JPS5855933A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
- Publication number
- JPS5855933A JPS5855933A JP56153614A JP15361481A JPS5855933A JP S5855933 A JPS5855933 A JP S5855933A JP 56153614 A JP56153614 A JP 56153614A JP 15361481 A JP15361481 A JP 15361481A JP S5855933 A JPS5855933 A JP S5855933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- line
- reduction
- wafer
- scale
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Variable Magnification In Projection-Type Copying Machines (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、縮小投影露光装置に係り、時に用途に応じて
任意に解Ｉ象度及び露光サイズ等を選択するのに好適な
縮小投影露光装置に関する。
任意に解Ｉ象度及び露光サイズ等を選択するのに好適な
縮小投影露光装置に関する。
従来の縮小投影露光装置は１第１図のように）水銀ラン
プ１１水駅スペクトルを分離するフィ１レター機溝２、
′コンデンサレンズ３、レティクル４、縮小レンズ５、
ウエーノ・６、ウエーノ・を移動するＸ−Ｙスデージ７
、ウエーノ・ｕ’ｔｉを最適焦点向に維持するも移動台
等より構成される。従って、ｌｌｌ’ｒ像度を維持する
ためには、第２図のようなスペクトル分布を有する水銀
ランプ１からの光を、フィルター機構２で単色光に分離
する必要があり、縮小レンズ５は、その水銀スペクトル
に対し、最適なレンズ設計がなされたものを用いている
。しかし、デバイスによっては、そのレンズでは解像度
が不充分なもの、又は、ウェー・・サイズを広くできな
いもの等があり、前者は異なる波長の水銀スベクトルと
し／ズを用いるか、縮小比のより小さいレンズを用いな
ければならない。又、大画面のイメージヤ等を露光する
場合は、逆に縮小比の小さいレンズを用いるか、画像合
成法によりパターンをつないでゆかなければならない。
プ１１水駅スペクトルを分離するフィ１レター機溝２、
′コンデンサレンズ３、レティクル４、縮小レンズ５、
ウエーノ・６、ウエーノ・を移動するＸ−Ｙスデージ７
、ウエーノ・ｕ’ｔｉを最適焦点向に維持するも移動台
等より構成される。従って、ｌｌｌ’ｒ像度を維持する
ためには、第２図のようなスペクトル分布を有する水銀
ランプ１からの光を、フィルター機構２で単色光に分離
する必要があり、縮小レンズ５は、その水銀スペクトル
に対し、最適なレンズ設計がなされたものを用いている
。しかし、デバイスによっては、そのレンズでは解像度
が不充分なもの、又は、ウェー・・サイズを広くできな
いもの等があり、前者は異なる波長の水銀スベクトルと
し／ズを用いるか、縮小比のより小さいレンズを用いな
ければならない。又、大画面のイメージヤ等を露光する
場合は、逆に縮小比の小さいレンズを用いるか、画像合
成法によりパターンをつないでゆかなければならない。
本発明の目的は、実装密度が高く、微細化する超ＬＳＩ
と、大画面を必要とするイメージヤのどちらに対しても
有効に使用されうる縮小投影露光装置を提供することで
あり、多様化するＩＣ製造プロレスに対応することが可
能である。
と、大画面を必要とするイメージヤのどちらに対しても
有効に使用されうる縮小投影露光装置を提供することで
あり、多様化するＩＣ製造プロレスに対応することが可
能である。
すなわち、解像度の異なるレンズ又は、縮小比の異なる
レンズ及びフィルターを複数個保有し、同一ターレット
上又は、同一スライド面上に設置し、解像度及びチップ
サイズに応じて、ターレットが回転又はスライド移動し
、任意のレンズ及びフィルタが選択できるようにしたも
のである。
レンズ及びフィルターを複数個保有し、同一ターレット
上又は、同一スライド面上に設置し、解像度及びチップ
サイズに応じて、ターレットが回転又はスライド移動し
、任意のレンズ及びフィルタが選択できるようにしたも
のである。
又、レンズの焦点位置の違いによるベストフォーカス位
置を前もって、チェックしておくことにより、レンズ交
換と同時にベストフォーカス位置の設定も可能となる。
置を前もって、チェックしておくことにより、レンズ交
換と同時にベストフォーカス位置の設定も可能となる。
以Ｆ１本尤明のｌ寿Ｆｍ ＋＋！ｌを第３〆ｊ及び第４
ｔノｊを用いて説明する。
ｔノｊを用いて説明する。
第３図は、回転円板８の上にレンズ５，９゜１０．１１
を設置し、回転中心軸を旋回させることにより、レンズ
５，９，１０．１１−選択できるようにしたものである
。通常は、ｇ紛の１０分の１縮小レンズ５を用いて１．
