JPS6187221A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6187221A JPS6187221A JP20817384A JP20817384A JPS6187221A JP S6187221 A JPS6187221 A JP S6187221A JP 20817384 A JP20817384 A JP 20817384A JP 20817384 A JP20817384 A JP 20817384A JP S6187221 A JPS6187221 A JP S6187221A
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- nickel
- polishing
- magnetic
- etching
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスクの製造
方法に係り特に再生出力の低下防止ノイズの増大の防止
に好適な製造方法に関する。
方法に係り特に再生出力の低下防止ノイズの増大の防止
に好適な製造方法に関する。
最近磁気ディスクの高記録密度化を図るため連続薄膜媒
体を用いた磁気ディスクの開発が進。
体を用いた磁気ディスクの開発が進。
められている。
連続薄膜媒体の形成法には主としてめっき法とスパッタ
法が知られ、ている。
法が知られ、ている。
めっき法では非磁性物質、例えば圧延後切削加工された
アルミもしくはアルミ合金円板を基板とし、その上に下
地として例えばニッケルーリン合金めっき膜を厚さ５０
μｍ程度形成し、その表面を機械的な方法により研摩を
行ない、表面を平坦かつ平滑にする。ついでコバルト−
ニッチルーリン等の磁性媒体めっき膜を形成し、その上
に磁性媒体を被覆する保護膜を形成する。
アルミもしくはアルミ合金円板を基板とし、その上に下
地として例えばニッケルーリン合金めっき膜を厚さ５０
μｍ程度形成し、その表面を機械的な方法により研摩を
行ない、表面を平坦かつ平滑にする。ついでコバルト−
ニッチルーリン等の磁性媒体めっき膜を形成し、その上
に磁性媒体を被覆する保護膜を形成する。
ところが下地表面の機械的研摩法による加工変質層およ
び加工歪などが磁性媒体の結晶性および表面の均一性に
影響を及ぼし、再生出力を低下させ、ノイズを増加させ
る原因となっていた。
び加工歪などが磁性媒体の結晶性および表面の均一性に
影響を及ぼし、再生出力を低下させ、ノイズを増加させ
る原因となっていた。
この対策として、研摩等の機械加工を終了した平坦な下
地表面に、ニッケルーリン、金、白金等を０．１μｍ程
度の厚さにめっきし平坦な膜面を得ることにより、加工
変質層、加工歪の影響を遮断する方法が考案されている
。
地表面に、ニッケルーリン、金、白金等を０．１μｍ程
度の厚さにめっきし平坦な膜面を得ることにより、加工
変質層、加工歪の影響を遮断する方法が考案されている
。
しかし、この方法では、研摩を終了した下地表面に付着
している研摩粉などを除去洗浄し、研摩中に付着した油
分を除去するために脱脂し、さらに必要に応じて酸洗を
行なってからニッチルーリン、金、白金等のめっきをす
る必要があった。つまり、これらの処理を行なわないと
、下地とニッケルーリン、金、白金等との密着性が不十
分となり、これら金属膜の剥離、ふくれの原因となる。
している研摩粉などを除去洗浄し、研摩中に付着した油
分を除去するために脱脂し、さらに必要に応じて酸洗を
行なってからニッチルーリン、金、白金等のめっきをす
る必要があった。つまり、これらの処理を行なわないと
、下地とニッケルーリン、金、白金等との密着性が不十
分となり、これら金属膜の剥離、ふくれの原因となる。
また上記の処理が入るため、ディスク製造工程が長くな
ってしまった。
ってしまった。
本発明の目的はこれらの問題を改善し、短い工程で高い
再生出力が得られ、かつノイズの低い磁気記録体の製造
方法を提供することにある。
再生出力が得られ、かつノイズの低い磁気記録体の製造
方法を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明による磁気記録体の製造方法は、非磁性物質から
成る基体上に形成した下地の表面を機械的研摩で平坦化
し、平滑化した後、さらに電気化学的にエツチング（こ
の場合研摩も含む）するか、もしくは化学的にエツチン
