JPS5857385U - レ−ザ照射装置 - Google Patents

レ−ザ照射装置

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JPS5857385U
JPS5857385U JP1981152841U JP15284181U JPS5857385U JP S5857385 U JPS5857385 U JP S5857385U JP 1981152841 U JP1981152841 U JP 1981152841U JP 15284181 U JP15284181 U JP 15284181U JP S5857385 U JPS5857385 U JP S5857385U
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JP
Japan
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laser
irradiation device
optical
laser irradiation
condensing
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憲 石川
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例を示す構成図、第′２図乃
至第４図はそれぞれこの考案の他の実施例を示す要部構
成図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・光ファイバ、訃・・調
整機構、６・・・照射用集レンズ、１５・・・入射用集
光レンズ。

Claims (5)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）レーザ発振器、この発振器から放出されるレーザ
    光を導＜光ファイバと、この光ファイバの入力端へ上記
    レーザ光を集光する集光光学系と、上記入力端へのレー
    ザ光入射角度を可変にする調整機構と、上記光ファイバ
    の出力端から出光したし°−ザ光を被加工物に集光照射
    せしめる照射機構とを備えることを特徴とするレーザ照
    射装置。
  2. （２）調整機構は焦点距離の異なる少なくとも二つ以上
    の光学系を有しそれらのうち短焦点光学系が光ファイバ
    の入力端側になる配置になりかつレーザ光路に上記光学
    系の一個を減じた数の光学系を配置せしめる機構になる
    ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載の
    レーザ照射装置。
  3. （３）′調整機構は集光光学系へのレーザ光の入光光路
    を変える機構になることを特徴とする実用新案登録請求
    の範囲第１項記載のレーザ照射装置。
  4. （４）　　調整機構は集光光学へのレーザ光の光束を可
    変にする機構になることを特徴とする実用新案登録請求
    の範囲第１項記載のレーザ照射装置。
  5. （５）　　調整機構が集光光学系を兼ねることを特徴と
    する実用新案登録請求の範囲第２項記載のレーザ照射装
    置。
JP1981152841U 1981-10-16 1981-10-16 レ−ザ照射装置 Granted JPS5857385U (ja)

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