福光する力；よりｐｌ“１象度を上げる場合には、１線
のレンズ９に切替える。
を設置し、回転中心軸を旋回させることにより、レンズ
５，９，１０．１１−選択できるようにしたものである
。通常は、ｇ紛の１０分の１縮小レンズ５を用いて１．
福光する力；よりｐｌ“１象度を上げる場合には、１線
のレンズ９に切替える。
このとき光源側のフィルターもｇ線フイルター力・ら、
ｉ線フィルターに切替わるものとする。
ｉ線フィルターに切替わるものとする。
次に、ウェーハ上の画面を、ｌＯＸＬＯｍｍ以１−１大
きくしたい場合は、１線用又はｇ線用の、５分の１縮小
レンズ１０父は１１′ｆ：、ターレット中心に旋回し、
位置決めさせる。
きくしたい場合は、１線用又はｇ線用の、５分の１縮小
レンズ１０父は１１′ｆ：、ターレット中心に旋回し、
位置決めさせる。
又、レンズ選択に伴ない最適焦点ｌＩＩ］が異なるため
、前もって最適焦点面を測定しておき、選択と同時に、
自動焦点機構が作動し、１・話に最適焦点面が維持され
るものとする。
、前もって最適焦点面を測定しておき、選択と同時に、
自動焦点機構が作動し、１・話に最適焦点面が維持され
るものとする。
本発明によれば、今後、益々実装ｍｌ＆の高くなる超Ｌ
ＳＩと、大画面を要求するイメージヤとのどちらりこ対
しても有効に使用できる輸小投影露光装（〆ｔが提供て
きる。
ＳＩと、大画面を要求するイメージヤとのどちらりこ対
しても有効に使用できる輸小投影露光装（〆ｔが提供て
きる。
ｇｔ図は通’７Ｍの単一レンズによる細小投影庫光装置
の説明図、ｇ２図は水銀ランプのスペクトル分布とフィ
ルターの特性図、第３図は本発明に基づく複数レンズに
よる縮小投影露光装置の説明図、第４図は第３図のＡ
ＡＺ部説明図である。 １−水銀ランプ、２・・・フィルター、３・・・レンズ
、４・・・レティクル、訃・・レンズ、６・・・ウエー
ノへ ７・・・ステージ、８・・・ターレット、９・・
・ランプ、１０＄１ 口 ＃２目 −ｉそ良
の説明図、ｇ２図は水銀ランプのスペクトル分布とフィ
ルターの特性図、第３図は本発明に基づく複数レンズに
よる縮小投影露光装置の説明図、第４図は第３図のＡ
ＡＺ部説明図である。 １−水銀ランプ、２・・・フィルター、３・・・レンズ
、４・・・レティクル、訃・・レンズ、６・・・ウエー
ノへ ７・・・ステージ、８・・・ターレット、９・・
・ランプ、１０＄１ 口 ＃２目 −ｉそ良
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 レティクル原画面を照明する照明光源と、レティ
クル像をウェーハ上に縮小投影する縮小光学系と、ウェ
ーハ及びつ′エーハを移動するＸ−Ｙステージからなる
投影露光装置において、縮小投影レンズとして、水銀ス
ペクトル輝線に対応して収差補正された複数個のレンズ
又は、縮小比の異なる複数個のレンズを、同一ターレッ
ト面上又は、同一スライド面上に設置し、回転又は平行
移動することにより、縮小投影光学系の解像度又は縮小
比を変更・選択することのできることを特徴とする縮小
投影露光装置。 ２、特許請求の範囲第１項の縮小投影露光装置において
、レンズの選択と同時に、水銀スペクトルを選択するフ
ィルタ一様構を有することを特徴とする縮小投影露光装
置。 ３、特許請求の範囲第１項の縮小投影露光装置において
、レンズの選択と同時に、最適焦点面を選択する自動焦
点機構を有することを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56153614A JPS5855933A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56153614A JPS5855933A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855933A true JPS5855933A (ja) | 1983-04-02 |
Family
ID=15566331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56153614A Pending JPS5855933A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5855933A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60163437U (ja) * | 1984-02-28 | 1985-10-30 | ミノルタ株式会社 | 拡大投影装置 |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP56153614A patent/JPS5855933A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60163437U (ja) * | 1984-02-28 | 1985-10-30 | ミノルタ株式会社 | 拡大投影装置 |
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