JPS5857625A - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
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- JPS5857625A JPS5857625A JP56156688A JP15668881A JPS5857625A JP S5857625 A JPS5857625 A JP S5857625A JP 56156688 A JP56156688 A JP 56156688A JP 15668881 A JP15668881 A JP 15668881A JP S5857625 A JPS5857625 A JP S5857625A
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- Japan
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- plating layer
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- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスク等の磁
気記録体にかかる。
気記録体にかかる。
近１年、高密度磁気記録体として、磁性成膜がめつき法
により作製されためっき磁気ディスクが用いられ始めた
。磁性薄膜をめっき法により形成する場合、その磁気特
性と表面状態の均一性は下地基板の影響を強く受け、し
ばしば電磁変換特性の低下を招いている。
により作製されためっき磁気ディスクが用いられ始めた
。磁性薄膜をめっき法により形成する場合、その磁気特
性と表面状態の均一性は下地基板の影響を強く受け、し
ばしば電磁変換特性の低下を招いている。
この様な下地基板の影響を断ち切り磁気特性と表面均一
性の優れた磁性薄膜を得るために、磁性薄膜と下地研磨
面との間に中間層を設ける方法が用いられてきた。
性の優れた磁性薄膜を得るために、磁性薄膜と下地研磨
面との間に中間層を設ける方法が用いられてきた。
通常下地基板としては圧延後旋削加工されたアルミ合金
素板上にニッケル合金めっきを施し、更にこのニッケル
合金めっき層を研磨したものが用いられる。この上に形
成する中間層としては従来ニッケルーリンめっき膜が用
いられることが多く、これによって下地研磨面の鋭い研
磨軌跡凹凸が緩和されその上に形成される磁性薄膜の磁
気特性向上に寄与している。ところがニッケルーリンめ
っき膜は下地研磨面とほぼ同質のニッケル合金めっき膜
であるため、アルミ合金素板が受けた圧延、旋削等の加
工歪の影響を受は継ぎ、磁性めっき膜の表面均一性に影
響を及ぼず。即ち、圧延、旋削等の加工歪の大きい場合
に（Ｊ著しい−の低下を招くことになる。
素板上にニッケル合金めっきを施し、更にこのニッケル
合金めっき層を研磨したものが用いられる。この上に形
成する中間層としては従来ニッケルーリンめっき膜が用
いられることが多く、これによって下地研磨面の鋭い研
磨軌跡凹凸が緩和されその上に形成される磁性薄膜の磁
気特性向上に寄与している。ところがニッケルーリンめ
っき膜は下地研磨面とほぼ同質のニッケル合金めっき膜
であるため、アルミ合金素板が受けた圧延、旋削等の加
工歪の影響を受は継ぎ、磁性めっき膜の表面均一性に影
響を及ぼず。即ち、圧延、旋削等の加工歪の大きい場合
に（Ｊ著しい−の低下を招くことになる。
ところで上記の様な加工歪の影響を遮断する金属として
銅が知られている。ところが、これを中間層に適用した
場合、その上に形成される磁性薄膜の磁気特性の低下を
招くため出力が著しく減少するという問題を生じる。即
ち、現在のところ下地基板の影響を断ち切り高出力かつ
低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い出されていな
い。
銅が知られている。ところが、これを中間層に適用した
場合、その上に形成される磁性薄膜の磁気特性の低下を
招くため出力が著しく減少するという問題を生じる。即
ち、現在のところ下地基板の影響を断ち切り高出力かつ
低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い出されていな
い。
本発明の目的は、これらの問題点を改善して高出力かつ
低ノイズの高密度磁気記録体を提供する乙とにある。
低ノイズの高密度磁気記録体を提供する乙とにある。
本発明による磁気記録体は、非磁性基板と、こＤ基板を
被覆するニッケル合金めっき層と、このニッケル合金め
っき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めっき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めっき層の間に銅
めっき層を設けたことを特徴としており、磁性薄膜の磁
気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、低ノイズ
かつ高出力を達成できる０ 以下、本発明による磁気記録体の特長を比較例および実
施例により説明する。
被覆するニッケル合金めっき層と、このニッケル合金め
っき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めっき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めっき層の間に銅
めっき層を設けたことを特徴としており、磁性薄膜の磁
