ａｎｄＨ
ａａｓ）社製〕１００ｒｒＬｌに吸着させ、水１．３４
で洗浄した後、メタノール８００ｒｒＬｌで溶出し、溶
出液を常法により処理すると、ｍｐ １１１〜１１６°
Ｃ（分解）の７−（ＬＨ−テトラゾール−１−イルアセ
トアミド−３−（５−（２−ヒドロキシエチル）−１，
３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸１．２９を得る。
Ａ相４〔ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ ａｎｄＨ
ａａｓ）社製〕１００ｒｒＬｌに吸着させ、水１．３４
で洗浄した後、メタノール８００ｒｒＬｌで溶出し、溶
出液を常法により処理すると、ｍｐ １１１〜１１６°
Ｃ（分解）の７−（ＬＨ−テトラゾール−１−イルアセ
トアミド−３−（５−（２−ヒドロキシエチル）−１，
３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸１．２９を得る。
赤外線吸収スペクトル（ヌジョール）
Ｌ／ｃｆｒＬ ’ ：１７６０．１６８５核磁気共鳴吸
収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ： ２．９２
（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）３．０〜３．
９ （４Ｈ，ｍ） ４２０〜４．６０ １２ ５．４２ ７１ ９．３６ ９．５５ （２Ｈ，ｍ） （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） （２Ｈ，５） （ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。
収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ： ２．９２
（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）３．０〜３．
９ （４Ｈ，ｍ） ４２０〜４．６０ １２ ５．４２ ７１ ９．３６ ９．５５ （２Ｈ，ｍ） （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ） （２Ｈ，５） （ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。
８Ｈｚ）
（ＩＨ，５）
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）
実施例 ３
７−（（２−チェニル）アセトアミド）セファロスポラ
ン酸４．０６ｇ、５−ヒドロキシメチル−１，３，４−
チアジアゾール−２−チオール１．４８９および炭酸水
素ナトリウム１．７６９をｐＨ６，４の燐酸緩衝液１０
０ｗＬｌに溶解し、６０°Ｃで７時間撹拌する。
ン酸４．０６ｇ、５−ヒドロキシメチル−１，３，４−
チアジアゾール−２−チオール１．４８９および炭酸水
素ナトリウム１．７６９をｐＨ６，４の燐酸緩衝液１０
０ｗＬｌに溶解し、６０°Ｃで７時間撹拌する。
反応液を酢酸エチルで洗浄し、水層を５饅塩酸でｐＨ２
に調節する。
に調節する。
これを酢酸エチルで抽出し塩化ナトリウム飽和水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去すると、ｍ９８４〜８７°Ｃ（分解）の７−（２−チ
ェニル）アセトアミド−３−（５−ヒドロキシメチル−
１゜３．４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸２．６９を得ろ。
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去すると、ｍ９８４〜８７°Ｃ（分解）の７−（２−チ
ェニル）アセトアミド−３−（５−ヒドロキシメチル−
１゜３．４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸２．６９を得ろ。
赤外線吸収スペクトル（ヌジョール）
νの 、 １７７０，１７１０，１６６５核磁気共鳴吸
収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐ ｐｍ： ３．７
０ （２Ｈｂｒｏａｄ ｓ）３．７８
（２Ｈ，ｓ） ４．２２ （ＬＨ，ｄ 、Ｊ−１３Ｈｚ ）４
．６０ （ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝ １３Ｈｚ ）４
．８３ （２Ｈｓ） ５．０９ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２）（ＩＨ，
ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。
収スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐ ｐｍ： ３．７
０ （２Ｈｂｒｏａｄ ｓ）３．７８
（２Ｈ，ｓ） ４．２２ （ＬＨ，ｄ 、Ｊ−１３Ｈｚ ）４
．６０ （ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝ １３Ｈｚ ）４
．８３ （２Ｈｓ） ５．０９ （ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２）（ＩＨ，
ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。
８Ｈｚ）
６．８５〜７．４２ （３Ｈ、ｍ）
９．１０ （ＬＨ，ｄ 、Ｊ＝８Ｈｚ ）実施
例 ４ ７−（（ＩＨ−テトラゾール−１−イル）アセトアミド
）セファロスポラン酸２．８８９．５−ヒドロキシメチ
ル−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール１．１
１９および炭酸水素ナトＩＪウム１．１３９をｐＨ６，
４の燐酸緩衝液７５ｒｒＬｌに溶解し、６０°Ｃで７時
間撹拌する。
例 ４ ７−（（ＩＨ−テトラゾール−１−イル）アセトアミド
）セファロスポラン酸２．８８９．５−ヒドロキシメチ
ル−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール１．１
