JPS5855459B2 - 半導体装置の試験方法 - Google Patents

半導体装置の試験方法

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JPS5855459B2
JPS5855459B2 JP10196878A JP10196878A JPS5855459B2 JP S5855459 B2 JPS5855459 B2 JP S5855459B2 JP 10196878 A JP10196878 A JP 10196878A JP 10196878 A JP10196878 A JP 10196878A JP S5855459 B2 JPS5855459 B2 JP S5855459B2
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JP
Japan
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semiconductor devices
moisture
steam pressure
test method
temperature
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JP10196878A
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JPS5527982A (en
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貞二郎 大槻
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体装置、特に、プラスチック封止された
半導体装置の品質・信頼性の評価方法のうち、耐湿性を
中心とした評価方法に関する。
従来、半導体装置の耐湿性を中心とした評価試験方法は
MI I、−8TD−202、MILSTD−883、
JIS等に定められている。
例えば85℃−85%RH環境に半導体装置を放置し、
湿気が侵入することによる電気的特性の変化を測定し、
耐湿性の判定をするという方法である。
この方法は、常温常湿等、実使用条件を加速した条件で
評価する方法であるが、判定を得るまでに、数百時間か
ら数千時間の期間が必要である。
この方法を更に加速した条件として、スチームプレッシ
ャ(またはプレッシャクツカー)による高温高湿試験が
よく知られている。
スチームプレッシャテストでは、数拾時間から、数百時
間で判定できるので非常に効率のよい試験方法である。
しかし、判定は主に電気的特性をスチームプレッシャの
ストレス印加後にテスタで測定して行うので半導体装置
(特にプラスチック封止タイプ)に水分が侵入していて
も、半導体チップの面に水分が到達していなげれば測定
値の変化として現われない場合がある。
本発明は、上記加速試験と、検出感度を高めるための方
法とを組み合せ、短時間に耐湿性を中心とした判定を行
う方法を提供するものである。
本発明は、スチームプレッシャを行い、その後続いて0
℃以下の低温雰囲気に放置する方法である。
スチームプレッシャは一般に121 ’CI 00%2
気圧の条件がよく用いられる。
低温は一40℃、又は−55℃に設定するのがよい。
こうすると、半導体装置、特にプラスチック封止タイプ
のものの内部にスチームプレッシャで加速されて湿気が
侵入し、その後低温にさらされるので、侵入した水分が
凍結し、体積膨張により、半導体装置に微小なりラック
を生じることになる。
その結果、半導体装置の電気的特性の劣化や変化が拡大
して検出されることになる。
また、クランクが生じていなくても水分の凍結現象によ
り、半導体装置の構造変化を起すので、電気的特性の変
化以外にも、内部のワイヤボンドの断線などを検出する
ことも可能である。
この発明は、半導体装置に湿気が侵入しやすいかどうか
の判定に使うものでもし、侵入しない場合には、特性面
では何ら変化を起さない。
スチームプレッシャは、前記条件であれば5〜10時間
程時間上く、また、後の低温放置も5〜10時間でよい
ので、非常に短時間に耐湿性を中心とした判定が出来る
ものである。
低温放置に代って、温度サイクルでも同様の効果を期待
できるが、この場合には、必ず0℃以下の低温サイクル
からスタートしなげればならない。
高温サイクルからスタートすると、スチームプレッシャ
で侵入した湿気が蒸発してしまう危険があるためである

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体装置の品質・信頼性の評価において、前処理
    として高温多湿のスチームプレッシャーテストをし、続
    いて0℃以下の低温放置または、0°C以下の低温サイ
    クルからスタートする温度サイクルを行うことを特徴と
    した半導体装置の試験方法。
JP10196878A 1978-08-21 1978-08-21 半導体装置の試験方法 Expired JPS5855459B2 (ja)

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JPS5527982A JPS5527982A (en) 1980-02-28
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CN110018296B (zh) * 2019-05-29 2024-04-26 河南理工大学 一种膨胀岩水化过程中自由膨胀体积测试装置及测试方法

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