気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、低ノイズ
かつ高出力を達成できる０ 以下、本発明による磁気記録体の特長を比較例および実
施例により説明する。
比較例１゜
アルミ合金圧延板よりプレスにて打抜いたドーナツ状円
板を旋削加工により表面を平坦かつ平渭に仕上げアルミ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニセン社製、シー−マーＢＯ）を用いて膜ｔ
ｙ、３ｏμｍのニッケルーリンめっき膜を形成した。こ
の両面を機緘加工により鏡面研磨し、第１図に示される
ごとくノド磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に
無電解ニッケルーリンめっき液を用いで膜厚０３μｍの
ニッケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッ
キ浴にて膜厚０．０８μｍのコバルト合金めっき層３を
形成した。
板を旋削加工により表面を平坦かつ平渭に仕上げアルミ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニセン社製、シー−マーＢＯ）を用いて膜ｔ
ｙ、３ｏμｍのニッケルーリンめっき膜を形成した。こ
の両面を機緘加工により鏡面研磨し、第１図に示される
ごとくノド磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に
無電解ニッケルーリンめっき液を用いで膜厚０３μｍの
ニッケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッ
キ浴にて膜厚０．０８μｍのコバルト合金めっき層３を
形成した。
メ・ツキ浴
硫酸コバルト ００６ｍ０１７゜
硫酸ニッケル ０１０ ＃
次亜リン酸ナトリウム
０．２０ｚ
硫酸アンモニウム ０１Ｏｚ
マロン酸ナト１功ム ０．３０ ｍ０〜リンゴ酸ナト
リウム ０．４０ ｓ ｐＨ−９，２コハク
酸ナトリウム ０．５０ ｚ 浴温８０℃更
ｌここの上に膜厚０．１μｍの保護膜４を形成した。
リウム ０．４０ ｓ ｐＨ−９，２コハク
酸ナトリウム ０．５０ ｚ 浴温８０℃更
ｌここの上に膜厚０．１μｍの保護膜４を形成した。
こうして得られた磁気記録体を下記の条件で記録再生特
性の測定を行ったところ記録密度６３０ＦＲＰＭ（１６
，０ＯＯＦＲＰＩ）にて０．８ ｍ Ｖ ｐ ｐの再生
出方があったが、５ｏ−ｐ△ｒｒｎ３ は３６ｄＢであ
った。 この磁気記録体の磁気特性の測定を行ったとこ
ろＨｃ＝６１００ｅ であった。
性の測定を行ったところ記録密度６３０ＦＲＰＭ（１６
，０ＯＯＦＲＰＩ）にて０．８ ｍ Ｖ ｐ ｐの再生
出方があったが、５ｏ−ｐ△ｒｒｎ３ は３６ｄＢであ
った。 この磁気記録体の磁気特性の測定を行ったとこ
ろＨｃ＝６１００ｅ であった。
測定条件
ディスク回転数 ３．００ Ｏｒｐｍ使用 トラッ
ク 直径１２５．６節使用、ッ ト；トラック巾
１８５μｍ１ギヤツプ長１μｍ１ コイノｌ／Ｓ数１６
＋ １６ヘツド浮上量 ＝ ０２μｍ 記録電流：４０ｍＡｐ−Ｐ 比較例２− 比較例１．と同様の手順で磁気記録体を作製したが１５
本比較例では非磁性基板上にニッケルーリン合金めっき
層２のかわりに第２図に示されるとと ５− く下記のめっき液及びめっき条件にて膜厚０．１μｍの
銅めっき層５を形成した。
ク 直径１２５．６節使用、ッ ト；トラック巾
１８５μｍ１ギヤツプ長１μｍ１ コイノｌ／Ｓ数１６
＋ １６ヘツド浮上量 ＝ ０２μｍ 記録電流：４０ｍＡｐ−Ｐ 比較例２− 比較例１．と同様の手順で磁気記録体を作製したが１５
本比較例では非磁性基板上にニッケルーリン合金めっき
層２のかわりに第２図に示されるとと ５− く下記のめっき液及びめっき条件にて膜厚０．１μｍの
銅めっき層５を形成した。
めっき液
無電解銅めっき液キーーポジット、カッパーミックス３
２８Ｌ（シブレイ・ファーイースト社）めっき条件 温 度 ＝ ２０℃ めっき時間 二 ６分 こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ５ｏ−ｐ／Ｎ、□５は３
７ｄＢと向上していたが、出力は０．４５ｍＶｐ−ｐと
著しく減少していた。この磁気記録体の磁気特性の測定
を行ったところＨｃは３６０Ｑｅ に低下していた。
２８Ｌ（シブレイ・ファーイースト社）めっき条件 温 度 ＝ ２０℃ めっき時間 二 ６分 こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ５ｏ−ｐ／Ｎ、□５は３
７ｄＢと向上していたが、出力は０．４５ｍＶｐ−ｐと
著しく減少していた。この磁気記録体の磁気特性の測定
を行ったところＨｃは３６０Ｑｅ に低下していた。
実施例
比較例１と同機の手順で磁気記録体を作製したが、本実
施例では第３図に示されるごとく非磁性基板１上に膜厚
０１μｍの銅めっき層５と膜厚０．３μｍのニッケル合
金めっき層２を形成した後コバルト合金めっき層３を形
成した０ ６− こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ、８Ｏ−１）／ＮｒｍＳ
は３７ｄＢに改善され、出力も０．８ｍＶｐ−ｐ と比
較例と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性の測
定を行ったところＨｃが６０５０ｅ であり比較例１
の場合とほぼ同じ値を示した。
施例では第３図に示されるごとく非磁性基板１上に膜厚