１９および炭酸水素ナトＩＪウム１．１３９をｐＨ６，
４の燐酸緩衝液７５ｒｒＬｌに溶解し、６０°Ｃで７時
間撹拌する。
反応液を酢酸エチルで洗浄し、希塩酸でｐＨ５に調節す
る。
る。
これをＸＡＤ４ 型樹脂（ローム・アンド・ハース（Ｒ
ｏｈｍａｎｄ Ｈａａｓ）社製〕１００ｒｒＬｌに吸着
させ、水７００ａで洗浄した後、エタノール６００ｒＩ
′Ｌｌで溶出する。
ｏｈｍａｎｄ Ｈａａｓ）社製〕１００ｒｒＬｌに吸着
させ、水７００ａで洗浄した後、エタノール６００ｒＩ
′Ｌｌで溶出する。
このエタノール溶出液を減圧濃縮すると、ｍｐ１７９〜
１８７°Ｃ（分解）の７−（ＩＨ−テトラゾール−１−
イル）アセトアミド−３−（５−ヒドロキシメチル−１
，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸１．０８９を得る。
１８７°Ｃ（分解）の７−（ＩＨ−テトラゾール−１−
イル）アセトアミド−３−（５−ヒドロキシメチル−１
，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸１．０８９を得る。
赤外線吸収スペクトル（ヌジョール）
νｃｒｆＬ ’ ： １７５０．１６９０核磁気共鳴吸
収スペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ−Ｄ２０）δｐ ｐｍ
： ３．５２ （２Ｈ＋ ｂｒｏａｄ ｓ ）４．２２
（ＬＨ，ｄ 、Ｊ＝ １３Ｈｚ ）４．６０ （ＩＨ
，ｄ 、Ｊ＝１３Ｈｚ ）４．７７ （２Ｈ，ｓ ） ４．９８ （ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝５Ｈｚ ）５．３４（２
Ｈ，ｓ） ５．５７ （ＬＨ，ｄ 、Ｊ＝５Ｈｚ ）９．３０ （
ＩＨ，ｓ ） 実施例 ５ 炭酸水素ナトリウム０．８４９および５−ヒドロキシメ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２チオール０．７
４９を水４０ｗＬｌに溶解し、水浴上で加温する。
収スペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ−Ｄ２０）δｐ ｐｍ
： ３．５２ （２Ｈ＋ ｂｒｏａｄ ｓ ）４．２２
（ＬＨ，ｄ 、Ｊ＝ １３Ｈｚ ）４．６０ （ＩＨ
，ｄ 、Ｊ＝１３Ｈｚ ）４．７７ （２Ｈ，ｓ ） ４．９８ （ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝５Ｈｚ ）５．３４（２
Ｈ，ｓ） ５．５７ （ＬＨ，ｄ 、Ｊ＝５Ｈｚ ）９．３０ （
ＩＨ，ｓ ） 実施例 ５ 炭酸水素ナトリウム０．８４９および５−ヒドロキシメ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２チオール０．７
４９を水４０ｗＬｌに溶解し、水浴上で加温する。
内温が約４５℃になったときに、７−アミノセファロス
ポラン酸１．３６９を一度に加える。
ポラン酸１．３６９を一度に加える。
これを７０〜７３℃で１時間加熱攪拌する。反応終了後
、反応液を０〜５°Ｃに冷却し、■ｏ％塩酸でｐＨ５，
０とする。
、反応液を０〜５°Ｃに冷却し、■ｏ％塩酸でｐＨ５，
０とする。
析出する結晶を濾取すると、ｍｐ１９４〜１９９°Ｃ（
分解）の７−アミノ−３−（５−ヒドロキシメチル−１
，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸１．２０９を得る。
分解）の７−アミノ−３−（５−ヒドロキシメチル−１
，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸１．２０９を得る。
赤外線吸収スペクトル（ヌジョール）
να 、３２００，１８０５，１６２５
核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ２０＋ＤＣｅ ）δｐｐ
ｍ 二 ３．８５（２Ｈｓ） ４．３８ （ＬＨ、ｄ 、 Ｊ＝１４Ｈｚ ）４．７０
（ＩＨｄ 、 Ｊ＝１４Ｈｚ ）５．１２ （２Ｈ，
ｓ ） ５．２０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝５Ｈｚ ）５．３８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２） 実施例 ６ 上記と同様にして次の化合物を得た。
ｍ 二 ３．８５（２Ｈｓ） ４．３８ （ＬＨ、ｄ 、 Ｊ＝１４Ｈｚ ）４．７０
（ＩＨｄ 、 Ｊ＝１４Ｈｚ ）５．１２ （２Ｈ，
ｓ ） ５．２０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝５Ｈｚ ）５．３８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２） 実施例 ６ 上記と同様にして次の化合物を得た。
７−メチルチオアセトアミド−３−（５−ヒドロキシメ
チル−１，３，４−チアジアゾール−２イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ｍｐ１３４〜１３９
°Ｃ（分解） 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） νｃＩｒＬ ：３５００，３３００，１７８０，１７１
０゜６６０ 核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ２０＋ＮａＨＣ０３）δ
ｐｐｍ： ２．２０（３Ｈｓ） ３．３７（２ＨＳ） ３．４２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ） ３．８４（ＩＨｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ） ４．０８（ＩＨｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ） ４．５８ （ＩＨｄ 、 Ｊ＝１３Ｈｚ ）５．０．１
（２Ｈｓ） ５．１４（ＩＨｄｙＪ＝４−５Ｈｚ）