グ（この場合研摩も含む）して加工変質層を除去してか
ら、磁性体層を形成することを特徴としている。
成る基体上に形成した下地の表面を機械的研摩で平坦化
し、平滑化した後、さらに電気化学的にエツチング（こ
の場合研摩も含む）するか、もしくは化学的にエツチン
グ（この場合研摩も含む）して加工変質層を除去してか
ら、磁性体層を形成することを特徴としている。
以下、実施例により本発明を詳述する。
実施例１
アルミ合金板をドーナツ状に打抜いた円板の両面を切削
加工により平坦かつ平滑に仕上げた。
加工により平坦かつ平滑に仕上げた。
つぎに脱脂、亜鉛置換を行なった後、無電解めっきによ
りニッケルーリン合金膜を約４０μｍの厚さに形成した
。ついで機械的な研摩を行ない、表面あらさをα０１μ
ｍ程度までに平滑かつ平坦に仕上げた後、過塩素酸（６
０％）５００＋ｄ、木酢＠７００ゴ、水２ＱＱｔｄから
成る電解研摩液を用い、電流密度３０ Ａ ／ ｄｍ２
、液温２５℃で加工変質層が除去できる程度に電解研摩
を行なった。そノ後、次の組成のめりき液を用いてコバ
ル） −ニッケルーリン磁性体をα０７μｍの厚さに形
成した。
りニッケルーリン合金膜を約４０μｍの厚さに形成した
。ついで機械的な研摩を行ない、表面あらさをα０１μ
ｍ程度までに平滑かつ平坦に仕上げた後、過塩素酸（６
０％）５００＋ｄ、木酢＠７００ゴ、水２ＱＱｔｄから
成る電解研摩液を用い、電流密度３０ Ａ ／ ｄｍ２
、液温２５℃で加工変質層が除去できる程度に電解研摩
を行なった。そノ後、次の組成のめりき液を用いてコバ
ル） −ニッケルーリン磁性体をα０７μｍの厚さに形
成した。
硫酸ニッケル ６０ ｔ／を
塩化ニッケル ５０ ｆｉｌ。
硫酸コバルト ３０９／を
次亜リン酸ナトリウム ５２／ｌ
ホウｒ１１ ５０ ｔ／ｌｐ Ｈ９，
Ｏ、液温８０℃である。さらにこの上に保。
Ｏ、液温８０℃である。さらにこの上に保。
護膜を形成した。
このようにして形成した磁気記録媒体を周速４６ｍ／Ｓ
、＠込電流４ｏｒｒＬＡ、ヘッドスペーシング０．２５
μｍで測定した結果、再生出力は、化学研摩を行なわな
い時０．４９ｍＶであったものがα９５１７’ＬＶに増
加した。またノイズは４．６μＶが３．９μＶに減少し
た。
、＠込電流４ｏｒｒＬＡ、ヘッドスペーシング０．２５
μｍで測定した結果、再生出力は、化学研摩を行なわな
い時０．４９ｍＶであったものがα９５１７’ＬＶに増
加した。またノイズは４．６μＶが３．９μＶに減少し
た。
実施例２
アルミ合金板をドーナツ状に打法いた円板の両面を切削
加工により平坦かっ平滑に仕上げた。
加工により平坦かっ平滑に仕上げた。
つぎに脱脂、亜鉛置換を行なった後、無電解めっきによ
りニッケルーリン合金膜を約４０μｍの厚さに形成した
。ついで機械的な研摩を行ない、表面あらさを０．０１
μｍ程度までに平滑かつ平坦に仕上げた後、硝酸１（ｌ
ｒＩｔｔ、！、ｌン酸１０ゴ、酢酸５０ゴから成る化学
研摩液を用い、液温８０℃で、３０秒間化学研摩を行な
りた。その後、次の組成のめっき液を泪いてコバルト−
ニッケルーリン磁性体をα０７μｍの厚さに形成した。
りニッケルーリン合金膜を約４０μｍの厚さに形成した
。ついで機械的な研摩を行ない、表面あらさを０．０１
μｍ程度までに平滑かつ平坦に仕上げた後、硝酸１（ｌ
ｒＩｔｔ、！、ｌン酸１０ゴ、酢酸５０ゴから成る化学
研摩液を用い、液温８０℃で、３０秒間化学研摩を行な
りた。その後、次の組成のめっき液を泪いてコバルト−
ニッケルーリン磁性体をα０７μｍの厚さに形成した。
硫酸ニッケル ６０ ？／を
塩化ニッケル ５０ ｆ／を
硫酸コバルト ５０９／を
次亜リン酸ナトリウム ５？／ｌ
ホウ酸 ５０ ？／を電流密度は３Ａ
／ム２、ｐＨ９，０，液温８０℃である。
／ム２、ｐＨ９，０，液温８０℃である。
さらにこの上に保護膜を形成した。
このようにして形成した磁気記録媒体を周速” ｍ／
Ｓ ％ 書込電流４０ ｒｎ Ａ ％ヘッドスペーシン
グ０．２５μｍで測定した結果、再生出力は、化学研摩
を行なわない時０．４９ｍＶであったものが０゜９５７
７ＬＶに増加した。またノイズは４．６μＶが５．９μ
Ｖに減少した。
Ｓ ％ 書込電流４０ ｒｎ Ａ ％ヘッドスペーシン
グ０．２５μｍで測定した結果、再生出力は、化学研摩
を行なわない時０．４９ｍＶであったものが０゜９５７
７ＬＶに増加した。またノイズは４．６μＶが５．９μ
Ｖに減少した。
本実施例では下地にニッケルーリン無電解めっき膜を、