０１μｍの銅めっき層５と膜厚０．３μｍのニッケル合
金めっき層２を形成した後コバルト合金めっき層３を形
成した０ ６− こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ、８Ｏ−１）／ＮｒｍＳ
は３７ｄＢに改善され、出力も０．８ｍＶｐ−ｐ と比
較例と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性の測
定を行ったところＨｃが６０５０ｅ であり比較例１
の場合とほぼ同じ値を示した。
以上、比較例及び実施例で示されたように本発明によれ
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
っき層と、このニッケル合金めっき層を被覆するコバル
ト合金めっき層と、このコバルト合金めっき層を被覆す
る保護膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間に銅めっき層を設けることによ
り、再生出力の低下を招くことなしに−の改善がはかれ
る。
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
っき層と、このニッケル合金めっき層を被覆するコバル
ト合金めっき層と、このコバルト合金めっき層を被覆す
る保護膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間に銅めっき層を設けることによ
り、再生出力の低下を招くことなしに−の改善がはかれ
る。
第１図、第２図及び第３図はそれぞれ比較例１゜比較例
２．及び実施例で用いた磁気記録体の断面図である。 ７− １ 非磁性基板 ２、 ニッケル合金めっき層 ３ コバルト台金めつき層 ４、保 護 膜 ５ 銅 めつき層
２．及び実施例で用いた磁気記録体の断面図である。 ７− １ 非磁性基板 ２、 ニッケル合金めっき層 ３ コバルト台金めつき層 ４、保 護 膜 ５ 銅 めつき層
Claims (1)
- 非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金めっき
層と、このニッケル合金めっき層を被覆するコバルト合
金めっき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコ
バルト合金層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体に
おいて、非磁性基板とニッケル合金めっき層間に銅めっ
き層を設けたことを特徴とする磁気記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156688A JPS5857625A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156688A JPS5857625A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857625A true JPS5857625A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=15633149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56156688A Pending JPS5857625A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857625A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS562441A (en) * | 1979-06-19 | 1981-01-12 | Honda Motor Co Ltd | Piston for internal combustion engine |
| EP1106362B1 (en) * | 1999-12-06 | 2007-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface treated fiber body, liquid container using fiber absorber and method for producing fiber absorber for use in liquid ejection |
-
1981
- 1981-10-01 JP JP56156688A patent/JPS5857625A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS562441A (en) * | 1979-06-19 | 1981-01-12 | Honda Motor Co Ltd | Piston for internal combustion engine |
| EP1106362B1 (en) * | 1999-12-06 | 2007-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface treated fiber body, liquid container using fiber absorber and method for producing fiber absorber for use in liquid ejection |
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