チル−１，３，４−チアジアゾール−２イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ｍｐ１３４〜１３９
°Ｃ（分解） 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） νｃＩｒＬ ：３５００，３３００，１７８０，１７１
０゜６６０ 核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ２０＋ＮａＨＣ０３）δ
ｐｐｍ： ２．２０（３Ｈｓ） ３．３７（２ＨＳ） ３．４２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ） ３．８４（ＩＨｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ） ４．０８（ＩＨｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ） ４．５８ （ＩＨｄ 、 Ｊ＝１３Ｈｚ ）５．０．１
（２Ｈｓ） ５．１４（ＩＨｄｙＪ＝４−５Ｈｚ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｒ１はアミノ基、チェニル（低級）アルカノイ
ルアミノ基、テトラゾリル（低級）アルカノイルアミノ
基または低級アルキルチオ（低級）アルカノイルアミノ
基、Ｘはアシルオキシ基をそれぞれ意味する） で示される化合物またはその塩類に一般式（式中、Ｒ２
はヒドロキシ（低級）アルキルで置換されたチアジアゾ
リル基を意味する） で示されるチオール類またはそのメルカプト基における
アルカリ金属置換体を作用させて一般式（式中、Ｒ１お
よびＲ２は前と同じ意味）で示される７−置換−３−ヒ
ドロキシアルキル置換複素環チオメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸類を得ることを特徴とする７−置換−
３−ヒドロキシアルキル置換複素環チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸類の製造法。
Priority Applications (21)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48073898A JPS5852997B2 (ja) | 1973-06-29 | 1973-06-29 | ７− チカン −３− ヒドロキシアルキルチカンフクソカンチオメチル −３− セフエム −４− カルボンサンルイノ セイゾウホウ |
| AR253054A AR207752A1 (es) | 1973-03-30 | 1974-01-01 | Procedimiento para obtener acidos 7-amino-sustituido-3-tiometilsustituido-3-cefem-4-carboxilicos |
| BE142549A BE812951A (fr) | 1973-03-30 | 1974-03-28 | Procedes de preparation de derives d'acide 7-substitue-3-thiomethyl heterocyclique a substitution amino-alkyle |
| AU67353/74A AU488708B2 (en) | 1974-03-29 | 7-substituted-3-aminoalkyl-acylaminoalkyl-or hydroxyalkyl-substituted heterocyclic thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and preparation thereof | |
| DE2415402A DE2415402C2 (de) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Cephalosporansäurederivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende pharmazeutische Mittel |
| CH963977A CH610903A5 (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Process for the preparation of cephalosporanic acid derivatives |
| NO741137A NO741137L (no) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Fremgangsmåte for fremstilling av substituerte tiometyl-3-cefem-4-karboksylsyrederivater |
| SE7404306A SE428297B (sv) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Forfarande for framstellning av cefalosporansyraderivat |
| ES74424770A ES424770A1 (es) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados delacido cefalosporanico. |
| FR7411408A FR2223002B1 (ja) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | |
| IE68574A IE39750B1 (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | 7-substituted-3-aminoalkyl-,acylaminoalkyl-,or hydroxyalkyl-substituted heterocyclic thiomethyl-3-cephem-4-carboxlicacid derivatives and preparation thereof |