磁性体にはニッケルーコバルトーリン電気めっき膜を用
いたが、下地、媒体ともにこれらの材料、形成方法に制
限されることはなく、例えば下地はニッケルースズ、銅
−スズ、銅であってもよく、磁性体もコバルト−リンで
あっても、スパッタ法で形成した酸化鉄であってもよい
。それに伴ない本発明による電気化学的エツチングもし
くは化学的エツチングに用いる液も下地表面を平滑にし
、かつ機械的研摩で生じた加工変質層、加工歪を除去で
きるものであればよい。
磁性体にはニッケルーコバルトーリン電気めっき膜を用
いたが、下地、媒体ともにこれらの材料、形成方法に制
限されることはなく、例えば下地はニッケルースズ、銅
−スズ、銅であってもよく、磁性体もコバルト−リンで
あっても、スパッタ法で形成した酸化鉄であってもよい
。それに伴ない本発明による電気化学的エツチングもし
くは化学的エツチングに用いる液も下地表面を平滑にし
、かつ機械的研摩で生じた加工変質層、加工歪を除去で
きるものであればよい。
以上詳述したように本発明によれば、下地表面の機械的
研摩により生じた加工変質層、加工歪をＮ気化学的もし
くは化学的な研摩、エツチングにより除去することによ
って、再生出力の低下ノイズの増大を防ぐことができた
。また、下地面にニッケルーリン、金などのめりき層を
形成する方法にくらべて磁気記録体の形成工程を短縮す
ることができた。また電気化学的もしくは化学的な研摩
、エツチングにより下地と磁性体との密着性が向上し、
後の熱処理工程等における磁性体のふくれ、剥れを防止
することもできた。
研摩により生じた加工変質層、加工歪をＮ気化学的もし
くは化学的な研摩、エツチングにより除去することによ
って、再生出力の低下ノイズの増大を防ぐことができた
。また、下地面にニッケルーリン、金などのめりき層を
形成する方法にくらべて磁気記録体の形成工程を短縮す
ることができた。また電気化学的もしくは化学的な研摩
、エツチングにより下地と磁性体との密着性が向上し、
後の熱処理工程等における磁性体のふくれ、剥れを防止
することもできた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性物質から成る基体上に形成した下地の表面を
機械的研摩で平坦化、平滑化し、さらにエッチングをし
た後に、このエッチング面上に磁性体を形成することを
特徴とする磁気記録体の製造方法。 ２、エッチングを電気化学的に行なうことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気記録体の製造方法。 ３、エッチングを化学的に行なうことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20817384A JPS6187221A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20817384A JPS6187221A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187221A true JPS6187221A (ja) | 1986-05-02 |
Family
ID=16551866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20817384A Pending JPS6187221A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6187221A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01294220A (ja) * | 1988-05-23 | 1989-11-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP20817384A patent/JPS6187221A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01294220A (ja) * | 1988-05-23 | 1989-11-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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