| GB1414374A GB1461948A (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | 7-substituted-3-amino-alkyl-acylaminoalkyl-or hydroxyalkyl- substituted heterocyclic thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and preparation thereof |
| NZ173837A NZ173837A (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Cephalosporins with a substituted hetero cyclic-thiomethyl side-chain in the 3-position and pharmaceutical compositions |
| CH442874A CH595388A5 (ja) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | |
| NLAANVRAGE7404330,A NL180422C (nl) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Werkwijze voor het bereiden van geneesmiddelen met een antimicrobe-activiteit, alsmede werkwijze voor het bereiden van een cefalosporine-verbinding met een thiadiazolylthiomethyl- of tetrazolylthiomethyl-substituent op de 3-plaats. |
| CA196,411A CA1023345A (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | 7-substituted-3-substituted heterocyclic thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and their preparation |
| CH963877A CH610902A5 (en) | 1973-03-30 | 1974-03-29 | Process for the preparation of cephalosporanic acid derivatives |
| IT2251274A IT1064901B (it) | 1973-06-29 | 1974-05-09 | Derivati dell acido defalosporanico con attivita antibatterica procedimenti per prepararli e composizione che li contiene |
| SE7709582A SE432935B (sv) | 1973-03-30 | 1977-08-25 | Foreningar till anvendning som mellanprodukt for framstellning av cefalosporinderivat |
| NO80801402A NO801402L (no) | 1973-03-30 | 1980-05-12 | Cefalosporin-mellomprodukt for fremstilling av terapeutisk aktive cefalosporinderivater |
| FI802018A FI802018A7 (fi) | 1973-03-30 | 1980-06-24 | Kefalosporiinihappojohdannainen, joka on välituote valmistettaessa antibioottista 7-asyyliamino-3-tiometyyli-kekefem-4-karboksyyli- happojohdannaista. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48073898A JPS5852997B2 (ja) | 1973-06-29 | 1973-06-29 | ７− チカン −３− ヒドロキシアルキルチカンフクソカンチオメチル −３− セフエム −４− カルボンサンルイノ セイゾウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5024290A JPS5024290A (ja) | 1975-03-15 |
| JPS5852997B2 true JPS5852997B2 (ja) | 1983-11-26 |
Family
ID=13531469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48073898A Expired JPS5852997B2 (ja) | 1973-03-30 | 1973-06-29 | ７− チカン −３− ヒドロキシアルキルチカンフクソカンチオメチル −３− セフエム −４− カルボンサンルイノ セイゾウホウ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5852997B2 (ja) |
| IT (1) | IT1064901B (ja) |
-
1973
- 1973-06-29 JP JP48073898A patent/JPS5852997B2/ja not_active Expired
-
1974
- 1974-05-09 IT IT2251274A patent/IT1064901B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5024290A (ja) | 1975-03-15 |
| IT1064901B (it) | 1985-02-25 |
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